JP4792115B2 - 純銅板の製造方法及び純銅板 - Google Patents
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Description
このような範囲の冷却速度にて200℃以下の温度まで冷却すれば結晶粒の成長を停止して微細な結晶粒のものを得ることができる。200℃を超える温度で急冷を止めてしまうと、その後、その高温状態での放置によって徐々に結晶粒が成長するおそれがある。
そして、この急冷の後に冷間圧延、焼鈍処理することにより、結晶粒径もより微細化して、加工性がさらに向上する。冷間圧延時の圧延率が10%未満では、結晶粒径の微細化には寄与しない。圧延率が60%を超えると、硬さが増大して、かえって加工しにくくなる。その後の焼鈍は、250〜600℃で30分〜2時間処理すればよい。
結晶粒径が200μmを超える大きな結晶粒が混入すると、切削加工において表面に微細なムシレが生じ易い。このムシレが生じると、例えばスパッタリングターゲットとして使用する際に、スパッタ粒子の放出方向が揃わずにばらつきが生じ、またパーティクルの発生の原因となる。平均結晶粒径を10μm未満とするのは現実的でなく、製造コスト増を招く。また、ビッカース硬さを上記の範囲内とすることにより、鋸切断、切削加工、エンボス加工、冷間鍛造などにて使用時の所望の形状に加工時のムシレが少なくなり、スパッタリングターゲットとして使用した場合には、スパッタ粒子の方向性を均一にすることができる。
前述したように結晶粒が揃っていることにより、スパッタ粒子の放出方向が揃って均一で緻密な被膜を形成することができる。
この実施形態の純銅板は、銅の純度が99.96質量%以上の無酸素銅、又は99.99質量%以上の電子管用無酸素銅である。
平均結晶粒径は10〜80μmとされ、ビッカース硬さが40〜120とされる。
このヒストグラム曲線において、ピーク値をP、半値幅をLとすると、ピーク値Pが10〜80μmの範囲内で、総度数の60%以上の高い頻度で存在しており、その半値幅Lが60μm以下の狭い幅とされる。つまり、結晶粒径のヒストグラム曲線は、幅が狭く鋭利な山形に突出した形状となっており、結晶粒が均一に揃った状態で存在している。ピーク値が80μmを超えると、大きな結晶粒の存在により切削時のムシレが生じ易くなり、ピーク値を10μm未満とするのは製造技術的に困難で現実的でない。また、ピーク値の頻度が60%未満の場合はヒストグラム曲線がなだらかとなって、結晶粒径のばらつきが大きくなり、粗大結晶粒の存在によりムシレが生じ易くなるため好ましくない。半値値が60μmを超える場合も、粒径のばらつきが大きいことから、ムシレの問題が生じ易い。
まず、純銅のインゴットを550℃〜800℃に加熱し、これを複数回圧延ロールの間に往復走行させながら徐々に圧延ロール間のギャップを小さくして、所定の厚さまで圧延する。この複数回の圧延による総圧延率は80%以上とされ、圧延終了時の温度は500〜700℃とされる。その後、圧延終了時温度から200℃以下の温度になるまで200〜1000℃/minの冷却速度にて急冷する。その後、25〜60%の圧延率で冷間圧延し、250〜600℃で30分〜2時間加熱することにより焼鈍する。
このような範囲の冷却速度にて200℃以下の温度まで冷却すれば結晶粒の成長を停止して微細な結晶粒のものを得ることができる。200℃を超える温度で急冷を止めてしまうと、その後、その高温状態での放置によって徐々に結晶粒が成長するおそれがある。
焼鈍処理は、冷間圧延で硬化した材料を目的の硬さに調整するために行う。焼鈍温度は250〜600℃が好ましく、その加熱雰囲気で30分〜2時間処理すればよい。
電子管用無酸素銅(純度99.99質量%以上)の鋳造インゴットを用いた。圧延前の素材寸法は幅650mm×長さ900mm×厚さ290mmとし、熱間圧延及びその後の冷間圧延から焼鈍に至る各条件を表1に示すように複数組み合わせて純銅板を作製した。熱間圧延時の温度の測定は放射温度計を用い、圧延板の表面温度を測定することにより行った。
そこで、この比較例1以外の純銅板について、結晶粒径、ビッカース硬さ、切削時のムシレ状態を測定した。
<結晶粒径>
素材をエッチングした後、その表面を光学顕微鏡にて120倍の倍率で撮影し、その光学顕微鏡組織を画像ソフト「WinROOF」Ver.3.61(株式会社テックジャム製)を用い、2値化することにより結晶粒界を明瞭化し、約600個の結晶について各々の面積(結晶粒界で囲まれる部分の面積)を求めた。そして、結晶を円形として見なし、求めた面積に等価の円の直径(円相当径)を各々の結晶粒の結晶粒径とし、それらの平均値を求めた。同様の解析および測定を3視野で行い、それらの平均値を平均結晶粒径とした。また、得られた各結晶粒径のヒストグラムを求めた。
ビッカース硬さは、圧延方向(R.D.方向)に沿う縦断面(T.D.方向に見た面)に対して、JIS(Z2244)に規定される方法により測定した。
各試料を100×2000mmの平板とし、その表面をフライス盤で超硬刃先のバイトを用いて切込み深さ0.2mm、切削速度5000m/分で切削加工し、その切削表面の500μm四方の視野内において長さ100μm以上のムシレ疵が何個存在したかを調べた。
これらの結果を表2に示す。
また、本発明の純銅板は、スパッタリング用ターゲット以外にも、ターゲット用のバッキングプレートにも適用可能であり、その他、めっき用アノード、金型、放電電極、放熱板、ヒートシンク、モールド、水冷板、電極、電気用端子、ブスバー、ガスケット、フランジ、印刷版等にも適用することができる。
L 半値幅
W 切削痕
C ムシレ疵
Claims (3)
- 純度が99.96質量%以上である純銅のインゴットを、550℃〜800℃に加熱して、総圧延率が80%以上で圧延終了時温度が500〜700℃である熱間圧延加工を施した後に、前記圧延終了時温度から200℃以下の温度になるまで200〜1000℃/minの冷却速度にて急冷し、その後、25〜60%の圧延率で冷間圧延して焼鈍することを特徴とする純銅板の製造方法。
- 請求項1記載の製造方法によって製造された純銅板であって、平均結晶粒径が10〜80μmであり、ビッカース硬さが40〜120であり、結晶粒径のヒストグラムにおける、ピーク値が10〜80μmの範囲内で、総度数の60%以上の頻度で存在しており、その半値幅が60μm以下であり、表面をフライス盤で超硬刃先のバイトを用いて切込み深さ0.2mm、切削速度5000m/分で切削加工したときに、500μm四方の視野において長さ100μm以上のムシレ疵が2個以内であることを特徴とする純銅板。
- スパッタリング用ターゲットであることを特徴とする請求項2記載の純銅板。
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