JP4796240B2 - 半導体ウエーハの研削方法 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、半導体ウエーハの研削方法、更に詳しくは半導体ウエーハの表面に保護テープを貼着し、該半導体ウエーハを該保護テープ側を下にして該チャックテーブル上に保持し、該チャックテーブル上に保持された該半導体ウエーハの裏面を研削する半導体ウエーハの研削方法及び研削方法に用いる紫外線照射装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
半導体デバイス製造工程においては、略円板形状である半導体ウエーハの表面に格子状に配列された多数の領域にIC、LSI等の回路を形成し、該回路が形成された各領域を所定のストリート(切断ライン)に沿ってダイシングすることにより個々の半導体素子を製造している。半導体素子の放熱性を良好にするためには、半導体素子の厚さをできるだけ薄く形成することが望ましい。また、半導体素子を多数用いる携帯電話、スマートカード、パソコン等の小型化を可能にするためにも、半導体素子の厚さをできるだけ薄く形成することが望ましい。そのため、半導体ウエーハを個々の半導体素子に分割する前に、その裏面を研削して所定の厚さに加工している。また、個々の半導体チップに分割される半導体素子の厚さをより薄く加工できる技術として、半導体ウエーハの裏面を研削する前に半導体ウエーハの表面に所定深さの切削溝を形成し、その後、切削溝が表出するまで半導体ウエーハの裏面を研削することにより個々の半導体素子に分割する所謂先ダイシングと称する加工方法も開発されている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】
上記研削に際しては、回路面を保護するために半導体ウエーハの表面には粘着テープからなる保護テープが貼着され、この保護テープ側を下にして半導体ウエーハを研削装置のチャックテーブル上に保持する。しかるに、半導体ウエーハの表面にバンプ(半田ボール)等の10μm以上の凹凸がある場合には、研削によって研削面にディンプル(窪み)が生じたり、半導体ウエーハ自体が割れるという問題がある。このような問題を解消するために、半導体ウエーハの表面に10μm以上のの凹凸がある場合には、紫外線を照射することによって硬化する粘着層を有する保護テープを使用し、凹凸を粘着層が包み込むような状態で保護テープに紫外線を照射して硬化させ、凹凸の影響を無くして研削を遂行する研削方法が行われている。しかしながら、この研削方法においては、保護テープの粘着層は紫外線照射で硬化することにより粘着力が低下し、半導体ウエーハが保護テープから剥がれ易くなって研削中に半導体ウエーハが飛散することがあるという新たな問題が発生している。
【0004】
また、上述した所謂先ダイシングと称する加工方法においては、半導体ウエーハの表面に形成されたストリート(切断ライン)に沿って予め所定深さの切削溝を形成しておき、その表面に紫外線を照射することによって硬化する粘着層を有する保護テープを貼着し、上記凹凸を粘着層が包み込むような状態で保護テープに紫外線を照射して硬化させた後に、研削を遂行している。しかしながら、この所謂先ダイシング加工方法においても、保護テープの粘着層は紫外線照射で硬化することにより粘着力が低下するため、特に半導体ウエーハの外周部に存在する端材チップが飛散して半導体ウエーハの内部に取り込まれ、研削砥石との間に挟まって半導体素子を破損することがあるという新たな問題が発生している。
【0005】
本発明は上記事実に鑑みてなされたものであり、その主たる技術課題は、表面に保護テープを貼着した半導体ウエーハの裏面を研削する際に、保護テープから半導体ウエーハや半導体ウエーハの外周部に存在する端材チップが剥離し飛散することを防止できる半導体ウエーハの研削方法及び研削方法に用いる紫外線照射装置を提供することにある。
【0006】
【課題を解決するための手段】
上記主たる技術課題を解決するために、本発明によれば、表面に10μm以上の凹凸がある半導体ウエーハの表面に保護テープを貼着し、該半導体ウエーハを該保護テープ側を下にして該チャックテーブル上に保持し、該チャックテーブル上に保持された該半導体ウエーハの裏面を研削する半導体ウエーハの研削方法であって、
紫外線を照射することによって硬化する粘着層を有する保護テープを該半導体ウエーハの全表面に貼着する保護テープ貼着工程と、
該半導体ウエーハに貼着された該保護テープの外周領域を残して該保護テープの中央領域に紫外線を照射する紫外線照射工程と、
該半導体ウエーハを紫外線照射された該保護テープ側を下にして該チャックテーブル上に保持し、該半導体ウエーハの表面を研削する研削工程と、を含み、
該紫外線照射工程では、該半導体ウエーハの外径より僅かに小さい相似形の開口部を備えている遮光板に半導体ウエーハを載置し、該遮光板に備えた位置合わせ部材に、該半導体ウエーハの結晶方位を示す切欠部と係合させて、半導体ウエーハを位置合わせすることができることを特徴とする半導体ウエーハの研削方法が提供される。
【0009】
【発明の実施の形態】
以下、本発明による半導体ウエーハの研削方法の好適な実施形態について、添付図面を参照して詳細に説明する。
【0010】
図1には本発明による半導体ウエーハの研削方法を実施するための研削装置1の斜視図が示されている。
図示の実施形態における研削装置1は、略直方体状の装置ハウジング2を具備している。装置ハウジング2の図1において右上端には、静止支持板4が立設されている。この静止支持板4の内側面には、上下方向に延びる2対の案内レール6、6および8、8が設けられている。一方の案内レール6、6には荒研削手段としての荒研削ユニット10が上下方向に移動可能に装着されており、他方の案内レール8、8には仕上げ研削手段としての仕上げ研削ユニット12が上下方向に移動可能に装着されている。
【0011】
荒研削ユニット10は、ユニットハウジング101と、該ユニットハウジング101の下端に回転自在に装着された研削ホイール102と、該ユニットハウジング101の上端に装着され研削ホイール102を矢印で示す方向に回転せしめられる回転駆動機構103と、ユニットハウジング101を装着した移動基台104とを具備している。移動基台104には被案内レール105、105が設けられており、この被案内レール105、105を上記静止支持板4に設けられた案内レール6、6に移動可能に嵌合することにより、荒研削ユニット10が上下方向に移動可能に支持される。図示の形態における荒研削ユニット10は、上記移動基台104を案内レール6、6に沿って移動させ研削ホイール102の切り込み深さを調整する送り機構11を具備している。送り機構11は、上記静止支持板4に案内レール6、6と平行に上下方向に配設され回転可能に支持された雄ねじロッド111と、該雄ねじロッド111を回転駆動するためのパルスモータ112と、上記移動基台104に装着され雄ねじロッド111と螺合する図示しない雌ねじブロックを具備しており、パルスモータ112によって雄ねじロッド111を正転および逆転駆動することにより、荒研削ユニット10を上下方向に移動せしめる。
【0012】
上記仕上げ研削ユニット12も荒研削ユニット10と同様に構成されており、ユニットハウジング121と、該ユニットハウジング121の下端に回転自在に装着された研削ホイール122と、該ユニットハウジング121の上端に装着され研削ホイール122を矢印で示す方向に回転せしめられる回転駆動機構123と、ユニットハウジング121を装着した移動基台124とを具備している。移動基台124には被案内レール125、125が設けられており、この被案内レール125、125を上記静止支持板4に設けられた案内レール8、8に移動可能に嵌合することにより、仕上げ研削ユニット12が上下方向に移動可能に支持される。図示の形態における仕上げ研削ユニット12は、上記移動基台124を案内レール8、8に沿って移動させ研削ホイール123の切り込み深さを調整する送り機構13を具備している。この送り機構13は、上記送り手段11と実質的に同じ構成である。即ち、送り機構13は、上記静止支持板4に案内レール6、6と平行に上下方向に配設され回転可能に支持された雄ねじロッド131と、該雄ねじロッド131を回転駆動するためのパルスモータ132と、上記移動基台124に装着され雄ねじロッド131と螺合する図示しない雌ねじブロックを具備しており、パルスモータ132によって雄ねじロッド131を正転および逆転駆動することにより、仕上げ研削ユニット12を上下方向に移動せしめる。
【0013】
図示の実施形態における研削装置1は、上記静止支持板4の前側において装置ハウジング2の上面と略面一となるように配設されたターンテーブル15を具備している。このターンテーブル15は、比較的大径の円盤状に形成されており、図示しない回転駆動機構によって矢印15aで示す方向に適宜回転せしめられる。ターンテーブル15には、図示の実施形態の場合それぞれ120度の位相角をもって3個のチャックテーブル20が水平面内で回転可能に配置されている。このチャックテーブル20は、上方が開放された円形状の凹部を備えた円盤状の基台21と、該基台21に形成された凹部に嵌合されるポーラスセラミック盤によって形成された吸着保持チャック22とからなっており、図示しない回転駆動機構によって矢印で示す方向に回転せしめられるように構成されている。なお、チャックテーブル20は図示しない吸引手段に接続されている。以上のように構成されたターンテーブル15に配設された3個のチャックテーブル20は、ターンテーブル15が適宜回転することにより被加工物搬入・搬出域A、荒研削加工域B、および仕上げ研削加工域Cおよび被加工物搬入・搬出域Aに順次移動せしめられる。
【0014】
図示の研削装置1における被加工物搬入・搬出域Aに対して一方側には、研削加工前の被加工物である半導体ウエーハをストックする研削前ウエーハ用カセット31が配設されている。この研削前ウエーハ用カセット31には、表面にテープTが貼着された半導体ウエーハWが収納される。ここで、半導体ウエーハWに貼着される保護テープTについて説明する。図2に示すように保護テープTは、紫外線を照射することによって硬化する粘着層を有するテープを半導体ウエーハWと同一の形状に切断して形成される。なお、紫外線を照射することによって硬化する粘着層を有するテープは、例えばリンテック株式会社製のE−8260/103C150を使用することができる。この保護テープTは、粘着層が形成された面を半導体ウエーハWの回路が形成されている表面全面に貼着する。このようにして、表面に保護テープTが貼着された半導体ウエーハWは、上記研削前ウエーハ用カセット31に収納される。
上記研削前ウエーハ用カセット31と被加工物搬入・搬出域Aとの間には、紫外線照射装置32が配設されている。この紫外線照射装置32については、後で詳細に説明する。
【0015】
図1に基づいて説明を続けると、研削装置1における上記被加工物搬入・搬出域Aに対して他方側には、研削加工後の該半導体ウエーハを洗浄するスピンナーテーブル330を有する洗浄手段33が配設されている。また、研削装置1における被加工物搬入・搬出域Aに対して他方側には、洗浄手段33によって洗浄された研削加工後の被加工物である半導体ウエーハWをストックする研削後ウエーハ用カセット34が配設されている。更に、図示の実施形態における研削装置1は、研削前ウエーハ用カセット31内に収納された被加工物である半導体ウエーハWを上記紫外線照射装置32の遮光板323上に搬出するとともに洗浄手段33で洗浄された半導体ウエーハWを研削後ウエーハ用カセット34に搬送する被加工物搬送手段35を備えている。また、図示の実施形態における研削装置は、上記紫外線照射装置32の遮光板323上に載置され後述するように保護テープTに紫外線が照射された半導体ウエーハWを被加工物搬入・搬出域Aに位置付けられたチャックテーブル20上に搬送する被加工物搬入手段36と、被加工物搬入・搬出域Aに位置付けられたチャックテーブル20上に載置されている研削加工後の半導体ウエーハWを洗浄手段33に搬送する被加工物搬出手段37を具備している。
【0016】
次に、上記紫外線照射装置32について、図3および図4を参照して説明する。
紫外線照射装置32は、上方が開口した略直方体状のランプハウジング321と、該ランプハウジング321内に配設された複数本の紫外線照射ランプ322と、ランプハウジング321の開口を覆う遮光板323とによって構成されている。遮光板323は、矩形状の板材からなり、その中央部に半導体ウエーハWの外径より僅かに小さい相似形の開口324を備えている。即ち、開口324は、円形部325と上記半導体ウエーハWの結晶方位を示す切欠部であるオリフラW1に対応する直線部326とからなっている。なお、開口324は、その外周が半導体ウエーハWの外周より0.5〜5.0mm程度内側に位置する相似形に形成されている。遮光板323の上面には、半導体ウエーハWの結晶方位を示すオリフラW1と係合する位置合わせ部材327が突出して設けられている。この位置合わせ部材327の開口324側に面する係合面は、上記オリフラW1と対応する開口324の外周より0.5〜5.0mm程度外側に位置して平面状に形成されている。また、遮光板323の上面には、開口324の円形部325の外周より外側に位置する2個の位置決め部材328、328が突出して配設されている。このように構成された紫外線照射装置32は、遮光板323の上面に半導体ウエーハWを保護テープT側を下にして載置し支持する。このとき、半導体ウエーハWを上記位置合わせ部327および2個の位置決め部材328、328に沿って位置付けることにより、半導体ウエーハWはその外周部領域が0.5〜5.0mmの幅をもって遮光板323における上記開口324の外側に載置される。
【0017】
次に、上記紫外線照射装置32を構成する遮光板の他の実施形態について、図5を参照して説明する。
図5に示す実施形態における遮光板323aは、半導体ウエーハWの結晶方位を示す切欠部がノッチW2の場合に適用するものである。遮光板323aも上記遮光板323と同様に、矩形状の板材からなり、その中央部に半導体ウエーハWの外径より僅かに小さい相似形の開口324aを備えている。即ち、開口324aは、円形部325aと上記半導体ウエーハWの結晶方位を示すをノッチW2に対応する三角形状の突出部326aとからなっている。なお、開口324aは、その外周が半導体ウエーハWの外周より0.5〜5.0mm程度内側に位置する相似形に形成されている。遮光板323aの上記三角形状の突出部326aの上面には、半導体ウエーハWの結晶方位を示すノッチW2と係合する三角形状の位置合わせ部材327aが突出して設けられている。三角形状の位置合わせ部材327aは、上記三角形状の突出部326aの周縁より0.5〜5.0mm程度外側に位置して設けられている。また、遮光板323aの上面には、開口324aの円形部325aの外周より外側に位置する2個の位置決め部材328a、328aが突出して配設されている。このように構成された紫外線照射装置32は、遮光板323aの上面に半導体ウエーハWを保護テープT側を下にして載置し支持する。このとき、半導体ウエーハWを上記位置合わせ部材327aおよび2個の位置決め部材328a、328aに沿って位置付け、位置合わせ部材327aとノッチW2を係合することにより、半導体ウエーハWはその外周部領域が0.5〜5.0mmの幅をもって遮光板323aにおける上記開口324aの外側に載置される。
【0018】
次に、上記紫外線照射装置32を構成する遮光板の更に他の実施形態について、図6および図7を参照して説明する。なお、図6および図7に示す遮光板323bにおいては、上記図5に示す遮光板323aにおける同一部には同一符号を付してその詳細な説明は省略する。
図6および図7に示す実施形態における遮光板323bは、半導体ウエーハWの結晶方位を示す切欠部がオリフラW1とノッチW2の双方に適用可能としたものである。即ち、遮光板323bは、上記図5に示す半導体ウエーハWの結晶方位を示す切欠部がノッチW2の場合に適用する遮光板323aに、半導体ウエーハWの結晶方位を示す切欠部がオリフラW1の場合に適用するように切り換える切り換え板40を装着したものである。切り換え板40は、遮光板323aの上記三角形状の位置合わせ部材327aが設けられている側の一方の縁片にヒンジ41、41をによって折り畳み可能に装着されている。切り換え板40には、図7に示すように折り畳んだ状態で上記三角形状の位置合わせ部材327aを嵌合する三角形状の逃げ穴401が形成されている。なお、逃げ穴401は、三角形状に限定されるものではなく、位置合わせ部材327aが嵌合できる大きさであればよい。また、切り換え板40には、遮光板323aとの合わせ面に図7に示すように折り畳んだ状態で半導体ウエーハWの結晶方位を示すオリフラW1と係合する位置合わせ部材42が突出して設けられている。この位置合わせ部材42は、オリフラW1と係合する係合面421が切り換え板40の他方の縁片より僅かに突出した位置に位置付けられている。
以上のように構成された遮光板323bは、半導体ウエーハWの結晶方位を示す切欠部がノッチW2である場合には図6で示すように切り換え板40を開いた状態で使用し、半導体ウエーハWの結晶方位を示す切欠部がオリフラW1である場合には図7に示すように切り換え板40を折り畳んだ状態で使用する。
【0019】
図示の実施形態における研削装置1は以上のように構成されており、以下その研削加工の作業手順について図1および図2を参照して説明する。
まず、上述したように半導体ウエーハWの回路が形成されている表面の全面に、紫外線を照射することによって硬化する粘着層を有する保護テープTを貼着する(保護テープ貼着工程)。この表面に保護テープTが貼着された半導体ウエーハWは、上記研削前ウエーハ用カセット31に収納される。研削前ウエーハ用カセット31に収容された研削加工前の被加工物である表面に保護テープTが貼着された半導体ウエーハWは、被加工物搬送手段36の上下動作および進退動作により搬送され、紫外線照射装置32の遮光板323上に上述したように保護テープT側を下にして載置される。このとき、半導体ウエーハWを上記位置合わせ部材325および2個の位置決め部材326、326に沿って位置付けることにより、半導体ウエーハWはその外周部が0.5〜5.0mmの幅をもって遮光板323における上記開口324の外側に載置される。このようにして、紫外線照射装置32の遮光板323上に半導体ウエーハWが保護テープT側を下にして載置されたら、紫外線照射ランプ322が点灯される。紫外線照射ランプ322の点灯により、半導体ウエーハWに貼着された保護テープTは、遮光板323上に載置された外周部領域を残して紫外線が照射される(紫外線照射工程)。この結果、保護テープTは、外周部領域以外の中央部領域の粘着層が半導体ウエーハWの表面に存在する凹凸を包み込むような状態で硬化するが、外周部領域の粘着層は粘着力が維持されている。
【0020】
上記のようにして半導体ウエーハWの表面に貼着された保護テープTの中央部領域が紫外線照射されたら、半導体ウエーハWは被加工物搬入手段36の旋回動作によって被加工物搬入・搬出域Aに位置付けられたチャックテーブル20上に載置される。チャックテーブル20上に研削前の半導体ウエーハWが載置されたならば、図示しない吸引手段を作動することにより、研削前の半導体ウエーハWを吸着保持チャック22上に吸引保持することができる。そして、ターンテーブル15を図示しない回転駆動機構によって矢印15aで示す方向に120度回動せしめて、研削前の半導体ウエーハWを載置したチャックテーブル20を荒研削加工域Bに位置付ける。
【0021】
研削前の半導体ウエーハWを載置したチャックテーブル20は荒研削加工域Bに位置付けられると図示しない回転駆動機構によって矢印で示す方向に回転せしめられ、一方、荒研削ユニット10の研削ホイール102が矢印で示す方向に回転せしめられつつ送り機構11によって所定量下降することにより、チャックテーブル20上の研削前半導体ウエーハWに荒研削加工が施される(研削工程)。なお、この間に被加工物搬入・搬出域Aに位置付けられた次のチャックテーブル20上には、上述したように半導体ウエーハWの表面に貼着された保護テープTの中央部領域が紫外線照射されている研削前の半導体ウエーハWが載置される。次に、ターンテーブル15を矢印15aで示す方向に120度回動せしめて、荒研削加工した半導体ウエーハWを載置したチャックテーブル20を仕上げ研削加工域Cに位置付ける。なお、このとき被加工物搬入・搬出域Aにおいて研削前の半導体ウエーハWが載置された次のチャックテーブル20は荒研削加工域Bに位置付けられ、次の次のチャックテーブル20が被加工物搬入・搬出域Aに位置付けられる。
【0022】
このようにして、荒研削加工域Bに位置付けられたチャックテーブル20上に載置された荒研削加工前の半導体ウエーハWには荒研削ユニット10によって荒研削加工が施され、仕上げ研削加工域Cに位置付けられたチャックテーブル20上に載置され荒研削加工された半導体ウエーハWには仕上げ研削ユニット12によって仕上げ研削加工が施される(研削工程)。
上述した荒研削加工および仕上げ研削加工において研削される半導体ウエーハWは、表面に貼着された保護テープTの中央部領域の粘着層が半導体ウエーハWの表面に存在する凹凸を包み込むような状態で硬化されているので、凹凸の影響を無くして研削される。また、上記保護テープTの外周部領域の粘着層は硬化されずに粘着力が維持されているので、半導体ウエーハの研削時に保護テープから半導体ウエーハや半導体ウエーハの外周部に存在する端材チップが剥離し飛散することを防止できる。
【0023】
上述したように仕上げ研削ユニット12によって半導体ウエーハWに仕上げ研削加工が実施されたならば、ターンテーブル15を矢印15aで示す方向に120度回動せしめて、仕上げ研削加工した研削後の半導体ウエーハWを載置したチャックテーブル20を被加工物搬入・搬出域Aに位置付ける。なお、荒研削加工域Bにおいて荒研削加工された半導体ウエーハWを載置したチャックテーブル20は仕上げ研削加工域Cに、被加工物搬入・搬出域Aにおいて研削前の半導体ウエーハWが載置されたチャックテーブル20は荒研削加工域Bにそれぞれ移動せしめられる。
【0024】
なお、荒研削加工域Bおよび仕上げ研削加工域Cを経由して被加工物搬入・搬出域Aに戻ったチャックテーブル20は、ここで仕上げ研削加工された半導体ウエーハWの吸着保持を解除する。そして、被加工物搬入・搬出域Aに位置付けられたチャックテーブル20上の仕上げ研削加工された半導体ウエーハWは、被加工物搬出手段37によって洗浄手段33に搬送される。洗浄手段33に搬送された半導体ウエーハWは、ここで洗浄された後、被加工物搬送手段35よって研削後ウエーハ用カセット34の所定位置に収納される。
【0025】
以上、本発明を図示の実施形態に基づいて説明したが、本発明は実施形態のみに限定されるものではない。例えば、実施形態においては、紫外線照射装置32を研削装置1に配設した例を示したが、紫外線照射装置32は研削装置1に組み込むことなく独立して設け、半導体ウエーハWを研削前ウエーハ用カセット31に収容する前に、半導体ウエーハWに貼着された保護テープTの外周部領域を残して中央部領域に紫外線を照射するようにしてもよい。
【0026】
【発明の効果】
本発明に係る半導体ウエーハの研削方法及び研削方法に用いる紫外線照射装置は以上のように構成されているで、次の作用効果を奏する。
【0027】
即ち、本発明によれば、半導体ウエーハの表面に貼着された保護テープの中央部領域の粘着層が半導体ウエーハの表面に存在する凹凸を包み込むような状態で硬化されているので、凹凸の影響を無くして半導体ウエーハの裏面を研削することができる。また、上記保護テープの外周部領域の粘着層は硬化されずに粘着力が維持されているので、半導体ウエーハの研削時に保護テープから半導体ウエーハや半導体ウエーハの外周部に存在する端材チップが剥離し飛散することを防止できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明による半導体ウエーハの研削方法を実施するための研削装置の斜視図。
【図2】本発明による研削方によって研削される半導体ウエーハおよび該半導体ウエーハの表面に貼着する保護テープを示す斜視図。
【図3】本発明による紫外線照射装置の分解斜視図。
【図4】本発明による紫外線照射装置の一実施形態および該紫外線照射装置によって紫外線照射される保護テープを貼着した半導体ウエーハの斜視図。
【図5】本発明による紫外線照射装置の他の実施形態および該紫外線照射装置によって紫外線照射される保護テープを貼着した半導体ウエーハの斜視図。
【図6】本発明による紫外線照射装置の更に他の実施形態および該紫外線照射装置によって紫外線照射される保護テープを貼着した半導体ウエーハの斜視図。
【図7】図6に示す紫外線照射装置の他の使用形態を示す斜視図。
【符号の説明】
1:研削装置
2:装置ハウジング
4:静止支持板4
6:案内レール
8:案内レール
10:荒研削ユニット
101:ユニットハウジング
102:研削ホイール
103:回転駆動機構
104:移動基台
105:被案内レール
11:送り機構
111:雄ねじロッド
112:パルスモータ
12:仕上げ研削ユニット
121:ユニットハウジング
122:研削ホイール
123:回転駆動機構
124:移動基台
125:被案内レール
13:送り機構
131:雄ねじロッド
132:パルスモータ
15:ターンテーブル
20:チャックテーブル
21:チャックテーブルの基台
22:チャックテーブルの吸着保持チャック
31:研削前ウエーハ用カセット
32:紫外線照射装置
321:ランプハウジング
322:紫外線照射ランプ
323:遮光板
324、324a:開口
327、327a:位置合わせ部材
328、328a:位置決め部材
33:洗浄手段
330:スピンナーテーブル
34:研削後ウエーハ用カセット
35:被加工物搬送手段
76:被加工物搬入手段
37:被加工物搬出手段
40:切り換え板
41:ヒンジ
42:位置合わせ部材
Claims (1)
- 表面に10μm以上の凹凸がある半導体ウエーハの表面に保護テープを貼着し、該半導体ウエーハを該保護テープ側を下にして該チャックテーブル上に保持し、該チャックテーブル上に保持された該半導体ウエーハの裏面を研削する半導体ウエーハの研削方法であって、
紫外線を照射することによって硬化する粘着層を有する保護テープを該半導体ウエーハの全表面に貼着する保護テープ貼着工程と、
該半導体ウエーハに貼着された該保護テープの外周領域を残して該保護テープの中央領域に紫外線を照射する紫外線照射工程と、
該半導体ウエーハを紫外線照射された該保護テープ側を下にして該チャックテーブル上に保持し、該半導体ウエーハの表面を研削する研削工程と、を含み、
該紫外線照射工程では、該半導体ウエーハの外径より僅かに小さい相似形の開口部を備えている遮光板に半導体ウエーハを載置し、該遮光板に備えた位置合わせ部材に、該半導体ウエーハの結晶方位を示す切欠部と係合させて、半導体ウエーハを位置合わせするようにした、ことを特徴とする半導体ウエーハの研削方法。
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