JP4775573B2 - 耐磨耗性部材製造方法 - Google Patents
耐磨耗性部材製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4775573B2 JP4775573B2 JP2006225245A JP2006225245A JP4775573B2 JP 4775573 B2 JP4775573 B2 JP 4775573B2 JP 2006225245 A JP2006225245 A JP 2006225245A JP 2006225245 A JP2006225245 A JP 2006225245A JP 4775573 B2 JP4775573 B2 JP 4775573B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- film
- processed
- support
- protective film
- adhesive layer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Landscapes
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
Description
Claims (4)
- 高周波電源と接続されてアノード側或いはカソード側となる支持体上に形成された立位で配置される略平坦面に被処理物を保持させ、保護膜の原料ガスを主たるガスとして生成されたプラズマを用いて、該保持状態にある前記被処理物の所定面に保護膜を形成するプラズマCVD法を用いた耐磨耗性部材の製造方法であって、
前記被処理物の一面を、前記被処理物を保持可能な粘着力を有する粘着層を介して前記略平坦面に対して貼り付けて前記支持体による保持を為し、
前記被処理物は、前記粘着層の厚さ及び粘度を調整することにより規定される所定の容量を介して前記支持体と接続される回路を構成し、
前記粘着層は、前記被処理物において前記支持体と対向する面をマスキングすることを特徴とする耐磨耗性部材の製造方法。 - 前記所定面に対して前記保護膜を形成した後前記粘着層より前記被処理物を剥がし、前記粘着層を介して前記所定面を前記略平坦面に貼り付けて前記支持体による前記被処理物の保持を再度為し、前記被処理物の他の面に対する前記保護膜の形成を行うことを特徴とする請求項1に記載の耐磨耗性部材の製造方法。
- 高周波電源と接続されてアノード側或いはカソード側となる支持体上に形成された立位で配置される略平坦面に複数の被処理物を保持させ、保護膜の原料ガスを主たるガスとして生成されたプラズマを用いて、該保持状態にある前記被処理物の所定面に保護膜を形成するプラズマCVD法を用いた耐磨耗性部材の製造方法であって、
前記被処理物の一面を、前記被処理物を保持可能な粘着力を有する粘着層を介して前記略平坦面に対して貼り付けて前記支持体による保持を為し、
前記粘着層は導電性を有し、前記被処理物は前記導電性粘着層によって前記支持体との間の電気的接続を得、
前記複数の被処理物は前記粘着層によって各々高周波的に等しい電位とされ、
前記粘着層は、前記被処理物において前記支持体と対向する面をマスキングすることを特徴とする耐磨耗性部材の製造方法。 - 前記所定面に対して前記保護膜を形成した後前記粘着層より前記被処理物を剥がし、前記粘着層を介して前記所定面を前記略平坦面に貼り付けて前記支持体による前記被処理物の保持を再度為し、前記被処理物の他の面に対する前記保護膜の形成を行うことを特徴とする請求項3に記載の耐磨耗性部材の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006225245A JP4775573B2 (ja) | 2006-08-22 | 2006-08-22 | 耐磨耗性部材製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006225245A JP4775573B2 (ja) | 2006-08-22 | 2006-08-22 | 耐磨耗性部材製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2008050626A JP2008050626A (ja) | 2008-03-06 |
JP4775573B2 true JP4775573B2 (ja) | 2011-09-21 |
Family
ID=39234949
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006225245A Expired - Fee Related JP4775573B2 (ja) | 2006-08-22 | 2006-08-22 | 耐磨耗性部材製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4775573B2 (ja) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
RU2576406C2 (ru) | 2009-12-28 | 2016-03-10 | Тойо Тансо Ко., Лтд. | Покрытый карбидом тантала углеродный материал и способ его изготовления |
JP5720311B2 (ja) * | 2011-03-04 | 2015-05-20 | 富士電機株式会社 | Dlc膜の製造方法および製造装置 |
JP5717685B2 (ja) * | 2012-04-02 | 2015-05-13 | ユニ・チャーム株式会社 | 吸収性物品 |
CN111006006B (zh) * | 2019-12-26 | 2023-11-03 | 兰州空间技术物理研究所 | 一种镀覆超润滑固体薄膜的齿轮传动装置 |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH05106046A (ja) * | 1991-10-15 | 1993-04-27 | Fujitsu Ltd | 化学気相成長装置及びx線マスクの製造方法 |
JPH0616499A (ja) * | 1992-06-26 | 1994-01-25 | Nissan Motor Co Ltd | ダイヤモンド被覆部材 |
WO1995017541A1 (fr) * | 1993-12-22 | 1995-06-29 | Citizen Watch Co., Ltd. | Dents de peigne pour metier a tisser automatique a grande vitesse, et procede de fabrication |
JP3172384B2 (ja) * | 1994-12-22 | 2001-06-04 | 三洋電機株式会社 | 硬質炭素被膜形成装置及びこれを用いた被膜形成方法 |
JP2002075638A (ja) * | 2000-08-29 | 2002-03-15 | Nec Corp | マスク蒸着方法及び蒸着装置 |
JP4203594B2 (ja) * | 2003-03-31 | 2009-01-07 | 独立行政法人産業技術総合研究所 | 緻密なルテチウムシリケート高温耐水蒸気腐食層を有する窒化ケイ素セラミックス及びその製造方法 |
-
2006
- 2006-08-22 JP JP2006225245A patent/JP4775573B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2008050626A (ja) | 2008-03-06 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US7550055B2 (en) | Elastomer bonding of large area sputtering target | |
US8313665B2 (en) | Showerhead electrode assemblies for plasma processing apparatuses | |
EP1358363B1 (en) | Diamond coatings on reactor wall and method of manufacturing thereof | |
EP2383366B1 (en) | Method for producing diamond-like carbon membrane | |
TW514989B (en) | Carbonitride coated component of semiconductor processing equipment and method of manufacture thereof | |
US6265070B1 (en) | Electrostatic-erasing abrasion-proof coating and method for forming the same | |
JP4775573B2 (ja) | 耐磨耗性部材製造方法 | |
US20030087096A1 (en) | Carbon film coated member | |
KR102245762B1 (ko) | 홀더, 홀더를 갖는 캐리어, 및 기판을 고정시키기 위한 방법 | |
US20080062611A1 (en) | Electrostatic chuck device | |
TWI609450B (zh) | 用於基板之運送器及其之設備 | |
US11566322B2 (en) | Shadow mask with plasma resistant coating | |
JP2006080389A (ja) | ウェハ支持部材 | |
WO2015064019A1 (ja) | 導電性保護被膜を有する部材及びその製造方法 | |
JP2009035584A (ja) | 摺動部材 | |
EP1513191B1 (en) | Heating apparatus having electrostatic adsorption function | |
WO2015096855A1 (en) | Holding arrangement for substrates | |
JP2006066857A (ja) | 双極型静電チャック | |
US20030219601A1 (en) | Electrostatic-erasing abrasion-proof coating and method for forming the same | |
WO2002001611A2 (en) | Electrostatic chuck and method of fabricating the same | |
KR100777645B1 (ko) | 다이아몬드상 카본 코팅 장치 및 그 제조방법 | |
JPS62116767A (ja) | カ−ボン硬質膜を被覆した金属部材 | |
Gavrilov et al. | 4461799 Cutting tools with wear-resistant coating of heat-resistant compounds of high-melting metals and method for manufacturing same | |
Yamazaki | 4461783 Non-single-crystalline semiconductor layer on a substrate and method of making same | |
Seaman | 4461197 Methods of an apparatus for dispensing and positioning tape onto a surface |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20100519 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100524 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100720 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20101206 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20110203 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20110601 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20110614 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140708 Year of fee payment: 3 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |