JP4817861B2 - パターン寸法測定方法及び寸法測定装置 - Google Patents
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Description
図1は、本発明の第1の実施形態に係わるパターン寸法測定装置を示す概略構成図である。
第1の実施形態では、前記図2に示すように複数の直線パターンが配置された例を示した。本発明はこれに限らず、図9に示すような矩形パターンに対して適用することも可能である。
なお、本発明は上述した各実施形態に限定されるものではない。実施形態では、パターン寸法測定装置に用いる顕微鏡として光学顕微鏡を用いているが、同様に原子間力顕微鏡や走査型電子顕微鏡など顕微鏡全般に適用することが可能である。ここで、走査型電子顕微鏡などを用いた場合は、ビーム走査によりマスクへのダメージが生じないように、ビームの加速電圧を低くしておけばよい。さらに、パターンの実際の寸法を測定するのは、必ずしも走査型電子顕微鏡に限るものではなく、パターン寸法測定装置に用いる光学顕微鏡等よりも測定精度が十分に高いものであればよい。
11…フォトマスク
12…ステージ
13…光源
14…コンデンサレンズ
15…対物レンズ
16…カメラ16
20…コンピュータ
21…記憶部
22…入力部
23…ステージ制御部
24…測定・検出部
25…補正部
26…出力部
31…スペースパターン(透過パターン)
32,33…ラインパターン(遮光パターン)
34…測定対象パターンの測定位置を含む直線
35…測定対象パターンのエッジ
41,42,43…検出位置
44,45…補正検出位置
Claims (5)
- 半導体露光用マスク上に形成されたパターンの寸法を顕微鏡にて測定するパターン寸法測定方法であって、
前記顕微鏡による遮光パターンの寸法測定値と前記顕微鏡による前記遮光パターンのエッジ検出位置のずれ量との関係、及び前記顕微鏡による透過パターンの寸法測定値と前記顕微鏡による前記透過パターンのエッジ検出位置のずれ量との関係を予め求めておく第1のステップと、
前記顕微鏡を用いて測定対象パターンの対向する2つのエッジ位置を検出すると共に、該エッジを境界とする各パターンの寸法をそれぞれ測定する第2のステップと、
前記第1のステップにより求められた関係と前記第2のステップにより得られた寸法測定値に基づいて、前記測定対象パターンの2つのエッジ検出位置をそれぞれ補正する第3のステップと、
前記第3のステップにて補正されたエッジ検出位置間の距離を前記測定対象パターンの寸法測定値として出力する第4のステップと、
を含むことを特徴とするパターン寸法測定方法。 - 前記第1のステップにおいて、前記遮光パターンの寸法測定値に対するエッジ検出位置のずれ量と、前記透過パターンの寸法測定値に対するエッジ検出位置のずれ量との和を、エッジ検出位置の補正量とする関係を求めておき、前記第3のステップにおいてこの関係を用いることを特徴とする請求項1記載のパターン寸法測定方法。
- 前記測定対象パターン或いは該測定対象パターンに隣接するパターンが、寸法測定すべき方向よりもこれと直交する方向の寸法が短い矩形パターンの場合、前記第2のステップにおいて、前記エッジを境界とする各パターンの寸法のうち前記矩形パターンであるパターンの寸法として、該パターンの長辺方向に代えて短辺方向の寸法を測定することを特徴とする請求項1記載のパターン測定方法。
- 前記顕微鏡として、光学顕微鏡を用いたことを特徴とする請求項1記載のパターン寸法測定方法。
- 半導体露光用マスク上に形成されたパターンを検出する顕微鏡と、
前記顕微鏡による遮光パターンの寸法測定値と前記顕微鏡による前記遮光パターンのエッジ検出位置のずれ量との関係、及び前記顕微鏡による透過パターンの寸法測定値と前記顕微鏡による前記透過パターンのエッジ検出位置のずれ量との関係が格納された記憶手段と、
前記顕微鏡の検出信号から測定対象パターンの対向する2つのエッジ位置を検出するエッジ検出手段と、
前記顕微鏡の検出信号から前記測定対象パターンのエッジを境界とする各パターンの寸法をそれぞれ測定する寸法測定手段と、
前記寸法測定手段により得られた寸法測定値と前記記憶手段に格納された関係に基づいて前記測定対象パターンの2つのエッジ検出位置をそれぞれ補正する補正手段と、
前記補正手段により補正されたエッジ検出位置間の距離を寸法測定値として出力する出力手段と、
を具備したことを特徴とするパターン寸法測定装置。
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