JP4782404B2 - 蒸着マスク、有機led、及び有機ledの製造方法 - Google Patents
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- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 title claims description 134
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 6
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 104
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 claims description 21
- 238000005019 vapor deposition process Methods 0.000 claims description 10
- 238000000151 deposition Methods 0.000 claims description 8
- 238000009826 distribution Methods 0.000 claims description 8
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims description 5
- 239000003086 colorant Substances 0.000 claims description 5
- 230000008021 deposition Effects 0.000 claims description 5
- 238000005452 bending Methods 0.000 claims description 4
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 claims description 4
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 claims description 4
- 238000010025 steaming Methods 0.000 claims 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 12
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 9
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 7
- 238000000034 method Methods 0.000 description 5
- 239000000463 material Substances 0.000 description 4
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 229910001374 Invar Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910017709 Ni Co Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910003267 Ni-Co Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910003262 Ni‐Co Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000008602 contraction Effects 0.000 description 1
- 230000006378 damage Effects 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 230000005525 hole transport Effects 0.000 description 1
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 1
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 1
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 230000003014 reinforcing effect Effects 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 1
- 239000011364 vaporized material Substances 0.000 description 1
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 1
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
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- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
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- H10K71/166—Deposition of organic active material using physical vapour deposition [PVD], e.g. vacuum deposition or sputtering using selective deposition, e.g. using a mask
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- Manufacturing & Machinery (AREA)
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Description
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Claims (8)
- 基板上に形成される複数の有機発光素子に対応した貫通孔を備え、この基板に重ねられてこれらの有機発光素子の蒸着形成に用いられる板状の蒸着マスクにおいて、
基板と対向する面内に貫通孔の分布範囲に応じて広範囲に設けられ、基板上の対応する構造と嵌合し、基板と当該蒸着マスクとの面内方向の位置ずれを防止する嵌合部を備え、
前記嵌合部は、基板上の対応する構造に対し、近傍の基板と当該蒸着マスクとが非接触に保たれる距離で嵌合され、
前記嵌合部と前記基板上の対応する構造は、一方が先細の凸形状であり、他方が対応する先太の凹形状であり、斜めに形成された側面同士のみを当接させて嵌合され、
前記基板には、複数の有機発光素子を備えたパネルが距離をおいて複数個形成され、
前記蒸着マスクは、周囲に比べて柔軟に形成された可撓部であって当該蒸着マスクを複数に分割するようにパネル間に対応する位置に沿って配置され、周囲よりも弾性をもたせ、曲げ変形が容易となるように形成された構造を有する可撓部を備え、
前記嵌合部は、分割される各領域内にその貫通孔の分布に応じて広範囲に設けられ、各領域における基板と当該蒸着マスクとの面内方向の位置ずれを防止する、ことを特徴とする蒸着マスク。 - 請求項1に記載の蒸着マスクにおいて、
嵌合部の少なくとも一部は、全ての貫通孔を含む領域を取り囲んで配置され、その内側における基板と当該蒸着マスクとの面内方向の位置ずれを防止する、ことを特徴とする蒸着マスク。 - 請求項1に記載の蒸着マスクにおいて、
基板には、複数の有機発光素子を備えたパネルが距離をおいて複数個形成され、
嵌合部の少なくとも一部は、パネル間に対応する位置に設けられて少なくとも一つのパネルに対応する領域を取り囲み、その内側における基板と当該蒸着マスクとの面内方向の位置ずれを防止する、ことを特徴とする蒸着マスク。 - 請求項3に記載の蒸着マスクにおいて、
嵌合部の少なくとも一部は、各パネル間に対応する位置に設けられて各パネルに対応する領域を取り囲み、各パネルにおける基板と当該蒸着マスクとの面内方向の位置ずれを防止する、ことを特徴とする蒸着マスク。 - 請求項1に記載の蒸着マスクにおいて、
基板には、発光色の異なる複数の有機発光素子を組み合わせてなるピクセルが複数個形成され、
当該蒸着マスクは、ある発光色をもつ複数の有機発光素子に対応した貫通孔を備え、
嵌合部の少なくとも一部は、ピクセル間に対応する位置に設けられて少なくとも一つのピクセルに対応する領域を取り囲み、その内側における基板と当該蒸着マスクとの面内方向の位置ずれを防止する、ことを特徴とする蒸着マスク。 - 請求項5に記載の蒸着マスクにおいて、
嵌合部の少なくとも一部は、各ピクセル間に対応した位置に設けられて各ピクセルに対応する領域を取り囲み、各ピクセルにおける基板と当該蒸着マスクとの面内方向の位置ずれを防止する、ことを特徴とする蒸着マスク。 - 蒸着マスクを重ねられて蒸着処理を受け、基板上に複数の有機発光素子が形成された有機LEDであって、
蒸着マスクと対向する面内に有機発光素子の分布範囲に応じて広範囲に設けられ、蒸着マスクの対応する構造と嵌合し、蒸着マスクと当該基板との面内方向の位置ずれを防止する嵌合部を備え、
前記嵌合部は、基板上の対応する構造に対し、近傍の基板と当該蒸着マスクとが非接触に保たれる距離で嵌合され、
前記嵌合部と前記基板上の対応する構造は、一方が先細の凸形状であり、他方が対応する先太の凹形状であり、斜めに形成された側面同士のみを当接させて嵌合され、
前記基板には、複数の有機発光素子を備えたパネルが距離をおいて複数個形成され、
前記蒸着マスクは、周囲に比べて柔軟に形成された可撓部であって当該蒸着マスクを複数に分割するようにパネル間に対応する位置に沿って配置され、周囲よりも弾性をもたせ、曲げ変形が容易となるように形成された構造を有する可撓部を備え、
前記嵌合部は、分割される各領域内にその貫通孔の分布に応じて広範囲に設けられ、各領域における基板と当該蒸着マスクとの面内方向の位置ずれを防止する、ことを特徴とする蒸ことを特徴とする有機LED。 - 請求項1に記載の蒸着マスクを用いて有機LEDを製造する方法であって、
蒸着マスクの嵌合部を有機LEDの基板上の対応する構造に嵌合させ、蒸着マスクと基板とを重ね合わせる工程と、
重ね合わせた蒸着マスクと基板に対し蒸着処理を行って、基板上に有機発光素子を蒸着形成する工程と、
を含む、ことを特徴とする有機LEDの製造方法。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004310469A JP4782404B2 (ja) | 2004-10-26 | 2004-10-26 | 蒸着マスク、有機led、及び有機ledの製造方法 |
US11/244,979 US20060087226A1 (en) | 2004-10-26 | 2005-10-06 | Organic LED vapor deposition mask |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004310469A JP4782404B2 (ja) | 2004-10-26 | 2004-10-26 | 蒸着マスク、有機led、及び有機ledの製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2006127772A JP2006127772A (ja) | 2006-05-18 |
JP4782404B2 true JP4782404B2 (ja) | 2011-09-28 |
Family
ID=36205596
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2004310469A Active JP4782404B2 (ja) | 2004-10-26 | 2004-10-26 | 蒸着マスク、有機led、及び有機ledの製造方法 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20060087226A1 (ja) |
JP (1) | JP4782404B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
TWI618237B (zh) * | 2013-01-24 | 2018-03-11 | 用於oled顯示幕的像素結構及其金屬光罩板 |
Families Citing this family (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20070037848A (ko) * | 2005-10-04 | 2007-04-09 | 삼성전자주식회사 | 유기 발광 표시 장치 |
KR101266489B1 (ko) * | 2006-12-26 | 2013-05-23 | 삼성디스플레이 주식회사 | 쉐도우 마스크 장치 및 이를 이용한 유기 전계발광표시장치의 제조 방법 |
KR101108171B1 (ko) * | 2010-03-16 | 2012-01-31 | 삼성모바일디스플레이주식회사 | 평판 표시 장치 및 그 암점 보상방법 |
JP6060862B2 (ja) * | 2013-09-13 | 2017-01-18 | コニカミノルタ株式会社 | 蒸着用マスク、蒸着用マスクの製造方法及び有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法 |
JP2017150017A (ja) * | 2016-02-23 | 2017-08-31 | 株式会社ジャパンディスプレイ | 蒸着マスクの製造方法及び有機elディスプレイの製造方法 |
EP4231330A1 (en) | 2016-09-13 | 2023-08-23 | Lg Innotek Co., Ltd. | A deposition mask for manufacturing an organic light emitting diode (oled) panel |
CN106784373A (zh) * | 2016-12-27 | 2017-05-31 | 武汉华星光电技术有限公司 | Oled保护膜的封装结构及其封装方法 |
CN111788327A (zh) * | 2018-02-27 | 2020-10-16 | 夏普株式会社 | 成膜用掩模以及使用其之显示装置的制造方法 |
TWI718575B (zh) * | 2019-06-27 | 2021-02-11 | 旭暉應用材料股份有限公司 | 金屬遮罩 |
WO2022092846A1 (ko) * | 2020-10-30 | 2022-05-05 | 에이피에스홀딩스 주식회사 | 증착 마스크 스틱 중간체 |
WO2022092845A1 (ko) * | 2020-10-30 | 2022-05-05 | 에이피에스홀딩스 주식회사 | 증착 마스크 스틱 |
Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3887421A (en) * | 1973-01-22 | 1975-06-03 | Gen Motors Corp | Method of masking semiconductor wafers using a self-aligning mask |
JP2004214015A (ja) * | 2002-12-27 | 2004-07-29 | Tohoku Pioneer Corp | 蒸着マスク、蒸着方法、有機elパネルの製造方法および有機el表示パネル |
-
2004
- 2004-10-26 JP JP2004310469A patent/JP4782404B2/ja active Active
-
2005
- 2005-10-06 US US11/244,979 patent/US20060087226A1/en not_active Abandoned
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
TWI618237B (zh) * | 2013-01-24 | 2018-03-11 | 用於oled顯示幕的像素結構及其金屬光罩板 | |
USRE48229E1 (en) | 2013-01-24 | 2020-09-29 | Kunshan Visionox Display Co., Ltd. | Pixel structure for OLED display and metal mask thereof |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2006127772A (ja) | 2006-05-18 |
US20060087226A1 (en) | 2006-04-27 |
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Legal Events
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