JP2008050626A - 耐磨耗性部材製造方法及び該方法に供せられる支持体 - Google Patents
耐磨耗性部材製造方法及び該方法に供せられる支持体 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2008050626A JP2008050626A JP2006225245A JP2006225245A JP2008050626A JP 2008050626 A JP2008050626 A JP 2008050626A JP 2006225245 A JP2006225245 A JP 2006225245A JP 2006225245 A JP2006225245 A JP 2006225245A JP 2008050626 A JP2008050626 A JP 2008050626A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- film
- protective film
- support
- wear
- layer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Landscapes
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
【解決手段】支持体上の平坦面に被膜形成部材を保持して該部材の非保持面に保護膜を形成するプラズマCVD法において、前記平坦面による前記被膜形成部材の保持を、前記平坦面表面に形成された粘着層を用いて行うこととする。
【選択図】図1A
Description
Claims (5)
- 支持体上に形成された略平坦面に被処理物を保持させ、保護膜の原料ガスを主たるガスとして生成されたプラズマを用いて、該保持状態にある前記被処理物の所定面に保護膜を形成するプラズマCVD法を用いた耐磨耗性部材の製造方法であって、
前記被処理物の一面を、前記被処理物を保持可能な粘着力を有する粘着剤からなる層を介して前記略平坦面に対して貼り付けて前記支持体による保持を為すことを特徴とする耐磨耗性部材の製造方法。 - 前記被処理物、前記支持体及び前記粘着剤からなる層は導電性を有することを特徴とする請求項1に記載の耐磨耗性部材の製造方法。
- 前記所定面に対する保護膜を形成した後、前記粘着剤からなる層を介して前記保護膜を形成した面を前記略平坦面に対して貼り付けて前記被処理物の前記支持体による保持を為し、前記被処理物の前記一面に対する保護膜の形成を行うことを特徴とする請求項1に記載の耐磨耗性部材の製造方法。
- 略平坦面に被処理物を保持し、保護膜の原料ガスを主たるガスとして生成されたプラズマをもちいて、該保持状態にある前記被処理物の所定面に保護膜を形成するプラズマCVD法に用いられる支持体であって、
前記略平坦面を有し、前記略平坦面表面に前記被処理物を貼り付け保持可能な粘着力を有する粘着剤からなる層を有することを特徴とする支持体。 - 前記粘着剤からなる層は導電性を有する層であることを特徴とする請求項4に記載の支持体。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006225245A JP4775573B2 (ja) | 2006-08-22 | 2006-08-22 | 耐磨耗性部材製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006225245A JP4775573B2 (ja) | 2006-08-22 | 2006-08-22 | 耐磨耗性部材製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2008050626A true JP2008050626A (ja) | 2008-03-06 |
JP4775573B2 JP4775573B2 (ja) | 2011-09-21 |
Family
ID=39234949
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006225245A Expired - Fee Related JP4775573B2 (ja) | 2006-08-22 | 2006-08-22 | 耐磨耗性部材製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4775573B2 (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011153375A (ja) * | 2009-12-28 | 2011-08-11 | Toyo Tanso Kk | 炭化タンタル被覆炭素材料の製造方法 |
JP2012185877A (ja) * | 2011-03-04 | 2012-09-27 | Fuji Electric Co Ltd | Dlc膜の製造方法および製造装置 |
JP2013212282A (ja) * | 2012-04-02 | 2013-10-17 | Unicharm Corp | 吸収性物品 |
CN111006006A (zh) * | 2019-12-26 | 2020-04-14 | 兰州空间技术物理研究所 | 一种镀覆超润滑固体薄膜的齿轮传动装置 |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH05106046A (ja) * | 1991-10-15 | 1993-04-27 | Fujitsu Ltd | 化学気相成長装置及びx線マスクの製造方法 |
JPH0616499A (ja) * | 1992-06-26 | 1994-01-25 | Nissan Motor Co Ltd | ダイヤモンド被覆部材 |
WO1995017541A1 (fr) * | 1993-12-22 | 1995-06-29 | Citizen Watch Co., Ltd. | Dents de peigne pour metier a tisser automatique a grande vitesse, et procede de fabrication |
JPH08175898A (ja) * | 1994-12-22 | 1996-07-09 | Sanyo Electric Co Ltd | 硬質炭素被膜形成装置及びこれを用いた被膜形成方法 |
JP2002075638A (ja) * | 2000-08-29 | 2002-03-15 | Nec Corp | マスク蒸着方法及び蒸着装置 |
JP2004299946A (ja) * | 2003-03-31 | 2004-10-28 | National Institute Of Advanced Industrial & Technology | 緻密なルテチウムシリケート高温耐水蒸気腐食層を有する窒化ケイ素セラミックス及びその製造方法 |
-
2006
- 2006-08-22 JP JP2006225245A patent/JP4775573B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH05106046A (ja) * | 1991-10-15 | 1993-04-27 | Fujitsu Ltd | 化学気相成長装置及びx線マスクの製造方法 |
JPH0616499A (ja) * | 1992-06-26 | 1994-01-25 | Nissan Motor Co Ltd | ダイヤモンド被覆部材 |
WO1995017541A1 (fr) * | 1993-12-22 | 1995-06-29 | Citizen Watch Co., Ltd. | Dents de peigne pour metier a tisser automatique a grande vitesse, et procede de fabrication |
JPH08175898A (ja) * | 1994-12-22 | 1996-07-09 | Sanyo Electric Co Ltd | 硬質炭素被膜形成装置及びこれを用いた被膜形成方法 |
JP2002075638A (ja) * | 2000-08-29 | 2002-03-15 | Nec Corp | マスク蒸着方法及び蒸着装置 |
JP2004299946A (ja) * | 2003-03-31 | 2004-10-28 | National Institute Of Advanced Industrial & Technology | 緻密なルテチウムシリケート高温耐水蒸気腐食層を有する窒化ケイ素セラミックス及びその製造方法 |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011153375A (ja) * | 2009-12-28 | 2011-08-11 | Toyo Tanso Kk | 炭化タンタル被覆炭素材料の製造方法 |
US9322113B2 (en) | 2009-12-28 | 2016-04-26 | Toyo Tanso Co., Ltd. | Tantalum carbide-coated carbon material and manufacturing method for same |
JP2012185877A (ja) * | 2011-03-04 | 2012-09-27 | Fuji Electric Co Ltd | Dlc膜の製造方法および製造装置 |
JP2013212282A (ja) * | 2012-04-02 | 2013-10-17 | Unicharm Corp | 吸収性物品 |
CN111006006A (zh) * | 2019-12-26 | 2020-04-14 | 兰州空间技术物理研究所 | 一种镀覆超润滑固体薄膜的齿轮传动装置 |
CN111006006B (zh) * | 2019-12-26 | 2023-11-03 | 兰州空间技术物理研究所 | 一种镀覆超润滑固体薄膜的齿轮传动装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP4775573B2 (ja) | 2011-09-21 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US7550055B2 (en) | Elastomer bonding of large area sputtering target | |
US7862682B2 (en) | Showerhead electrode assemblies for plasma processing apparatuses | |
EP2383366B1 (en) | Method for producing diamond-like carbon membrane | |
EP1358363B1 (en) | Diamond coatings on reactor wall and method of manufacturing thereof | |
US6265070B1 (en) | Electrostatic-erasing abrasion-proof coating and method for forming the same | |
KR101800337B1 (ko) | 정전 척 장치 | |
US20030087096A1 (en) | Carbon film coated member | |
KR102245762B1 (ko) | 홀더, 홀더를 갖는 캐리어, 및 기판을 고정시키기 위한 방법 | |
JP4775573B2 (ja) | 耐磨耗性部材製造方法 | |
US20130098757A1 (en) | Sputtering deposition apparatus and adhesion preventing member | |
WO2004067799A1 (ja) | 半導体処理用の載置台装置、成膜装置、及び成膜方法 | |
TWI609450B (zh) | 用於基板之運送器及其之設備 | |
EP1001455A1 (en) | Apparatus for protecting a substrate support surface and method of fabricating same | |
US11566322B2 (en) | Shadow mask with plasma resistant coating | |
JP2009035584A (ja) | 摺動部材 | |
WO2015064019A1 (ja) | 導電性保護被膜を有する部材及びその製造方法 | |
US6949726B2 (en) | Heating apparatus having electrostatic adsorption function | |
JP6303024B2 (ja) | 真空プロセス下で基板を保持する保持アレンジメント、基板上に層を堆積する装置、及び保持アレンジメントを搬送する方法 | |
KR20160127368A (ko) | OLED 및 TFT-LCD Panel 제조용 접지 스트랩 | |
US6583481B2 (en) | Electrostatic-erasing abrasion-proof coating and method for forming the same | |
KR20180131631A (ko) | 논-섀도우 프레임 플라즈마 프로세싱 챔버 | |
KR101790394B1 (ko) | 박막 증착 장치용 내부재 및 이의 제조 방법 | |
JP2006066857A (ja) | 双極型静電チャック | |
WO2002001611A2 (en) | Electrostatic chuck and method of fabricating the same | |
KR100777645B1 (ko) | 다이아몬드상 카본 코팅 장치 및 그 제조방법 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20100519 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100524 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100720 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20101206 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20110203 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20110601 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20110614 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140708 Year of fee payment: 3 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |