JP4763398B2 - Cutting equipment - Google Patents
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Description
本発明は、半導体ウエーハ等の被加工物を切削する切削装置に関する。 The present invention relates to a cutting apparatus for cutting a workpiece such as a semiconductor wafer.
例えば、半導体デバイス製造工程においては、略円板形状である半導体ウエーハの表面に格子状に形成されたストリートと呼ばれる分割予定ラインによって区画された多数の領域にIC、LSI等の回路を形成し、該回路が形成された各領域を分割予定ラインに沿って分割することにより個々の半導体チップを製造している。半導体ウエーハを分割する分割装置としては一般にダイシング装置としての切削装置が用いられている。この切削装置は、被加工物を保持するチャックテーブルと、該チャックテーブルに保持された被加工物に切削加工を施す切削手段と、チャックテーブルを切削送り方向に切削送りする切削ブレードを備えた切削送り手段と、切削手段をチャックテーブルの被加工物保持面に対して垂直な方向に切り込み送りする切り込み送り手段とを具備している。 For example, in the semiconductor device manufacturing process, circuits such as IC and LSI are formed in a number of regions partitioned by dividing lines called streets formed in a lattice shape on the surface of a semiconductor wafer having a substantially disk shape, Each semiconductor chip is manufactured by dividing each region in which the circuit is formed along a planned division line. As a dividing device for dividing a semiconductor wafer, a cutting device as a dicing device is generally used. This cutting apparatus includes a chuck table for holding a workpiece, a cutting means for cutting the workpiece held on the chuck table, and a cutting blade for cutting and feeding the chuck table in a cutting feed direction. A feeding means; and a cutting feed means for cutting and feeding the cutting means in a direction perpendicular to the workpiece holding surface of the chuck table.
このような切削装置において、切削効率を向上するために、チャックテーブルを2個備え、一方のチャックテーブルに保持された被加工物の切削作業を実施している間に他方のチャックテーブルに保持された被加工物のアライメント作業を実施し、切削手段を休止させることなく効率よく切削できる切削装置が提案されている。(例えば、特許文献1参照)。
上述した切削装置においては、切削手段をチャックテーブルの被加工物載置面に対して垂直な方向に切り込み送りする切り込み送り手段を備えている。しかるに、チャックテーブルに保持された被加工物を切削手段によって切削する際には切削ブレードによる切削加工部に切削水が供給されるため、切削ブレードの回転に起因して切削水が飛散せしめられる。この飛散した切削水が切り込み送り手段を汚染するという問題がある。 The above-described cutting apparatus includes a cutting feed unit that cuts and feeds the cutting unit in a direction perpendicular to the workpiece placement surface of the chuck table. However, when the workpiece held on the chuck table is cut by the cutting means, the cutting water is supplied to the cutting portion by the cutting blade, so that the cutting water is scattered due to the rotation of the cutting blade. There is a problem that the scattered cutting water contaminates the cutting and feeding means.
本発明は上記事実に鑑みてなされたものであり、その主たる技術課題は、切削手段による切削によって飛散する切削水が切り込み送り手段に付着しないようにした切削装置を提供することにある。 The present invention has been made in view of the above-described facts, and a main technical problem thereof is to provide a cutting apparatus in which cutting water scattered by cutting by the cutting means is prevented from adhering to the cutting feed means.
上記主たる技術課題を解決するため、本発明によれば、被加工物を保持する被加工物保持面を有するチャックテーブルと、該チャックテーブルに保持された被加工物に切削加工を施す切削手段と、該チャックテーブルを切削送り方向に切削送りする切削ブレードを備えた切削送り手段と、該切削手段を該チャックテーブルの該被加工物保持面に対して垂直な方向に切り込み送りする切り込み送り手段と、を具備する切削装置において、
該切削送り手段の周囲の雰囲気を吸引して排出する排気手段と、
該切削ブレードの回転に起因して飛散される切削水を該排気手段に導く飛散水案内手段と、を具備し、
該排気手段は、該チャックテーブルの切削送り方向下流側に配設され、該切り込み送り手段の側に側壁を有しこの側壁と該飛散水案内手段の上方との間に吸引開口を有したハウジングを備え、このハウジングの上部に吸引手段に接続された排気口を備えている、
ことを特徴とする切削装置が提供される。
In order to solve the above main technical problem, according to the present invention, a chuck table having a workpiece holding surface for holding a workpiece, and a cutting means for cutting the workpiece held on the chuck table; A cutting feed means having a cutting blade for cutting and feeding the chuck table in the cutting feed direction; and a cutting feed means for cutting and feeding the cutting means in a direction perpendicular to the workpiece holding surface of the chuck table; In a cutting apparatus comprising:
An exhaust means for sucking and discharging the atmosphere around the cutting feed means;
Spattered water guiding means for guiding cutting water scattered due to rotation of the cutting blade to the exhaust means ,
The exhaust means is disposed downstream of the chuck table in the cutting feed direction, and has a side wall on the cut feed means side and a suction opening between the side wall and the scattered water guide means. An exhaust port connected to the suction means at the top of the housing ,
A cutting device is provided.
また、上記切削手段は第1の切削手段と第2の切削手段とを具備し、第1の切削手段の切削ブレードと第2の切削手段の切削ブレードが互いに対向して配設され、該両切削ブレードは同方向に回転せしめられる。 Also, the cutting means comprises a first cutting means and the second cutting means, the cutting blade of the cutting blade and the second cutting means in the first cutting means are arranged to face each other, the Both cutting blades are rotated in the same direction.
本発明による切削装置によれば、切削ブレードの回転に起因して飛散される切削水を排気手段に導く飛散水案内手段を備えているので、切削ブレードの回転に起因して飛散される切削水が切り込み送り手段に付着することはなく、切り込み送り手段が飛散された切削水によって汚染されることはない。 According to the cutting device according to the present invention, the cutting water scattered due to the rotation of the cutting blade is provided with the scattered water guiding means for guiding the cutting water scattered due to the rotation of the cutting blade to the exhaust means. Does not adhere to the cutting feed means, and the cutting feed means is not contaminated by the scattered cutting water.
以下、本発明に従って構成された切削装置の好適な実施形態について、添付図面を参照して詳細に説明する。 Hereinafter, a preferred embodiment of a cutting device configured according to the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
図1には、本発明に従って構成された切削装置の一部を破断した斜視図が示されている。
図1に示された切削装置は、略直方体状の装置ハウジング2を具備している。この装置ハウジング2には、半導体ウエーハ等の被加工物を保持し矢印Xで示す切削送り方向に移動せしめるチャックテーブル機構3が配設されている。このチャックテーブル機構3について、図2を参照して説明する。
FIG. 1 is a perspective view in which a part of a cutting apparatus constructed according to the present invention is broken.
The cutting device shown in FIG. 1 includes a device housing 2 having a substantially rectangular parallelepiped shape. The apparatus housing 2 is provided with a chuck table mechanism 3 that holds a workpiece such as a semiconductor wafer and moves it in a cutting feed direction indicated by an arrow X. The chuck table mechanism 3 will be described with reference to FIG.
図示の実施形態におけるチャックテーブル機構3は、基台2の上面に配設された第1の案内レール31aと第2の案内レール31bを備えている。この第1の案内レール31aと第2の案内レール31bは、それぞれ一対のレール部材311、311とからなっており、図2において矢印Xで示す切削送り方向に沿って互いに平行に延設されている。この第1の案内レール31aと第2の案内レール31b上には、それぞれ第1の支持基台32aと第2の支持基台32bが第1の案内レール31aと第2の案内レール31bに沿って移動可能に配設されている。即ち、第1の支持基台32aと第2の支持基台32bにはそれぞれ被案内溝321、321が設けられており、この被案内溝321、321を第1の案内レール31aと第2の案内レール31bを構成する一対のレール部材311、311に嵌合することにより、第1の支持基台32aと第2の支持基台32bは第1の案内レール31aと第2の案内レール31bに沿って移動可能に構成される。
The chuck table mechanism 3 in the illustrated embodiment includes a
第1の支持基台32aと第2の支持基台32b上にはそれぞれ第1の円筒部材33aと第2の円筒部材33bが配設され、この第1の円筒部材33aと第2の円筒部材33bの上端にそれぞれ第1のチャックテーブル34aと第2のチャックテーブル34bが回転可能に配設されている。この第1のチャックテーブル34aと第2のチャックテーブル34bは多孔質セラミッックスの如き適宜の多孔性材料から構成されており、図示しない吸引手段に接続されている。従って、第1のチャックテーブル34aと第2のチャックテーブル34bを図示しない吸引手段によって吸引源に選択的に連通することにより、被加工物載置面341、341上に載置された被加工物を吸引保持する。また、第1のチャックテーブル34aと第2のチャックテーブル34bは、それぞれ第1の円筒部材33aと第2の円筒部材33b内に配設されたパルスモータ(図示せず)によって適宜回動せしめられるようになっている。なお、第1の円筒部材33aと第2の円筒部材33bの上端部には、それぞれ第1のチャックテーブル34aと第2のチャックテーブル34bを挿通する穴を有しそれぞれ上記第1の支持基台32aと第2の支持基台32bを覆う第1のカバー部材35aと第2のカバー部材35bが配設されている。この第1のカバー部材35aと第2のカバー部材35bの上面には、それぞれ後述する切削ブレードの位置を検出するための第1のブレード検出手段36aと第2のブレード検出手段36bが配設されている。また、第1のカバー部材35aと第2のカバー部材35bにおける切削送り方向X1の下流側端面および上流側端面には、図3に示すように蛇腹からなる防水カバー361a(361b)および362a(362b)の一端がそれぞれ装着されている。一方の防水カバー361の他端は後述する排気手段7に取付けられ、他方の防水カバー362の他端は図示しない固定部に取付けられている。このように構成された防水カバー361a(361b)および362a(362b)は、後述する第1の切削送り手段および第2の切削送り手段をそれぞれ覆うように配設される。
A first
図2に戻って説明を続けると、図示の実施形態におけるチャックテーブル機構3は、第1のチャックテーブル34aと第2のチャックテーブル34bをそれぞれ第1の案内レール31aと第2の案内レール31bに沿って図2において矢印Xで示す切削送り方向に移動させるための第1の切削送り手段37aと第2の切削送り手段37bを備えている。第1の切削送り手段37aと第2の切削送り手段37bは、それぞれ第1の案内レール31aと第2の案内レール31bを構成する一対のレール部材311、311の間に平行に配設された雄ネジロッド371と、雄ネジロッド371の一端部を回転可能に支持する軸受372と、雄ネジロッド371の他端に連結され該雄ネジロッド371を正転または逆転駆動するパルスモータ373とからなっている。このように構成された第1の切削送り手段37aと第2の切削送り手段37bは、それぞれ雄ネジロッド371が上記第1の支持基台32aと第2の支持基台32bに形成された雌ネジ322に螺合される。従って、第1の切削送り手段37aと第2の切削送り手段37bは、それぞれパルスモータ373を駆動して雄ネジロッド371を正転または逆転駆動することにより、上記第1の支持基台32aと第2の支持基台32bに配設された第1のチャックテーブル34aと第2のチャックテーブル34bをそれぞれ第1の案内レール31aと第2の案内レール31bに沿って図1において矢印Xで示す切削送り方向に移動することができる。
Returning to FIG. 2, the description will be continued. The chuck table mechanism 3 in the illustrated embodiment replaces the first chuck table 34a and the second chuck table 34b with the
図示の実施形態における切削装置は、上記第1の案内レール31aと第2の案内レール31bを跨いで配設された門型の支持フレーム4を備えている。この門型の支持フレーム4は、第1の案内レール31aの側方に配設された第1の柱部41と、第2の案内レール31bの側方に配設された第2の柱部42と、第1の柱部41と第2の柱部42の上端を連結し矢印Xで示す切削送り方向と直交する矢印Yで示す割り出し送り方向に沿って配設された支持部43とからなり、中央部には上記第1のチャックテーブル34aと第2のチャックテーブル34bの移動を許容する開口44が設けられている。第1の柱部41と第2の柱部42の上端部はそれぞれ幅広に形成されており、この上端部にはそれぞれ後述する切削手段のスピンドルユニットの移動を許容する開口411と421が設けられている。上記支持部43の一方の面には矢印Yで示す割り出し送り方向に沿って一対の案内レール431、431が設けられており、他方の面には図5に示すように紙面に垂直な方向(図2において矢印Yで示す割り出し送り方向)に沿って一対の案内レール432、432が設けられている。
The cutting apparatus in the illustrated embodiment includes a gate-type support frame 4 disposed across the
図示の実施形態における切削装置は、上記門型の支持フレーム4の支持部43に設けられた一対の案内レール431、431に沿って移動可能に配設された第1のアライメント手段5aと第2のアライメント手段5bを備えている。第1のアライメント手段5aと第2のアライメント手段5bは、それぞれ移動ブロック51と、該移動ブロック51を一対の案内レール431、431に沿って移動するための移動手段52、52と、移動ブロック51に装着された撮像手段53、53とからなっている。移動ブロック51、51にはそれぞれ上記一対の案内レール431、431と嵌合する被案内溝511、511が設けられており、この被案内溝511、511を一対の案内レール431、431に嵌合することにより、移動ブロック51、51は一対の案内レール431、431に沿って移動可能に構成される。
The cutting apparatus in the illustrated embodiment includes a first alignment means 5a and a second alignment means movably disposed along a pair of
移動手段52、52は、それぞれ一対の案内レール431、431の間に平行に配設された雄ネジロッド521と、雄ネジロッド521の一端部を回転可能に支持する軸受522と、雄ネジロッド521の他端に連結され該雄ネジロッド521を正転または逆転駆動するパルスモータ523とからなっている。このように構成された移動手段52、52は、それぞれ雄ネジロッド521が上記移動ブロック51、51に形成された雌ネジ512に螺合される。従って、移動手段52、52は、それぞれパルスモータ523を駆動して雄ネジロッド521を正転または逆転駆動することにより、移動ブロック51、51を一対の案内レール431、431に沿って図1において矢印Yで示す割り出し送り方向に移動することができる。
The moving means 52 and 52 include a
上記移動ブロック51、51にそれぞれ装着された撮像手段53、53は、それぞれ撮像素子(CCD)を備えており、撮像した画像信号を図示しない制御手段に送る。
The image pickup means 53 and 53 mounted on the moving
上記門型の支持フレーム4を構成する支持部43の他方の面(上記第1のアライメント手段5aと第2のアライメント手段5bが配設された面と反対側の面)には、第1の切削手段6aと第2の切削手段6bが配設されている。第1の切削手段6aと第2の切削手段6bについて、図4および図5を参照して説明する。第1の切削手段6aと第2の切削手段6bは、それぞれ割り出し移動基台61と切り込み移動基台62およびスピンドルユニット63を具備している。割り出し移動基台61は、一方の面に上記支持部43の他方の面に設けられた一対の案内レール432、432と嵌合する被案内溝611、611が設けられており、この被案内溝611、611を一対の案内レール432、432に嵌合することにより、割り出し移動基台61は一対の案内レール432、432に沿って移動可能に構成される。また、割り出し移動基台61の他方の面には、図5に示すように矢印Zで示す切り込み送り方向(第1のチャックテーブル34aと第2のチャックテーブル34bの被加工物載置面341に垂直な方向)に沿って一対の案内レール612、612(図5には一方の案内レールのみが示されている)が設けられている。なお、割り出し移動基台61、61の一方の面には、後述する割り出し送り手段の雄ネジロッドの挿通を許容する逃げ溝613、613が上下方向に段差を設けて設けられている。
On the other surface (the surface opposite to the surface on which the first alignment means 5a and the second alignment means 5b are provided) of the
上記切り込み移動基台62は、上下方向に延びる被支持部621と、該被支持部621の下端から直角に水平に延びる装着部622とからなっている。図4に示すように被支持部621における装着部622側の面には上記割り出し移動基台61の他方の面に設けられた一対の案内レール612、612と嵌合する被案内溝623、623(図5には一方の被案内溝のみが示されている)が設けられており、この被案内溝623、623を一対の案内レール612、612に嵌合することにより、切り込み移動基台62は一対の案内レール612、612に沿って矢印Zで示す切り込み送り方向に移動可能に構成される。このようにして割り出し移動基台61に装着された切り込み移動基台62は、図2に示すように装着部622が門型の支持フレーム4の上記割り出し移動基台61が装着された他方の面側から開口44を通して上記第1のアライメント手段5aと第2のアライメント手段5bが装着された一方の面側に突出して配置される。
The
上記スピンドルユニット63は、第1の切削手段6aと第2の切削手段6bの切り込み移動基台62を形成する装着部622の下面にそれぞれ装着されている。このスピンドルユニット63は、それぞれ図4に示すようにスピンドルハウジング631と、該スピンドルハウジング631に回転可能に支持された回転スピンドル632と、該回転スピンドル632の一端に装着された切削ブレード633と、切削水を供給する切削水供給管634と、切削ブレード633を覆うブレードカバー635および回転スピンドル632を回転駆動する図示しないサーボモータを具備しており、回転スピンドル632の軸線方向が矢印Yで示す割り出し送り方向に沿って配設されている。なお、第1の切削手段6aの切削ブレード633と第2の切削手段6bの切削ブレード633は、互いに対向して配設されている。
The
図示の実施形態における第1の切削手段6aと第2の切削手段6bは、上記割り出し移動基台61、61を一対の案内レール432、432に沿って図2において矢印Yで示す割り出し送り方向に移動するための割り出し送り手段64、64を具備している。割り出し送り手段64、64は、それぞれ一対の案内レール432、432の間に平行に配設された雄ネジロッド641と、雄ネジロッド641の一端部を回転可能に支持する軸受642と、雄ネジロッド641の他端に連結され該雄ネジロッド641を正転または逆転駆動するパルスモータ643とからなっている。なお、雄ネジロッド641、641は、上記割り出し移動基台61、61に設けられた逃げ溝613、613とそれぞれ対応する高さ位置に配設されている。このように構成された割り出し送り手段64、64は、それぞれ雄ネジロッド641、641が上記割り出し移動基台61、61に形成された雌ネジ614、614に螺合される。従って、割り出し送り手段64、64は、それぞれパルスモータ643、643を駆動して雄ネジロッド641、641を正転または逆転駆動することにより、割り出し移動基台61、61を一対の案内レール432、432に沿って図2において矢印Yで示す割り出し送り方向に移動することができる。この割り出し移動基台61、61が移動する際に雄ネジロッド641、641が、割り出し移動基台61、61に設けられた逃げ溝613、613を挿通することにより、割り出し移動基台61、61はその移動が許容される。
In the illustrated embodiment, the first cutting means 6a and the second cutting means 6b are arranged so that the
また、図示の実施形態における第1の切削手段6aと第2の切削手段6bは、図4および図5に示すように上記切り込み移動基台62、62を一対の案内レール612、612に沿って矢印Zで示す切り込み送り方向に移動するための切り込み送り手段65、65を具備している。切り込み送り手段65、65は、それぞれ一対の案内レール612、612と平行に配設された雄ネジロッド651と、雄ネジロッド651の一端部を回転可能に支持する軸受652と、雄ネジロッド651の他端に連結され該雄ネジロッド651を正転または逆転駆動するパルスモータ653とからなっている。このように構成された切り込み送り手段65、65は、それぞれ雄ネジロッド651が上記切り込み移動基台62の被支持部621に形成された雌ネジ622aに螺合される。従って、切り込み送り手段65、65は、それぞれパルスモータ653を駆動して雄ネジロッド651を正転または逆転駆動することにより、切り込み移動基台62を一対の案内レール622、622に沿って図2および図5において矢印Zで示す切り込み送り方向に移動することができる。
Further, the first cutting means 6a and the second cutting means 6b in the illustrated embodiment are configured such that the
図示の実施形態における切削装置は、図1および図3に示すように上記第1の切削手段6aおよび第2の切削手段6bの周囲の雰囲気を吸引して排出する排気手段7を備えている。この排気手段7は、第1の切削手段6aおよび第2の切削手段6bに対して図3において矢印X1で示す切削送り方向の下流側に配設されている。排気手段7は、矩形状のハウジング71を具備している。このハウジング71は、図3に示すように第1の切削手段6aおよび第2の切削手段6b側の側壁711における上記防水カバー361の上側に形成された吸引開口711aを備えている。また、ハウジング71は、図1に示すように一方の端壁712の上部に形成された排気口712aを備えている。この排気口712aには排気ダクト72の一端が接続されており、排気ダクト72の他端は図示しない吸引手段に接続されている。
As shown in FIGS. 1 and 3, the cutting apparatus in the illustrated embodiment includes an
図3および図6を参照して説明を続けると、図示の実施形態における切削装置は、上記第1の切削手段6aおよび第2の切削手段6bの切削ブレード633の回転に起因して飛散される切削水を上記排気手段7に導く飛散水案内手段8を備えている。この飛散水案内手段8は、図6に示すように上壁81と、該上壁81の両側縁からぞれぞれ垂下して形成された側壁82および83とからなっており、その一端が第1の切削手段6aおよび第2の切削手段6bの切削ブレード633を覆うブレードカバー635に取付けられている。飛散水案内手段8の他端部は、図3に示すように排気手段7を構成するハウジング71の側壁711に形成された吸引開口711aを通してハウジング71内に挿入されている。なお、上記ブレードカバー635は、図示の実施形態においてはスピンドルハウジング631に装着された第1のカバー部材636と、該第1のカバー部材636に装着される第2のカバー部材637とからなっている。この第1のカバー部材636と第2のカバー部材637にそれぞれ切削水供給管634が配設されている。第1のカバー部材636の側面には雌ネジ穴636aと2個の位置決めピン636bが設けられており、第2のカバー部材637には上記雌ネジ穴636aと対応する位置に挿通穴637aが設けられている。また、第2のカバー部材637の第1のカバー部材636と対向する面には、上記2個の位置決めピン636bが嵌合する図示しない2個の凹部が形成されている。このように構成された第1のカバー部材636と第2のカバー部材637は、第2のカバー部材637に形成された図示しない2個の凹部を第1のカバー部材636に設けられた2個の位置決めピン636bに嵌合することによって位置決めする。そして、締結ボルト638を第1のカバー部材636の挿通穴637aに挿通し、第2のカバー部材637に設けられた雌ネジ穴636aと螺合することにより、第2のカバー部材637を第1のカバー部材636に装着する。
If the description is continued with reference to FIG. 3 and FIG. 6, the cutting apparatus in the illustrated embodiment is scattered due to the rotation of the
図2に戻って説明を続けると、図示の実施形態における切削装置は、第1のチャックテーブル34aおよび第2のチャックテーブル34bにそれぞれ保持された被加工物を洗浄する第1の洗浄手段9aおよび第2の洗浄手段9bを備えている。第1の洗浄手段9aは、門型の支持フレーム4の第1の柱部41に配設された洗浄水供給手段91aと該洗浄水供給手段91aに接続された噴射ノズル92aとからなっている。噴射ノズル92aは、複数の噴孔を備えてパイプ材によって形成されており、切削送り方向Xと直交する方向に延設され第1のチャックテーブル34aの移動経路上に配設されている。第2の洗浄手段9bは、門型の支持フレーム4の第2の柱部42に配設された洗浄水供給手段91bと該洗浄水供給手段91bに接続された噴射ノズル92bとからなっている。噴射ノズル92bも上記噴射ノズル92aと同様に複数の噴孔を備えてパイプ材によって形成されており、切削送り方向Xと直交する方向に延設され第2のチャックテーブル34bの移動経路上に配設されている。
Returning to FIG. 2 and continuing the description, the cutting apparatus in the illustrated embodiment has a first cleaning means 9a and a first cleaning means 9a for cleaning the workpieces respectively held by the first chuck table 34a and the second chuck table 34b. Second cleaning means 9b is provided. The first cleaning means 9a includes a cleaning water supply means 91a disposed on the
また、図示の実施形態における切削装置は、上記第1の洗浄手段9aおよび第2の洗浄手段9bによって洗浄された被加工物を乾燥する乾燥手段10を具備している。この乾燥手段10はスピンナー乾燥手段からなっている。この乾燥手段10は、第1のチャックテーブル34aおよび第2のチャックテーブル34bの図2に示す被加工物着脱位置の割り出し送り方向Yの延長線上に配置されている。
Further, the cutting apparatus in the illustrated embodiment includes a drying
図1に戻って説明を続けると、上記装置ハウジング2には、半導体ウエーハ等の被加工物をストックするカセット111を含むカセット機構11と、該カセット111に収納された被加工物を仮置き領域12に搬出するとともに切削作業終了後の被加工物をカセット111に搬入する被加工物搬出・搬入手段13と、仮置き領域12と上記第1のチャックテーブル34aおよび第2のチャックテーブル34bと乾燥手段10との間で被加工物を搬送する被加工物搬送手段14が配設されている。カセット111は、カセット機構11の図示しない昇降手段のカセットテーブル上に載置されるようになっている。カセット111には環状のフレーム15に装着された保護テープ16の表面に貼着された半導体ウエーハWが収容されている。また、装置ハウジング2には、操作パネル17が配設されている。なお、図示の実施形態における切削装置においては、上記第1のアライメント手段5aと第2のアライメント手段5bを前面にしてオペレータの操作位置が形成され、操作パネル17はオペレータと対面する位置に配設されている。
Returning to FIG. 1 and continuing the description, the apparatus housing 2 includes a
図示の実施形態における切削装置は以上のように構成されており、以下被加工物としての半導体ウエーハを切削する加工方法について主に図1および図2を参照して説明する。
先ず、カセット機構11の図示しない昇降手段を作動してカセット111を適宜の高さに位置付ける。カセット111が適宜の高さに位置付けられたら、被加工物搬出・搬入機構13を作動しカセット111に収容された半導体ウエーハWを仮置き領域12に搬出する。仮置き領域12に搬出された半導体ウエーハWは、ここで中心位置合わせが行われる。仮置き領域12で中心位置合わせが行われた半導体ウエーハWは、被加工物搬送手段14によって第1のチャックテーブル34a上に搬送される。このとき第1のチャックテーブル34aは、図2に示す被加工物着脱位置に位置付けられている。第1のチャックテーブル34a上に載置された半導体ウエーハWは、図示しない吸引手段を作動することにより、第1のチャックテーブル34a上に吸引保持される(第1の被加工物保持工程)。
The cutting apparatus in the illustrated embodiment is configured as described above. Hereinafter, a processing method for cutting a semiconductor wafer as a workpiece will be mainly described with reference to FIGS. 1 and 2.
First, the raising / lowering means (not shown) of the
上述したように半導体ウエーハWを吸引保持した第1のチャックテーブル34aは、第1の切削送り手段37aの作動により第1のアライメント手段5aの下方であるアライメント領域に移動せしめられる。次に、第1のアライメント手段5aの移動手段52を作動して、第1のアライメント手段5aの撮像手段53を第1のチャックテーブル34aの直上に位置付ける。撮像手段53を第1のチャックテーブル34aの直上に位置付けたならば、撮像手段53によって第1のチャックテーブル34a上に保持された半導体ウエーハWの表面が撮像され、半導体ウエーハWの表面に形成された切削領域であるストリートが検出される。そして、第1の切削手段6aの割り出し送り手段64および第2の切削手段6bの割り出し送り手段64を作動して、それぞれの切削ブレード633と上記撮像手段53によって検出されたストリートとの位置合わせを行うアライメントが実施される(第1のアライメント工程)。
As described above, the first chuck table 34a that sucks and holds the semiconductor wafer W is moved to the alignment region below the first alignment means 5a by the operation of the first cutting feed means 37a. Next, the moving means 52 of the first alignment means 5a is operated to position the imaging means 53 of the first alignment means 5a directly above the first chuck table 34a. If the image pickup means 53 is positioned immediately above the first chuck table 34a, the surface of the semiconductor wafer W held on the first chuck table 34a is picked up by the image pickup means 53 and formed on the surface of the semiconductor wafer W. A street which is a cut area is detected. Then, the index feeding means 64 of the first cutting means 6 a and the index feeding means 64 of the second cutting means 6 b are operated to align the
第1のチャックテーブル34a上に保持された半導体ウエーハWに対して第1のアライメント工程を実施している間に、被加工物搬出・搬入機構13を作動しカセット111に収容された半導体ウエーハWを仮置き領域12に搬出する。仮置き領域12に搬出された半導体ウエーハWは、ここで中心位置合わせが行われる。仮置き領域12で中心位置合わせが行われた半導体ウエーハWは、被加工物搬送手段14によって被加工物着脱位置に位置付けられている第2のチャックテーブル34b上に搬送される。第2のチャックテーブル34b上に載置された半導体ウエーハWは、図示しない吸引手段を作動することにより、第2のチャックテーブル34b上に吸引保持される(第2の被加工物保持工程)。
While the first alignment process is being performed on the semiconductor wafer W held on the first chuck table 34a, the workpiece carry-in / load-in
第2のチャックテーブル34b上に半導体ウエーハWを吸引保持したならば、第2のチャックテーブル34bは第2の切削送り手段37bの作動により第2のアライメント手段5bの下方であるアライメント領域に移動せしめられる。そして、第2のアライメント手段5bによって第2のチャックテーブル34bに保持された半導体ウエーハWの切削すべき領域を検出する第2のアライメント工程を実施する。なお、第2のアライメント工程は、上述した第1のアライメント工程と同様に実施する。 If the semiconductor wafer W is sucked and held on the second chuck table 34b, the second chuck table 34b is moved to an alignment region below the second alignment means 5b by the operation of the second cutting feed means 37b. It is done. Then, a second alignment step of detecting a region to be cut of the semiconductor wafer W held on the second chuck table 34b by the second alignment means 5b is performed. The second alignment process is performed in the same manner as the first alignment process described above.
一方、上記第1のアライメント工程が終了したならば、第1のチャックテーブル34aを切削領域に移動し、第1の切削手段6aの割り出し送り手段64を作動して図7に示すように第1の切削手段6aの切削ブレード633を第1のチャックテーブル34aに保持された半導体ウエーハWに形成された中央のストリートと対応する位置に位置付け、更に切り込み送り手段65を作動して切削ブレード633を下降して所定の切り込み送り位置に位置付ける。また、第2の切削手段6bの割り出し送り手段64を作動して第2の切削手段6bの切削ブレード633を第1のチャックテーブル34a保持された半導体ウエーハWに形成された最端のストリートと対応する位置に位置付け、更に切り込み送り手段65を作動して切削ブレード633を下降して所定の切り込み送り位置に位置付ける。そして、第1の切削手段6aの切削ブレード633および第2の切削手段6bの切削ブレード633を回転しつつ第1の切削送り手段37aを作動して第1のチャックテーブル34aを図7において矢印X1で示す切削送り方向に移動することにより、第1のチャックテーブル34aに保持された半導体ウエーハWは高速回転する第1の切削手段6aの切削ブレード633および第2の切削手段6bの切削ブレード633の作用を受けて、上記所定のストリートに沿って切削される(第1の切削工程)。この第1の切削工程においては、切削水供給管634、634から切削水が切削部に供給される。
On the other hand, when the first alignment step is completed, the first chuck table 34a is moved to the cutting region, and the index feeding means 64 of the first cutting means 6a is operated to perform the first as shown in FIG. The
上記第1の切削工程においては、図6に示すように第1の切削手段6aおよび第2の切削手段6bの切削ブレード633が共に矢印639で示すように回転せしめられる。この結果、切削水供給管634、634から供給された切削水は、図3に示すように切削ブレード633の回転に起因して飛散水案内手段8に向けて飛散する。この飛散された切削水は、飛散水案内手段8に案内されて排気手段7のハウジング71内に導かれる。このようにしてハウジング71内に導かれた飛散された切削水は、ハウジング71の吸引開口711aから吸引された第1の切削手段6aおよび第2の切削手段6bの周囲の雰囲気とともに排気口712aおよび排気ダクト73を通して排出される。従って、切削ブレード633の回転に起因して飛散された切削水が第1の切削手段6aおよび第2の切削手段6bの切り込み送り手段65に付着することはなく、切り込み送り手段65が飛散された切削水によって汚染されることはない。
In the first cutting step, as shown in FIG. 6, the
上述したように第1のチャックテーブル34aに保持された半導体ウエーハWを所定のストリートに沿って切削したならば、第1の切削手段6aの割り出し送り手段64および第2の切削手段6bの割り出し送り手段64を作動して第1の切削手段6aおよび第2の切削手段6bをストリートの間隔分だけ図7において矢印Y1で示す割り出し送り方向に移動し(割り出し送り工程)、上記第1の切削工程を実施する。このようにして、割り出し送り工程と第1の切削工程を繰り返し実施することにより、半導体ウエーハWは所定方向に形成された全てのストリートに沿って切削される。所定方向に形成された全てのストリートに沿って半導体ウエーハWを切削したならば、半導体ウエーハWを保持した第1のチャックテーブル34aを90度回転させる。そして、第1のチャックテーブル34aに保持された半導体ウエーハWに上記割り出し送り工程と第1の切削工程を繰り返し実施することにより、半導体ウエーハWは格子状に形成された全てのストリートに沿って切削され、個々のチップに分割される。なお、半導体ウエーハWは個々のチップに分割されても環状のフレーム15に装着された保護テープ16に貼着されているので、バラバラにはならずウエーハの形態が維持されている。
As described above, when the semiconductor wafer W held on the first chuck table 34a is cut along a predetermined street, the index feed means 64 of the first cutting means 6a and the index feed of the second cutting means 6b. By operating the
上述した第1の切削工程が終了したならば、上記第2のアライメント工程が実施された半導体ウエーハWを保持した第2のチャックテーブル34bを切削領域に移動する。そして、上記第1の切削工程を実施した後に第1の切削手段6aおよび第2の切削手段6bによって上述した第1の切削工程と同様に第2のチャックテーブル34bに保持された半導体ウエーハWに対して第2の切削工程を実施する。この第2の切削工程においては、図6に示すように第1の切削手段6aおよび第2の切削手段6bの切削ブレード633が共に矢印639で示すように回転せしめられる。この結果、切削水供給管634、634から供給された切削水は、図3に示すように切削ブレード633の回転に起因して飛散水案内手段8に向けて飛散する。この飛散された切削水は、飛散水案内手段8に案内されて排気手段7のハウジング71内に導かれる。このようにしてハウジング71内に導かれた飛散された切削水は、ハウジング71の吸引開口711aから吸引された第1の切削手段6aおよび第2の切削手段6bの周囲の雰囲気とともに排気口712aおよび排気ダクト73を通して排出される。従って、切削ブレード633の回転に起因して飛散された切削水が第1の切削手段6aおよび第2の切削手段6bの切り込み送り手段65に付着することはなく、切り込み送り手段65が飛散された切削水によって汚染されることはない。
When the first cutting process described above is completed, the second chuck table 34b holding the semiconductor wafer W on which the second alignment process is performed is moved to the cutting area. Then, after the first cutting step, the semiconductor wafer W held on the second chuck table 34b by the first cutting means 6a and the second cutting means 6b as in the first cutting step described above is applied to the semiconductor wafer W held on the second chuck table 34b. On the other hand, the second cutting step is performed. In the second cutting step, as shown in FIG. 6, the
上述した第2の切削工程を実施している間に、第1の切削工程が終了した半導体ウエーハWを保持した第1のチャックテーブル34aは加工領域から被加工物着脱位置に向けて移動せしめられる。このとき、第1の洗浄手段9aを作動し噴射ノズル92aから洗浄水を噴射する。この結果、第1の切削工程が実施された半導体ウエーハWに噴射ノズル92aから洗浄水が噴射されるので、半導体ウエーハWに付着している切削屑が洗浄され除去される(第1の洗浄工程)。
While the second cutting process described above is being performed, the first chuck table 34a holding the semiconductor wafer W after the completion of the first cutting process is moved from the processing region toward the workpiece attachment / detachment position. . At this time, the 1st washing | cleaning means 9a is operated and washing water is injected from the
第1の洗浄工程が実施されたならば、被加工物搬送手段12を作動して第1のチャックテーブル34aに保持された洗浄済みの半導体ウエーハWを乾燥手段10に搬送する。乾燥手段10に搬送された半導体ウエーハWは、ここでスピンナー乾燥される(第1の乾燥工程)。このようにして第1の乾燥工程が実施された半導体ウエーハWは、被加工物搬送手段14によって乾燥手段から搬出され次工程に搬送される。 When the first cleaning step is performed, the workpiece transfer means 12 is operated to transfer the cleaned semiconductor wafer W held on the first chuck table 34 a to the drying means 10. The semiconductor wafer W conveyed to the drying means 10 is spinner dried here (first drying step). The semiconductor wafer W that has been subjected to the first drying step in this way is unloaded from the drying means by the workpiece transfer means 14 and transferred to the next process.
なお、上記第1の洗浄工程が実施された第1のチャックテーブル34a上の半導体ウエーハWが乾燥手段10に搬送されたならば、第1のチャックテーブル34aに次の半導体ウエーハWを保持する上記第1の被加工物保持工程を実施する。そして、上記第1のアライメント工程、第1の切削工程、第1の洗浄工程、第1の乾燥工程を順次実施する。 If the semiconductor wafer W on the first chuck table 34a on which the first cleaning step has been performed is transferred to the drying means 10, the next semiconductor wafer W is held on the first chuck table 34a. A first workpiece holding step is performed. Then, the first alignment step, the first cutting step, the first cleaning step, and the first drying step are sequentially performed.
一方、上述した第2の切削工程が実施された半導体ウエーハWを保持した第2のチャックテーブル34bは、第1のチャックテーブル34aに保持された次の半導体ウエーハWに対して第2の切削工程を実施している間に加工領域から被加工物着脱位置に向けて移動せしめられる。このとき、第2の洗浄手段9bを作動し噴射ノズル92bから洗浄水を噴射する。この結果、第2の切削工程が実施された半導体ウエーハWに噴射ノズル92bから洗浄水が噴射されるので、半導体ウエーハWに付着している切削屑が洗浄され除去される(第2の洗浄工程)。 On the other hand, the second chuck table 34b holding the semiconductor wafer W on which the above-described second cutting process has been performed has a second cutting process on the next semiconductor wafer W held on the first chuck table 34a. Is carried out from the machining area toward the workpiece attachment / detachment position. At this time, the second cleaning means 9b is activated to inject cleaning water from the injection nozzle 92b. As a result, the cleaning water is sprayed from the spray nozzle 92b onto the semiconductor wafer W on which the second cutting process has been performed, so that the cutting waste adhering to the semiconductor wafer W is cleaned and removed (second cleaning process). ).
第2の洗浄工程が実施されたならば、被加工物搬送手段12を作動して第2のチャックテーブル34bに保持された洗浄済みの半導体ウエーハWを乾燥手段8に搬送する。乾燥手段10に搬送された半導体ウエーハWは、上述した第1の乾燥工程と同様に第2の乾燥工程を実施する。このようにして第2の乾燥工程が実施された半導体ウエーハWは、被加工物搬送手段14によって乾燥手段から搬出され次工程に搬送される。 When the second cleaning step is performed, the workpiece transfer means 12 is operated to transfer the cleaned semiconductor wafer W held on the second chuck table 34 b to the drying means 8. The semiconductor wafer W transported to the drying means 10 performs the second drying step in the same manner as the first drying step described above. The semiconductor wafer W that has been subjected to the second drying process in this way is unloaded from the drying means by the workpiece transfer means 14 and transferred to the next process.
なお、上記第2の洗浄工程が実施された第2のチャックテーブル34b上の半導体ウエーハWが乾燥手段10に搬送されたならば、第2のチャックテーブル34bに次の半導体ウエーハWを保持する上記第2の被加工物保持工程を実施する。そして、上記第2のアライメント工程、第2の切削工程、第2の洗浄工程、第2の乾燥工程を順次実施する。 If the semiconductor wafer W on the second chuck table 34b on which the second cleaning step has been performed is transported to the drying means 10, the next semiconductor wafer W is held on the second chuck table 34b. A second workpiece holding step is performed. Then, the second alignment process, the second cutting process, the second cleaning process, and the second drying process are sequentially performed.
以上、本発明を図示の実施形態に基づいて説明したが、本発明は実施形態のみに限定されるものではなく、本発明の趣旨の範囲で種々の変形は可能である。例えば、図示の実施形態においては2台のチャックテーブルおよび2台の切削手段を備えた例を示したが、1台のチャックテーブルおよび1台の切削手段を備えた切削装置に本発明を適用してもよい。 Although the present invention has been described based on the illustrated embodiment, the present invention is not limited to the embodiment, and various modifications are possible within the scope of the gist of the present invention. For example, in the illustrated embodiment, an example in which two chuck tables and two cutting means are provided is shown. However, the present invention is applied to a cutting apparatus having one chuck table and one cutting means. May be.
2:装置ハウジング
3: チャックテーブル機構
31a:第1の案内レール
31b:第2の案内レール
32a:第1の支持基台
32b:第2の支持基台
34a:第1のチャックテーブル
34b:第2のチャックテーブル
36a:第1のブレード検出手段
36b:第2のブレード検出手段
37a:第1の切削送り手段
37b:第2の切削送り手段
4:門型の支持フレーム
5a:第1のアライメント手段5a
5b:第2のアライメント手段
52:移動手段
53:撮像手段
6a:第1の切削手段
6b:第2の切削手段
61:割り出し移動基台
62:切り込み移動基台
63:スピンドルユニット
632:回転スピンドル
633:切削ブレード
64:割り出し送り手段
65:切り込み送り手段
7:排気手段
71:排気手段のハウジング
72:排気ダクト
8:飛散水案内手段
9a:第1の洗浄手段
91a:洗浄水供給手段
92a:噴射ノズル
9b:第2の洗浄手段
91b:洗浄水供給手段
92b:噴射ノズル
10:乾燥手段
11: カセット機構
111: カセット
12:仮置き領域
13:被加工物搬出・搬入手段
14:被加工物搬送手段
15:被加工物搬送手段
16:保護テープ
17:操作パネル
2: device housing 3:
5b: second alignment means 52: moving means 53: imaging means 6a: first cutting means 6b: second cutting means 61: indexing movement base 62: cutting movement base 63: spindle unit 632: rotating spindle 633 : Cutting blade 64: Index feed means 65: Cut feed means 7: Exhaust means 71: Exhaust means housing 72: Exhaust duct 8: Splash water guide means 9a: First cleaning means 91a: Wash water supply means 92a:
Claims (2)
該切削送り手段の周囲の雰囲気を吸引して排出する排気手段と、
該切削ブレードの回転に起因して飛散される切削水を該排気手段に導く飛散水案内手段と、を具備し、
該排気手段は、該チャックテーブルの切削送り方向下流側に配設され、該切り込み送り手段の側に側壁を有しこの側壁と該飛散水案内手段の上方との間に吸引開口を有したハウジングを備え、このハウジングの上部に吸引手段に接続された排気口を備えている、
ことを特徴とする切削装置。 A chuck table having a workpiece holding surface for holding the workpiece, a cutting means for cutting the workpiece held on the chuck table, and a cutting blade for cutting and feeding the chuck table in the cutting feed direction. A cutting apparatus comprising: a cutting feed means provided; and a cutting feed means for cutting and feeding the cutting means in a direction perpendicular to the workpiece holding surface of the chuck table.
An exhaust means for sucking and discharging the atmosphere around the cutting feed means;
Spattered water guiding means for guiding cutting water scattered due to rotation of the cutting blade to the exhaust means ,
The exhaust means is disposed downstream of the chuck table in the cutting feed direction, and has a side wall on the cut feed means side and a suction opening between the side wall and the scattered water guide means. An exhaust port connected to the suction means at the top of the housing ,
The cutting device characterized by the above.
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