JP4784240B2 - 光学フィルムの製造方法 - Google Patents
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Description
・・・(A)
但し、
Rth:厚み方向リターデーション(nm)(=((nx+ny)/2−nz)×d)
d:フィルムの厚さ(μm)
nxフィルムの製膜方向に平行な方向でのフィルムの屈折率
ny:フィルムの製膜方向に垂直な方向でのフィルムの屈折率
nz:フィルムの厚み方向での屈折率
θ:緩和工程の時間(秒)
T:緩和工程の温度(℃)
である。
また、請求項3に記載の発明は、請求項1または2に記載の製造方法において、セルロースエステルのアシル基の総置換度が2.40以上2.70以下であることを特徴とする。
(式中、Bはベンゼンモノカルボン酸残基、Gは炭素数2〜12のアルキレングリコール残基または炭素数6〜12のアリールグリコール残基または炭素数が4〜12のオキシアルキレングリコール残基、Aは炭素数4〜12のアルキレンジカルボン酸残基または炭素数6〜12のアリールジカルボン酸残基を表し、またnは1以上の整数を表す。)
一般式(I)中、Bで示されるベンゼンモノカルボン酸残基とGで示されるアルキレングリコール残基またはオキシアルキレングリコール残基またはアリールグリコール残基、Aで示されるアルキレンジカルボン酸残基またはアリールジカルボン酸残基とから構成されるものであり、通常のポリエステル系可塑剤と同様の反応により得られる。
ここで、厚み方向リターデーションは、次の式で定義される値である。
但し、
nxフィルムの製膜方向に平行な方向でのフィルムの屈折率
ny:フィルムの製膜方向に垂直な方向でのフィルムの屈折率
nz:フィルムの厚み方向での屈折率
である。
なお残存揮発分重量はフィルムを115℃で1時間加熱処理したとき、加熱処理前のフィルム重量から加熱処理後のフィルム重量を引いた値である。
・・・(A)
この条件式(A)を満足させることにより、フィルムFの残留応力を適度に緩和することができる。これにより、製造後の残留応力による寸法変動を小さく抑えることができる。
1 :ステンレス鋼製エンドレスベルト(支持体)
3 :剥離ロール
4 :テンター
5 :乾燥装置
6 :搬送ロール
8 :巻取ロール
Claims (4)
- セルロースエステルを主成分とする光学フィルムの製造方法であって、
ドープを支持体上に流延してフィルムを形成する流延工程と、
このフィルムを支持体から剥離する剥離工程と、
剥離されたフィルムを搬送方向に直交する幅手方向に延伸する延伸工程と、延伸後のフィルムを幅手方向に緩和する緩和工程とを含み、
以下の条件式を満たすことを特徴とする光学フィルムの製造方法。
3.35×10−4≦(Rth/d)×(1/θ)×(1/(273+T))≦1.47×10−3
但し、
Rth:厚み方向リターデーション(nm)(=((nx+ny)/2−nz)×d)
d:フィルムの厚さ(μm)
nxフィルムの製膜方向に平行な方向でのフィルムの屈折率
ny:フィルムの製膜方向に垂直な方向でのフィルムの屈折率
nz:フィルムの厚み方向での屈折率
θ:緩和工程の時間(秒)
T:緩和工程の温度(℃)
である。 - 以下の条件式を満たすことを特徴とする、請求項1に記載の光学フィルムの製造方法。
2.4≦Rth/d≦3.6。 - セルロースエステルのアシル基の総置換度が2.40以上2.70以下であることを特徴とする、請求項1または2に記載の光学フィルムの製造方法。
- セルロースエステルの炭素数3以上のアシル基の置換度が0を超えて1.1以下であることを特徴とする、請求項1乃至3のいずれか一項に記載の光学フィルムの製造方法。
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