JP4775299B2 - シンナー組成物および半導体装置等の製造方法 - Google Patents
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(1)2種のアルコールエーテルと2種のアルコールエステルを含有してなることを特徴とする環状オレフィン系重合体含有組成物除去用シンナー組成物。
(2)2種のアルコールエーテルがエチレングリコールのモノエーテルとプロピレングリコールのモノエーテルであり、2種のアルコールエステルがプロピレングリコールのモノエーテルエステルと一級アルコールエステルである(1)に記載のシンナー組成物。
(3)エチレングリコールのモノエーテルの含有量が組成物全体に対して40〜70重量%であり、プロピレングリコールのモノエーテルとプロピレングリコールのモノエーテルエステルとの合計含有量が組成物全体に対して20〜40重量%であり、及び一級アルコールエステルの含有量が組成物全体に対して10〜30重量%である、(2)に記載のシンナー組成物。
(4)プロピレングリコールのモノエーテルとプロピレングリコールのモノエーテルエステルとの重量比(プロピレングリコールのモノエーテル/プロピレングリコールのモノエーテルエステル)が、6/4〜8/2である(3)に記載のシンナー組成物。
(6)界面活性剤をさらに含有する(1)〜(5)いずれかに記載のシンナー組成物。
(7)前記界面活性剤が、シリコーン系界面活性剤及びフッ素系界面活性剤からなる群より選ばれる少なくとも1種である(6)に記載のシンナー組成物。
(8)(1)〜(7)のいずれかに記載のシンナー組成物を用いて、環状オレフィン系重合体含有組成物が付着した被洗浄物を洗浄する工程を有する半導体装置又は平面表示装置の製造方法。
本発明の製造方法によれば、半導体装置又は平面表示装置の製造工程を効率化して、それらの生産効率を向上させることができる。
本発明の環状オレフィン系重合体含有組成物除去用シンナー組成物(以下、「シンナー組成物」という。)は、2種のアルコールエーテルと2種のアルコールエステルを含有することを特徴とする。
本発明のシンナー組成物は、環状オレフィン系重合体含有組成物を除去(溶解除去)するための洗浄用組成物である。
本発明の対象とする環状オレフィン系重合体含有組成物において、環状オレフィン系重合体含有組成物中の環状オレフィン系重合体の含有量は、通常、1〜50重量%、好ましくは5〜20重量%である。
8−シアノテトラシクロ[4.4.0.12,5.17,10]ドデカ−3−エン、8−メチル−8−シアノテトラシクロ[4.4.0.12,5.17,10]ドデカ−3−エン、5−シアノビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン等のシアノ基を有する環状オレフィン;
8−クロロテトラシクロ[4.4.0.12,5.17,10]ドデカ−3−エン、8−メチル−8−クロロテトラシクロ[4.4.0.12,5.17,10]ドデカ−3−エン等のハロゲン原子を有する環状オレフィン;等が挙げられる。
これらの単量体は、それぞれ単独で、あるいは2種以上を組合せて用いることができる。
開環重合法や付加重合法に用いられる重合触媒としては、例えば、モリブデン、ルテニウム、オスミウム等の金属錯体が挙げられる。これらの重合触媒は、それぞれ単独で、あるいは2種以上を組合せて用いることができる。
また、極性基は、環状オレフィン単量体単位に結合していても、環状オレフィン単量体以外の単量体単位に結合していてもよい。
前記プロトン性極性基を有する環状オレフィン系重合体としては、式(I)
R'の置換基を有していてもよいアルキル基としては、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基等の直鎖又は分岐鎖の炭素数1〜7のアルキル基等が挙げられる。置換基を有していてもよい芳香族基としては、フェニル基、ベンジル基等の炭素数6〜10の芳香族基等が挙げられる。
プロトン性極性基としては、前記例示したのと同様の基が挙げられる。
ここで、感放射線性とは、紫外線や電子線等の放射線の照射により、化学反応が生じ得る性質をいう。
なお、上記例示した感放射線性樹脂組成物はポジ型であるが、ネガ型であってもよい。
本発明の対象とする環状オレフィン系重合体含有組成物は、公知の方法に従って調製することができる。
本発明のシンナー組成物は、2種のアルコールエーテルと2種のアルコールエステルを含有することを特徴とする。
2種のアルコールエーテルとしてはエチレングリコールのモノエーテルとプロピレングリコールのモノエーテルが好適であり、2種のアルコールエステルとしてはプロピレングリコールのモノエーテルエステルと一級アルコールエステルが好適である。
本発明のシンナー組成物に用いる、2−メトキシエタノール、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、及び酢酸n−ブチルは、市販品として入手可能である。
界面活性剤の含有量は、組成物全体に対して、通常、0.01〜10重量%である。
他の成分としては、特に制限されず、公知のシンナー組成物において有効成分として使用されているものが挙げられる。例えば、セロソルブ、酢酸セロソルブ、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、エチレングリコールジ−n−ブチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等のエーテル及びエーテルアセテート類;アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、2−ペンタノン、3−ペンタノン、2−ヘキサノン、シクロヘキサノン等のケトン類;ギ酸n−ブチル、ギ酸イソブチル、ギ酸n−ペンチル、乳酸メチル、乳酸エチル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸n−プロピル、酢酸n−ブチル、酢酸イソブチル、γ-ブチロラクトン等のエステル類;等が挙げられる。
本発明の半導体装置又は平面表示装置の製造方法は、本発明のシンナー組成物を用いて環状オレフィン系重合体含有組成物が付着した被洗浄物を洗浄する工程を有する。
平面表示装置としては、液晶表示装置や有機エレクトロルミネッセンス表示装置等が挙げられる。
前記絶縁基板の材質としては、特に限定はないが、例えば、ガラスやシリコンウエハー等が挙げられる。
被洗浄物を浸漬して洗浄する場合は、少なくとも洗浄を要する部分が浸かる程度にシンナー組成物を容器に入れ、その中に被洗浄物を漬ければよい。浸漬時間は、特に限定はないが、通常、1〜5分間である。
また、フォトレジスト噴射用スリットノズルを洗浄してフォトレジストの付着を解消することにより、半導体装置等の生産効率をさらに向上させることができる。
フォトレジストパターンの不良が発生した基板を洗浄してフォトレジストパターンを除去すれば、基板の再生使用が可能となる。
なお、本発明の半導体装置又は平面表示装置の製造方法において、本発明のシンナー組成物による被洗浄物の洗浄工程以外の工程については、当業者であれば、例えば、特開平6−324499号公報や特開2006−085140号公報等を参照して適宜実施することができる。
8−ヒドロキシカルボニルテトラシクロ[4.4.0.12,5.17,10]ドデカ−3−エン62.5部、N−フェニル−(5−ノルボルネン−2,3−ジカルボキシイミド)37.5部、1−ヘキセン1.3部、1,3−ジメチルイミダゾリジン−2−イリデン(トリシクロヘキシルホスフィン)ベンジリデンルテニウムジクロリド0.05部、及びテトラヒドロフラン400部を、窒素置換したガラス製耐圧反応器に仕込み、攪拌下、70℃にて2時間反応させて重合体溶液A(固形分濃度:約20%)を得た。
製造例1で得た環状オレフィン系重合体100部、架橋剤としてエポキシ化合物(ダイセル化学工業社製、商品名:EHPE3150)25部、感放射線化合物として1,1,3−トリス(2,5−ジメチル−4−ヒドロキシフェニル)−3−フェニルプロパン(1モル)と、1,2−ナフトキノンジアジド−5−スルホン酸クロリド(2.5モル)との縮合物25部、老化防止剤(チバ・スペシャリティーケミカルズ社製、商品名:イルガノックス1010)4部、接着助剤としてγ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン5部、並びに、シリコーン系界面活性剤(信越化学工業社製、商品名:KP341)0.05部を混合し、溶剤であるジエチレングリコールエチルメチルエーテル450部に溶解させた後、孔径0.45μmのポリテトラフルオロエチレン製フィルターでろ過して、環状オレフィン系重合体含有感放射線性樹脂組成物を得た。
(1)被洗浄物(汚染ガラス基板)の作製
ガラス基板(コーニング社製、1737材;100×100mm)上に、スピンナー(ミカサ社製)を用いて、製造例2で得た感放射線性樹脂組成物を塗布した後、ホットプレートで90℃、120秒間の乾燥処理を行い、触針式膜厚計(テンコール社製、P−10)で測定したときに2μmになるように成膜した。
下記第1表に示す配合量(重量%)で各成分を混合して、実施例1〜5、及び比較例1〜6のシンナー組成物を調製した。
前記(1)で作製した被洗浄物(汚染ガラス基板)を、上記(2)で得たシンナー組成物の各々に、23℃で、40秒間浸漬した。浸漬後、目視にて、被洗浄物に付着した感放射線性樹脂組成物の残渣を確認し、下記の評価基準に従ってシンナー組成物の溶解性を評価した。結果を下記第1表に示す。
A:残渣がなく溶解性に優れる
B:残渣が少量あり、溶解性にやや優れる
C:残渣があり、溶解性にやや劣る
D:溶けていない。溶解性に劣る
前記(1)で作製した被洗浄物(汚染ガラス基板)を、上記(2)で得たシンナー組成物の各々に、23℃で、40秒間浸漬した。浸漬後、1200rpnスピンドライを行い、完全に乾くのに要した時間を測定し、下記の評価基準に従ってシンナー組成物の乾燥性を評価した。結果を下記第1表に示す。
A:12秒未満
B:12秒〜14秒未満
C:14秒〜20秒未満
D:20秒以上
ME:2−メトキシエタノール
PGME:プロピレングリコールモノメチルエーテル
PGMEA:プロピレングリコールモノメチルアセテート
nBA:酢酸n−ブチル
MIBK:メチルイソブチルケトン
DMA:N,N−ジメチルアセタミド
比較例1、3のシンナー組成物は溶解性に優れるが、乾燥性に劣っていた。比較例2のシンナー組成物は乾燥性には優れるが、溶解性に劣っていた。比較例4〜6のシンナー組成物は、溶解性にも乾燥性にも優れるものはなかった。
Claims (7)
- エチレングリコールのモノエーテル及びプロピレングリコールのモノエーテルからなる2種のアルコールエーテルと
プロピレングリコールのモノエーテルエステル及び一級アルコールエステルからなる2種のアルコールエステルを含有してなることを特徴とする環状オレフィン系重合体含有組成物除去用シンナー組成物。 - エチレングリコールのモノエーテルの含有量が組成物全体に対して40〜70重量%であり、プロピレングリコールのモノエーテルとプロピレングリコールのモノエーテルエステルとの合計含有量が組成物全体に対して20〜40重量%であり、及び一級アルコールエステルの含有量が組成物全体に対して10〜30重量%である、請求項1に記載のシンナー組成物。
- プロピレングリコールのモノエーテルとプロピレングリコールのモノエーテルエステルとの重量比(プロピレングリコールのモノエーテル/プロピレングリコールのモノエーテルエステル)が、6/4〜8/2である請求項2に記載のシンナー組成物。
- エチレングリコールのモノエーテルが2−メトキシエタノールであり、プロピレングリコールのモノエーテルがプロピレングリコールモノメチルエーテルであり、プロピレングリコールのモノエーテルエステルがプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートであり、及び一級アルコールエステルが酢酸n−ブチルである、請求項1〜3のいずれかに記載のシンナー組成物。
- 界面活性剤をさらに含有する請求項1〜4のいずれかに記載のシンナー組成物。
- 前記界面活性剤が、シリコーン系界面活性剤及びフッ素系界面活性剤からなる群より選ばれる少なくとも1種である請求項5に記載のシンナー組成物。
- 請求項1〜6のいずれかに記載のシンナー組成物を用いて、環状オレフィン系重合体含有組成物が付着した被洗浄物を洗浄する工程を有する半導体装置又は平面表示装置の製造方法。
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