JP4797447B2 - 光学用被加工部材,光学部材,光学系及び光露光装置 - Google Patents
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[基準]
[実施例1]
[実施例2]
[実施例3]
[実施例4]
S サブグレインバウンダリー
E1 面方位が光軸方向と一致する領域
E2 サブグレインバウンダリーで囲まれた領域
α 相対ズレ角
O 光軸
Claims (8)
- 波長250nm以下の光を透過する等軸晶系に属するフッ化物単結晶であり、該フッ化物単結晶の光透過面にサブグレインバウンダリーを有し、前記フッ化物単結晶の面方位が光軸方向と一致、又は、略一致するように加工される光学用被加工部材であって、
前記サブグレインバウンダリーの単位面積当たりの長さの合計が、0.1cm/cm2以下であることを特徴とする光学用被加工部材。 - 波長250nm以下の光を透過する等軸晶系に属するフッ化物単結晶であり、該フッ化物単結晶の光透過面にサブグレインバウンダリーを有し、前記フッ化物単結晶の面方位が光軸方向と一致、又は、略一致するように加工される光学用被加工部材であって、
前記フッ化物単結晶の光透過面内の、面方位が前記光軸方向と一致する領域と、前記サブグレインバウンダリーで囲まれた領域との、それぞれの面方位の相対ズレ角が±5°以内であることを特徴とする光学用被加工部材。 - 波長250nm以下の光を透過する等軸晶系に属するフッ化物単結晶であり、該フッ化物単結晶の光透過面にサブグレインバウンダリーを有し、前記フッ化物単結晶の面方位が光軸方向と一致、又は、略一致するように加工される光学用被加工部材であって、
前記サブグレインバウンダリーの単位面積当たりの長さの合計が、0.1cm/cm2以下で、且つ、前記フッ化物単結晶の光透過面内の、面方位が前記光軸方向と一致する領域と、前記サブグレインバウンダリーで囲まれた領域との、それぞれの面方位の相対ズレ角が±5°以内であることを特徴とする光学用被加工部材。 - 請求項1乃至3の何れか一つに記載の光学用被加工部材はフッ化カルシウムのフッ化物単結晶であることを特徴とする光学用被加工部材。
- 請求項1乃至4の何れか一つに記載の光学用被加工部材の光透過面を曲面形状としたことを特徴とする光学部材。
- 請求項5に記載の光学部材の直径を150mm以上としたことを特徴とする光学部材。
- 請求項5又は6に記載の光学部材を所定枚数使用して構成されることを特徴とする光学系。
- 請求項7に記載の光学系を有することを特徴とする光露光装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005154787A JP4797447B2 (ja) | 2005-05-27 | 2005-05-27 | 光学用被加工部材,光学部材,光学系及び光露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005154787A JP4797447B2 (ja) | 2005-05-27 | 2005-05-27 | 光学用被加工部材,光学部材,光学系及び光露光装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
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JP2006330407A JP2006330407A (ja) | 2006-12-07 |
JP4797447B2 true JP4797447B2 (ja) | 2011-10-19 |
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Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP2005154787A Expired - Fee Related JP4797447B2 (ja) | 2005-05-27 | 2005-05-27 | 光学用被加工部材,光学部材,光学系及び光露光装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4797447B2 (ja) |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0797298A (ja) * | 1993-09-13 | 1995-04-11 | Sanyo Electric Co Ltd | 多元系酸化物単結晶の製造方法 |
JP4147595B2 (ja) * | 1997-03-25 | 2008-09-10 | 株式会社ニコン | 蛍石単結晶の製造方法 |
JP2002160999A (ja) * | 2000-11-20 | 2002-06-04 | Nikon Corp | 結晶成長方法,フッ化物結晶の成形方法,光学部材の成形方法及び結晶成長用種結晶 |
KR100908587B1 (ko) * | 2001-07-17 | 2009-07-22 | 가부시키가이샤 니콘 | 광학 부재의 제조 방법 |
JP3741208B2 (ja) * | 2001-11-29 | 2006-02-01 | 株式会社ニコン | 光リソグラフィー用光学部材及びその評価方法 |
JP2005035824A (ja) * | 2003-07-18 | 2005-02-10 | Nikon Corp | フッ化物結晶育成装置 |
-
2005
- 2005-05-27 JP JP2005154787A patent/JP4797447B2/ja not_active Expired - Fee Related
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Publication number | Publication date |
---|---|
JP2006330407A (ja) | 2006-12-07 |
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Date | Code | Title | Description |
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A621 | Written request for application examination |
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|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20101026 |
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A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20101217 |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20110705 |
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A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140812 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140812 Year of fee payment: 3 |
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R250 | Receipt of annual fees |
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R250 | Receipt of annual fees |
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