JP4810080B2 - マスター情報担体の製造方法、磁気記録媒体の製造方法、及び磁気記録再生装置の製造方法 - Google Patents
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Description
図1(a)〜図1(d)は実施の形態1に係るレジストパターンの形成方法を示す断面図である。図2は、レジスト膜の凸部(以下、「レジスト凸部」という。)や抜気用凹部とレジスト凹所との関係の一例を模式的に示す平面図である。図3は、レジスト凸部や抜気用凹部とレジスト凹所との関係の他の一例を模式的に示す平面図である。図2、3はレジスト凸部や抜気用凹部とフォトマスクパターンとの関係の一例を示したものであり、詳細は後に説明するように、本実施の形態はマスター情報担体等を製造する際のレジストパターンの形成に応用可能である。
実施の形態2は、実施の形態1に係るレジストパターンの形成方法を、マスター情報担体の製造方法に用いた実施の形態である。図6は、抜気用凹部形成後の基体の全体斜視図である。
以下、本発明の一実施例について説明する。基体上にレジスト厚約0.7μmのレジスト膜をスピンコート塗布し、90℃のホットプレートで1分間ソフトベークした後、レジスト膜表面の一部分にUV照射パワー10mW/cm2で2秒〜4秒露光し現像することによって段差量が約0.1〜0.5μmのレジストの凹凸を形成した。
実施の形態2は、マスター情報担体のパターン形成の例で説明したが、実施の形態3は、さらに別の例に係る実施の形態である。
2,50,60 レジスト膜
3,31 フォトマスク
4 UV光
5 反応性ガス
6 強磁性薄膜
21,53,73 レジスト凹所
32 フォトマスクパターン
33 マスター情報担体
37 着磁用ヘッド
41,49 磁気ディスク
42 スピンドル
43 スピンドルモータ
44 薄膜磁気ヘッド
45 サスペンション
46 アクチュエータアーム
47 アクチュエータ
48 制御回路
51,61,252 レジスト凸部
52,62,251 抜気用凹部
63 強磁性薄膜パターン
Claims (5)
- 非磁性基体の表面にレジスト膜を形成する工程と、
前記レジスト膜を露光・現像することにより、前記レジスト膜に凸部と抜気用凹部とを形成する工程と、
前記レジスト膜に、パターンが形成されたフォトマスクを重ねた状態で、前記抜気用凹部を介して真空引きすることにより、前記レジスト膜と前記フォトマスクとを密着させる工程と、
前記レジスト膜のうち、前記フォトマスクのパターンに対応した部分を露光・現像してレジスト凹所を形成し、前記レジスト凹所の底部に前記非磁性基体の表面を露出させる工程と、
前記レジスト膜の表面及び前記レジスト凹所に、強磁性薄膜を堆積する工程と、
前記レジスト膜を前記レジスト膜の表面に堆積した前記強磁性薄膜とともに除去して、前記非磁性基体の表面に強磁性薄膜パターンを形成する工程とを含み、
前記フォトマスクのパターンは、前記レジスト膜の前記凸部に対向する領域から前記レジスト膜の前記抜気用凹部に対向する領域へ至るように形成されており、
前記レジスト膜と前記フォトマスクとを密着させる工程において、前記フォトマスクのパターンが形成されている部分において前記レジスト膜の前記凸部と前記フォトマスクとの間に第1の隙間を形成し、前記抜気用凹部と前記フォトマスクとの間に第2の隙間を形成し、前記第1の隙間を形成する空間と前記第2の隙間を形成する空間とを気体の流通が可能なように連通させることを特徴とするマスター情報担体の製造方法。 - 非磁性基体の表面にレジスト膜を形成する工程と、
前記レジスト膜を露光・現像することにより、前記レジスト膜に凸部と抜気用凹部とを形成する工程と、
前記レジスト膜に、パターンが形成されたフォトマスクを重ねた状態で、前記抜気用凹部を介して真空引きすることにより、前記レジスト膜と前記フォトマスクとを密着させる工程と、
前記レジスト膜のうち、前記フォトマスクのパターンに対応した部分を露光・現像してレジスト凹所を形成し、前記レジスト凹所の底部に前記非磁性基体の表面を露出させる工程と、
前記レジスト膜をマスクにしてエッチングを行い、前記露出させた前記非磁性基体に基体凹所を形成する工程と、
前記レジスト膜の表面及び前記基体凹所の底部に強磁性薄膜を堆積して、前記基体凹所に前記強磁性薄膜を埋め込む工程と、
前記基体凹所に埋め込んだ前記強磁性薄膜を残しつつ、前記レジスト膜を前記レジスト膜表面に堆積した前記強磁性薄膜とともに除去して、前記非磁性基体に強磁性薄膜パターンを形成する工程とを含み、
前記フォトマスクのパターンは、前記レジスト膜の前記凸部に対向する領域から前記レジスト膜の前記抜気用凹部に対向する領域へ至るように形成されており、
前記レジスト膜と前記フォトマスクとを密着させる工程において、前記フォトマスクのパターンが形成されている部分において前記レジスト膜の前記凸部と前記フォトマスクとの間に第1の隙間を形成し、前記抜気用凹部と前記フォトマスクとの間に第2の隙間を形成し、前記第1の隙間を形成する空間と前記第2の隙間を形成する空間とを気体の流通が可能なように連通させることを特徴とするマスター情報担体の製造方法。 - 非磁性基体上に情報信号に対応する強磁性薄膜パターンが形成されたマスター情報担体を製造する工程と、前記マスター情報担体を磁気記録媒体の表面に対向配置した状態で外部磁界を印加し、前記強磁性薄膜パターンに対応する磁化情報を前記磁気記録媒体に記録する工程とを備えた磁気記録媒体の製造方法であって、
前記マスター情報担体を製造する工程は、前記強磁性薄膜パターンを形成するためのレジストパターンの形成工程を含んでおり、
前記レジストパターンの形成工程は、
非磁性基体上にレジスト膜を形成する工程と、
前記レジスト膜を露光・現像することにより、前記レジスト膜に凸部と抜気用凹部とを形成する工程と、
前記レジスト膜に、パターンが形成されたフォトマスクを重ねた状態で、前記抜気用凹部を介して真空引きすることにより、前記レジスト膜と前記フォトマスクとを密着させる工程と、
前記レジスト膜のうち、前記フォトマスクのパターンに対応した部分を露光する工程とを含み、
前記フォトマスクのパターンは、前記レジスト膜の前記凸部に対向する領域から前記抜気用凹部に対向する領域へ至るように形成されており、
前記レジスト膜と前記フォトマスクとを密着させる工程において、前記フォトマスクのパターンが形成されている部分において前記レジスト膜の前記凸部と前記フォトマスクとの間に第1の隙間を形成し、前記抜気用凹部と前記フォトマスクとの間に第2の隙間を形成し、前記第1の隙間を形成する空間と前記第2の隙間を形成する空間とを気体の流通が可能なように連通させることを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。 - 前記情報信号がトラッキングサーボに用いるための信号である請求項3に記載の磁気記録媒体の製造方法。
- 請求項3に記載の磁気記録媒体の製造方法を含む磁気記録再生装置の製造方法であって、前記強磁性薄膜の形状パターンに対応する磁化情報が記録された前記磁気記録媒体を回転部分に搭載する工程を備えた磁気記録再生装置の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004267278A JP4810080B2 (ja) | 2003-09-19 | 2004-09-14 | マスター情報担体の製造方法、磁気記録媒体の製造方法、及び磁気記録再生装置の製造方法 |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003328630 | 2003-09-19 | ||
JP2003328630 | 2003-09-19 | ||
JP2004267278A JP4810080B2 (ja) | 2003-09-19 | 2004-09-14 | マスター情報担体の製造方法、磁気記録媒体の製造方法、及び磁気記録再生装置の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2005115358A JP2005115358A (ja) | 2005-04-28 |
JP4810080B2 true JP4810080B2 (ja) | 2011-11-09 |
Family
ID=34554659
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2004267278A Expired - Fee Related JP4810080B2 (ja) | 2003-09-19 | 2004-09-14 | マスター情報担体の製造方法、磁気記録媒体の製造方法、及び磁気記録再生装置の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4810080B2 (ja) |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5796526A (en) * | 1980-12-09 | 1982-06-15 | Fujitsu Ltd | Method for forming fine resist pattern |
JPS61242023A (ja) * | 1985-04-19 | 1986-10-28 | Sanyo Electric Co Ltd | 微細パタ−ンの形成方法 |
JPH08297826A (ja) * | 1995-04-27 | 1996-11-12 | Sony Corp | 歪測定装置 |
JP3323743B2 (ja) * | 1996-07-22 | 2002-09-09 | 松下電器産業株式会社 | マスター情報担体および磁気記録媒体の製造方法 |
JP3383812B2 (ja) * | 2001-05-11 | 2003-03-10 | 松下電器産業株式会社 | レジストパターン形成方法およびマスター情報担体の製造方法 |
JP2006013278A (ja) * | 2004-06-29 | 2006-01-12 | Canon Inc | 近接場露光方法、近接場露光用マスクの作製方法、及び近接場露光用マスク |
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2004
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2005115358A (ja) | 2005-04-28 |
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