JP4763398B2 - Cutting equipment - Google Patents

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Description

本発明は、半導体ウエーハ等の被加工物を切削する切削装置に関する。   The present invention relates to a cutting apparatus for cutting a workpiece such as a semiconductor wafer.

例えば、半導体デバイス製造工程においては、略円板形状である半導体ウエーハの表面に格子状に形成されたストリートと呼ばれる分割予定ラインによって区画された多数の領域にIC、LSI等の回路を形成し、該回路が形成された各領域を分割予定ラインに沿って分割することにより個々の半導体チップを製造している。半導体ウエーハを分割する分割装置としては一般にダイシング装置としての切削装置が用いられている。この切削装置は、被加工物を保持するチャックテーブルと、該チャックテーブルに保持された被加工物に切削加工を施す切削手段と、チャックテーブルを切削送り方向に切削送りする切削ブレードを備えた切削送り手段と、切削手段をチャックテーブルの被加工物保持面に対して垂直な方向に切り込み送りする切り込み送り手段とを具備している。   For example, in the semiconductor device manufacturing process, circuits such as IC and LSI are formed in a number of regions partitioned by dividing lines called streets formed in a lattice shape on the surface of a semiconductor wafer having a substantially disk shape, Each semiconductor chip is manufactured by dividing each region in which the circuit is formed along a planned division line. As a dividing device for dividing a semiconductor wafer, a cutting device as a dicing device is generally used. This cutting apparatus includes a chuck table for holding a workpiece, a cutting means for cutting the workpiece held on the chuck table, and a cutting blade for cutting and feeding the chuck table in a cutting feed direction. A feeding means; and a cutting feed means for cutting and feeding the cutting means in a direction perpendicular to the workpiece holding surface of the chuck table.

このような切削装置において、切削効率を向上するために、チャックテーブルを2個備え、一方のチャックテーブルに保持された被加工物の切削作業を実施している間に他方のチャックテーブルに保持された被加工物のアライメント作業を実施し、切削手段を休止させることなく効率よく切削できる切削装置が提案されている。(例えば、特許文献1参照)。
特開2003−163178号公報
In such a cutting apparatus, in order to improve the cutting efficiency, two chuck tables are provided, and are held on the other chuck table while the workpiece held on one chuck table is being cut. There has been proposed a cutting apparatus that can efficiently perform an alignment operation of a workpiece without cutting the cutting means. (For example, refer to Patent Document 1).
JP 2003-163178 A

上述した切削装置においては、切削手段をチャックテーブルの被加工物載置面に対して垂直な方向に切り込み送りする切り込み送り手段を備えている。しかるに、チャックテーブルに保持された被加工物を切削手段によって切削する際には切削ブレードによる切削加工部に切削水が供給されるため、切削ブレードの回転に起因して切削水が飛散せしめられる。この飛散した切削水が切り込み送り手段を汚染するという問題がある。   The above-described cutting apparatus includes a cutting feed unit that cuts and feeds the cutting unit in a direction perpendicular to the workpiece placement surface of the chuck table. However, when the workpiece held on the chuck table is cut by the cutting means, the cutting water is supplied to the cutting portion by the cutting blade, so that the cutting water is scattered due to the rotation of the cutting blade. There is a problem that the scattered cutting water contaminates the cutting and feeding means.

本発明は上記事実に鑑みてなされたものであり、その主たる技術課題は、切削手段による切削によって飛散する切削水が切り込み送り手段に付着しないようにした切削装置を提供することにある。   The present invention has been made in view of the above-described facts, and a main technical problem thereof is to provide a cutting apparatus in which cutting water scattered by cutting by the cutting means is prevented from adhering to the cutting feed means.

上記主たる技術課題を解決するため、本発明によれば、被加工物を保持する被加工物保持面を有するチャックテーブルと、該チャックテーブルに保持された被加工物に切削加工を施す切削手段と、該チャックテーブルを切削送り方向に切削送りする切削ブレードを備えた切削送り手段と、該切削手段を該チャックテーブルの該被加工物保持面に対して垂直な方向に切り込み送りする切り込み送り手段と、を具備する切削装置において、
該切削送り手段の周囲の雰囲気を吸引して排出する排気手段と、
該切削ブレードの回転に起因して飛散される切削水を該排気手段に導く飛散水案内手段と、を具備し、
該排気手段は、該チャックテーブルの切削送り方向下流側に配設され、該切り込み送り手段の側に側壁を有しこの側壁と該飛散水案内手段の上方との間に吸引開口を有したハウジングを備え、このハウジングの上部に吸引手段に接続された排気口を備えている、
ことを特徴とする切削装置が提供される。
In order to solve the above main technical problem, according to the present invention, a chuck table having a workpiece holding surface for holding a workpiece, and a cutting means for cutting the workpiece held on the chuck table; A cutting feed means having a cutting blade for cutting and feeding the chuck table in the cutting feed direction; and a cutting feed means for cutting and feeding the cutting means in a direction perpendicular to the workpiece holding surface of the chuck table; In a cutting apparatus comprising:
An exhaust means for sucking and discharging the atmosphere around the cutting feed means;
Spattered water guiding means for guiding cutting water scattered due to rotation of the cutting blade to the exhaust means ,
The exhaust means is disposed downstream of the chuck table in the cutting feed direction, and has a side wall on the cut feed means side and a suction opening between the side wall and the scattered water guide means. An exhaust port connected to the suction means at the top of the housing ,
A cutting device is provided.

た、上記切削手段は第1の切削手段と第2の切削手段とを具備し、第1の切削手段の切削ブレードと第2の切削手段の切削ブレードが互いに対向して配設され、該両切削ブレードは同方向に回転せしめられる。 Also, the cutting means comprises a first cutting means and the second cutting means, the cutting blade of the cutting blade and the second cutting means in the first cutting means are arranged to face each other, the Both cutting blades are rotated in the same direction.

本発明による切削装置によれば、切削ブレードの回転に起因して飛散される切削水を排気手段に導く飛散水案内手段を備えているので、切削ブレードの回転に起因して飛散される切削水が切り込み送り手段に付着することはなく、切り込み送り手段が飛散された切削水によって汚染されることはない。   According to the cutting device according to the present invention, the cutting water scattered due to the rotation of the cutting blade is provided with the scattered water guiding means for guiding the cutting water scattered due to the rotation of the cutting blade to the exhaust means. Does not adhere to the cutting feed means, and the cutting feed means is not contaminated by the scattered cutting water.

以下、本発明に従って構成された切削装置の好適な実施形態について、添付図面を参照して詳細に説明する。   Hereinafter, a preferred embodiment of a cutting device configured according to the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

図1には、本発明に従って構成された切削装置の一部を破断した斜視図が示されている。
図1に示された切削装置は、略直方体状の装置ハウジング2を具備している。この装置ハウジング2には、半導体ウエーハ等の被加工物を保持し矢印Xで示す切削送り方向に移動せしめるチャックテーブル機構3が配設されている。このチャックテーブル機構3について、図2を参照して説明する。
FIG. 1 is a perspective view in which a part of a cutting apparatus constructed according to the present invention is broken.
The cutting device shown in FIG. 1 includes a device housing 2 having a substantially rectangular parallelepiped shape. The apparatus housing 2 is provided with a chuck table mechanism 3 that holds a workpiece such as a semiconductor wafer and moves it in a cutting feed direction indicated by an arrow X. The chuck table mechanism 3 will be described with reference to FIG.

図示の実施形態におけるチャックテーブル機構3は、基台2の上面に配設された第1の案内レール31aと第2の案内レール31bを備えている。この第1の案内レール31aと第2の案内レール31bは、それぞれ一対のレール部材311、311とからなっており、図2において矢印Xで示す切削送り方向に沿って互いに平行に延設されている。この第1の案内レール31aと第2の案内レール31b上には、それぞれ第1の支持基台32aと第2の支持基台32bが第1の案内レール31aと第2の案内レール31bに沿って移動可能に配設されている。即ち、第1の支持基台32aと第2の支持基台32bにはそれぞれ被案内溝321、321が設けられており、この被案内溝321、321を第1の案内レール31aと第2の案内レール31bを構成する一対のレール部材311、311に嵌合することにより、第1の支持基台32aと第2の支持基台32bは第1の案内レール31aと第2の案内レール31bに沿って移動可能に構成される。   The chuck table mechanism 3 in the illustrated embodiment includes a first guide rail 31 a and a second guide rail 31 b disposed on the upper surface of the base 2. Each of the first guide rail 31a and the second guide rail 31b is composed of a pair of rail members 311 and 311 and extends in parallel with each other along the cutting feed direction indicated by an arrow X in FIG. Yes. On the first guide rail 31a and the second guide rail 31b, there are a first support base 32a and a second support base 32b along the first guide rail 31a and the second guide rail 31b, respectively. It is arranged to be movable. That is, guided grooves 321 and 321 are provided in the first support base 32a and the second support base 32b, respectively. The guided grooves 321 and 321 are connected to the first guide rail 31a and the second guide rail 31a. By fitting the pair of rail members 311 and 311 constituting the guide rail 31b, the first support base 32a and the second support base 32b are connected to the first guide rail 31a and the second guide rail 31b. It is configured to be movable along.

第1の支持基台32aと第2の支持基台32b上にはそれぞれ第1の円筒部材33aと第2の円筒部材33bが配設され、この第1の円筒部材33aと第2の円筒部材33bの上端にそれぞれ第1のチャックテーブル34aと第2のチャックテーブル34bが回転可能に配設されている。この第1のチャックテーブル34aと第2のチャックテーブル34bは多孔質セラミッックスの如き適宜の多孔性材料から構成されており、図示しない吸引手段に接続されている。従って、第1のチャックテーブル34aと第2のチャックテーブル34bを図示しない吸引手段によって吸引源に選択的に連通することにより、被加工物載置面341、341上に載置された被加工物を吸引保持する。また、第1のチャックテーブル34aと第2のチャックテーブル34bは、それぞれ第1の円筒部材33aと第2の円筒部材33b内に配設されたパルスモータ(図示せず)によって適宜回動せしめられるようになっている。なお、第1の円筒部材33aと第2の円筒部材33bの上端部には、それぞれ第1のチャックテーブル34aと第2のチャックテーブル34bを挿通する穴を有しそれぞれ上記第1の支持基台32aと第2の支持基台32bを覆う第1のカバー部材35aと第2のカバー部材35bが配設されている。この第1のカバー部材35aと第2のカバー部材35bの上面には、それぞれ後述する切削ブレードの位置を検出するための第1のブレード検出手段36aと第2のブレード検出手段36bが配設されている。また、第1のカバー部材35aと第2のカバー部材35bにおける切削送り方向X1の下流側端面および上流側端面には、図3に示すように蛇腹からなる防水カバー361a(361b)および362a(362b)の一端がそれぞれ装着されている。一方の防水カバー361の他端は後述する排気手段7に取付けられ、他方の防水カバー362の他端は図示しない固定部に取付けられている。このように構成された防水カバー361a(361b)および362a(362b)は、後述する第1の切削送り手段および第2の切削送り手段をそれぞれ覆うように配設される。   A first cylindrical member 33a and a second cylindrical member 33b are disposed on the first support base 32a and the second support base 32b, respectively. The first cylindrical member 33a and the second cylindrical member are arranged. A first chuck table 34a and a second chuck table 34b are rotatably disposed at the upper end of 33b. The first chuck table 34a and the second chuck table 34b are made of an appropriate porous material such as porous ceramics, and are connected to suction means (not shown). Accordingly, the workpieces placed on the workpiece placement surfaces 341 and 341 by selectively communicating the first chuck table 34a and the second chuck table 34b to the suction source by suction means (not shown). Hold the suction. Further, the first chuck table 34a and the second chuck table 34b are appropriately rotated by a pulse motor (not shown) disposed in the first cylindrical member 33a and the second cylindrical member 33b, respectively. It is like that. Note that the upper ends of the first cylindrical member 33a and the second cylindrical member 33b have holes through which the first chuck table 34a and the second chuck table 34b are inserted, respectively. A first cover member 35a and a second cover member 35b that cover 32a and the second support base 32b are disposed. On the upper surfaces of the first cover member 35a and the second cover member 35b, first blade detection means 36a and second blade detection means 36b for detecting the position of a cutting blade described later are disposed, respectively. ing. Further, as shown in FIG. 3, waterproof covers 361a (361b) and 362a (362b) made of bellows are provided on the downstream end face and the upstream end face in the cutting feed direction X1 of the first cover member 35a and the second cover member 35b. ) Is attached to each end. The other end of one waterproof cover 361 is attached to the exhaust means 7 described later, and the other end of the other waterproof cover 362 is attached to a fixing portion (not shown). The waterproof covers 361a (361b) and 362a (362b) configured as described above are disposed so as to cover a first cutting feed means and a second cutting feed means described later, respectively.

図2に戻って説明を続けると、図示の実施形態におけるチャックテーブル機構3は、第1のチャックテーブル34aと第2のチャックテーブル34bをそれぞれ第1の案内レール31aと第2の案内レール31bに沿って図2において矢印Xで示す切削送り方向に移動させるための第1の切削送り手段37aと第2の切削送り手段37bを備えている。第1の切削送り手段37aと第2の切削送り手段37bは、それぞれ第1の案内レール31aと第2の案内レール31bを構成する一対のレール部材311、311の間に平行に配設された雄ネジロッド371と、雄ネジロッド371の一端部を回転可能に支持する軸受372と、雄ネジロッド371の他端に連結され該雄ネジロッド371を正転または逆転駆動するパルスモータ373とからなっている。このように構成された第1の切削送り手段37aと第2の切削送り手段37bは、それぞれ雄ネジロッド371が上記第1の支持基台32aと第2の支持基台32bに形成された雌ネジ322に螺合される。従って、第1の切削送り手段37aと第2の切削送り手段37bは、それぞれパルスモータ373を駆動して雄ネジロッド371を正転または逆転駆動することにより、上記第1の支持基台32aと第2の支持基台32bに配設された第1のチャックテーブル34aと第2のチャックテーブル34bをそれぞれ第1の案内レール31aと第2の案内レール31bに沿って図1において矢印Xで示す切削送り方向に移動することができる。   Returning to FIG. 2, the description will be continued. The chuck table mechanism 3 in the illustrated embodiment replaces the first chuck table 34a and the second chuck table 34b with the first guide rail 31a and the second guide rail 31b, respectively. 2 is provided with a first cutting feed means 37a and a second cutting feed means 37b for moving in the cutting feed direction indicated by the arrow X in FIG. The first cutting feed means 37a and the second cutting feed means 37b are arranged in parallel between a pair of rail members 311 and 311 constituting the first guide rail 31a and the second guide rail 31b, respectively. The male screw rod 371, a bearing 372 that rotatably supports one end of the male screw rod 371, and a pulse motor 373 that is connected to the other end of the male screw rod 371 and drives the male screw rod 371 to rotate forward or backward. The first cutting feed means 37a and the second cutting feed means 37b configured in this way are internally threaded with male screw rods 371 formed on the first support base 32a and the second support base 32b, respectively. 322 is screwed. Therefore, the first cutting feed means 37a and the second cutting feed means 37b respectively drive the pulse motor 373 to drive the male screw rod 371 in the normal direction or the reverse direction, thereby the first support base 32a and the second cutting feed means 37b. The first chuck table 34a and the second chuck table 34b disposed on the second support base 32b are cut along the first guide rail 31a and the second guide rail 31b, respectively, as indicated by an arrow X in FIG. It can move in the feed direction.

図示の実施形態における切削装置は、上記第1の案内レール31aと第2の案内レール31bを跨いで配設された門型の支持フレーム4を備えている。この門型の支持フレーム4は、第1の案内レール31aの側方に配設された第1の柱部41と、第2の案内レール31bの側方に配設された第2の柱部42と、第1の柱部41と第2の柱部42の上端を連結し矢印Xで示す切削送り方向と直交する矢印Yで示す割り出し送り方向に沿って配設された支持部43とからなり、中央部には上記第1のチャックテーブル34aと第2のチャックテーブル34bの移動を許容する開口44が設けられている。第1の柱部41と第2の柱部42の上端部はそれぞれ幅広に形成されており、この上端部にはそれぞれ後述する切削手段のスピンドルユニットの移動を許容する開口411と421が設けられている。上記支持部43の一方の面には矢印Yで示す割り出し送り方向に沿って一対の案内レール431、431が設けられており、他方の面には図5に示すように紙面に垂直な方向(図2において矢印Yで示す割り出し送り方向)に沿って一対の案内レール432、432が設けられている。   The cutting apparatus in the illustrated embodiment includes a gate-type support frame 4 disposed across the first guide rail 31a and the second guide rail 31b. The gate-shaped support frame 4 includes a first pillar portion 41 disposed on the side of the first guide rail 31a and a second pillar portion disposed on the side of the second guide rail 31b. 42 and a support portion 43 arranged along an index feed direction indicated by an arrow Y perpendicular to a cutting feed direction indicated by an arrow X by connecting the upper ends of the first pillar portion 41 and the second pillar portion 42. Thus, an opening 44 that allows the movement of the first chuck table 34a and the second chuck table 34b is provided at the center. The upper end portions of the first column portion 41 and the second column portion 42 are formed to be wide, and openings 411 and 421 that allow the movement of the spindle unit of the cutting means to be described later are provided at the upper end portions, respectively. ing. A pair of guide rails 431 and 431 are provided on one surface of the support portion 43 along the index feed direction indicated by the arrow Y, and the other surface is in a direction perpendicular to the paper surface as shown in FIG. A pair of guide rails 432 and 432 are provided along the indexing feed direction indicated by arrow Y in FIG.

図示の実施形態における切削装置は、上記門型の支持フレーム4の支持部43に設けられた一対の案内レール431、431に沿って移動可能に配設された第1のアライメント手段5aと第2のアライメント手段5bを備えている。第1のアライメント手段5aと第2のアライメント手段5bは、それぞれ移動ブロック51と、該移動ブロック51を一対の案内レール431、431に沿って移動するための移動手段52、52と、移動ブロック51に装着された撮像手段53、53とからなっている。移動ブロック51、51にはそれぞれ上記一対の案内レール431、431と嵌合する被案内溝511、511が設けられており、この被案内溝511、511を一対の案内レール431、431に嵌合することにより、移動ブロック51、51は一対の案内レール431、431に沿って移動可能に構成される。   The cutting apparatus in the illustrated embodiment includes a first alignment means 5a and a second alignment means movably disposed along a pair of guide rails 431 and 431 provided on the support portion 43 of the portal-type support frame 4. The alignment means 5b is provided. The first alignment means 5a and the second alignment means 5b are respectively a moving block 51, moving means 52, 52 for moving the moving block 51 along a pair of guide rails 431, 431, and a moving block 51. Imaging means 53 and 53 mounted on the. The moving blocks 51 and 51 are respectively provided with guided grooves 511 and 511 that are fitted to the pair of guide rails 431 and 431. The guided grooves 511 and 511 are fitted to the pair of guide rails 431 and 431. Accordingly, the moving blocks 51 and 51 are configured to be movable along the pair of guide rails 431 and 431.

移動手段52、52は、それぞれ一対の案内レール431、431の間に平行に配設された雄ネジロッド521と、雄ネジロッド521の一端部を回転可能に支持する軸受522と、雄ネジロッド521の他端に連結され該雄ネジロッド521を正転または逆転駆動するパルスモータ523とからなっている。このように構成された移動手段52、52は、それぞれ雄ネジロッド521が上記移動ブロック51、51に形成された雌ネジ512に螺合される。従って、移動手段52、52は、それぞれパルスモータ523を駆動して雄ネジロッド521を正転または逆転駆動することにより、移動ブロック51、51を一対の案内レール431、431に沿って図1において矢印Yで示す割り出し送り方向に移動することができる。   The moving means 52 and 52 include a male screw rod 521 disposed in parallel between the pair of guide rails 431 and 431, a bearing 522 that rotatably supports one end of the male screw rod 521, and the male screw rod 521. A pulse motor 523 is connected to the end and drives the male screw rod 521 to rotate forward or backward. In the moving means 52 and 52 configured as described above, the male screw rod 521 is screwed into the female screw 512 formed on the moving blocks 51 and 51, respectively. Accordingly, the moving means 52 and 52 drive the pulse motor 523 to drive the male screw rod 521 in the normal direction or the reverse direction, thereby moving the moving blocks 51 and 51 along the pair of guide rails 431 and 431 in FIG. It can move in the index feed direction indicated by Y.

上記移動ブロック51、51にそれぞれ装着された撮像手段53、53は、それぞれ撮像素子(CCD)を備えており、撮像した画像信号を図示しない制御手段に送る。   The image pickup means 53 and 53 mounted on the moving blocks 51 and 51 are respectively provided with image pickup elements (CCD), and send the picked-up image signals to a control means (not shown).

上記門型の支持フレーム4を構成する支持部43の他方の面(上記第1のアライメント手段5aと第2のアライメント手段5bが配設された面と反対側の面)には、第1の切削手段6aと第2の切削手段6bが配設されている。第1の切削手段6aと第2の切削手段6bについて、図4および図5を参照して説明する。第1の切削手段6aと第2の切削手段6bは、それぞれ割り出し移動基台61と切り込み移動基台62およびスピンドルユニット63を具備している。割り出し移動基台61は、一方の面に上記支持部43の他方の面に設けられた一対の案内レール432、432と嵌合する被案内溝611、611が設けられており、この被案内溝611、611を一対の案内レール432、432に嵌合することにより、割り出し移動基台61は一対の案内レール432、432に沿って移動可能に構成される。また、割り出し移動基台61の他方の面には、図5に示すように矢印Zで示す切り込み送り方向(第1のチャックテーブル34aと第2のチャックテーブル34bの被加工物載置面341に垂直な方向)に沿って一対の案内レール612、612(図5には一方の案内レールのみが示されている)が設けられている。なお、割り出し移動基台61、61の一方の面には、後述する割り出し送り手段の雄ネジロッドの挿通を許容する逃げ溝613、613が上下方向に段差を設けて設けられている。   On the other surface (the surface opposite to the surface on which the first alignment means 5a and the second alignment means 5b are provided) of the support portion 43 constituting the portal-shaped support frame 4 is the first surface. A cutting means 6a and a second cutting means 6b are provided. The 1st cutting means 6a and the 2nd cutting means 6b are demonstrated with reference to FIG. 4 and FIG. The first cutting means 6a and the second cutting means 6b include an indexing movement base 61, a cutting movement base 62, and a spindle unit 63, respectively. The indexing movement base 61 is provided with guided grooves 611 and 611 fitted to a pair of guide rails 432 and 432 provided on the other surface of the support portion 43 on one surface. By fitting 611 and 611 to the pair of guide rails 432 and 432, the indexing movement base 61 is configured to be movable along the pair of guide rails 432 and 432. Further, as shown in FIG. 5, the other surface of the index movement base 61 is provided with a cutting feed direction indicated by an arrow Z (on the workpiece placement surface 341 of the first chuck table 34a and the second chuck table 34b). A pair of guide rails 612 and 612 (only one guide rail is shown in FIG. 5) is provided along the vertical direction. In addition, clearance grooves 613 and 613 are provided on one surface of the index movement bases 61 and 61 so as to allow the insertion of a male screw rod of an index feeding means, which will be described later, with a step in the vertical direction.

上記切り込み移動基台62は、上下方向に延びる被支持部621と、該被支持部621の下端から直角に水平に延びる装着部622とからなっている。図4に示すように被支持部621における装着部622側の面には上記割り出し移動基台61の他方の面に設けられた一対の案内レール612、612と嵌合する被案内溝623、623(図5には一方の被案内溝のみが示されている)が設けられており、この被案内溝623、623を一対の案内レール612、612に嵌合することにより、切り込み移動基台62は一対の案内レール612、612に沿って矢印Zで示す切り込み送り方向に移動可能に構成される。このようにして割り出し移動基台61に装着された切り込み移動基台62は、図2に示すように装着部622が門型の支持フレーム4の上記割り出し移動基台61が装着された他方の面側から開口44を通して上記第1のアライメント手段5aと第2のアライメント手段5bが装着された一方の面側に突出して配置される。   The incision moving base 62 includes a supported portion 621 extending in the vertical direction and a mounting portion 622 extending horizontally at right angles from the lower end of the supported portion 621. As shown in FIG. 4, guided grooves 623 and 623 that fit with a pair of guide rails 612 and 612 provided on the other surface of the indexing movement base 61 are provided on the surface of the supported portion 621 on the mounting portion 622 side. (Only one guided groove is shown in FIG. 5), and the notched moving base 62 is provided by fitting the guided grooves 623 and 623 to the pair of guide rails 612 and 612. Is configured to be movable along the pair of guide rails 612 and 612 in the cutting feed direction indicated by the arrow Z. As shown in FIG. 2, the notch moving base 62 mounted on the indexing movement base 61 in this way is the other surface of the support frame 4 on which the mounting portion 622 is mounted on the indexing movement base 61. The first alignment means 5a and the second alignment means 5b are arranged so as to protrude from the side through the opening 44 to one surface side where the first alignment means 5a and the second alignment means 5b are mounted.

上記スピンドルユニット63は、第1の切削手段6aと第2の切削手段6bの切り込み移動基台62を形成する装着部622の下面にそれぞれ装着されている。このスピンドルユニット63は、それぞれ図4に示すようにスピンドルハウジング631と、該スピンドルハウジング631に回転可能に支持された回転スピンドル632と、該回転スピンドル632の一端に装着された切削ブレード633と、切削水を供給する切削水供給管634と、切削ブレード633を覆うブレードカバー635および回転スピンドル632を回転駆動する図示しないサーボモータを具備しており、回転スピンドル632の軸線方向が矢印Yで示す割り出し送り方向に沿って配設されている。なお、第1の切削手段6aの切削ブレード633と第2の切削手段6bの切削ブレード633は、互いに対向して配設されている。   The spindle unit 63 is mounted on the lower surface of the mounting portion 622 that forms the cutting movement base 62 of the first cutting means 6a and the second cutting means 6b. As shown in FIG. 4, the spindle unit 63 includes a spindle housing 631, a rotary spindle 632 rotatably supported by the spindle housing 631, a cutting blade 633 attached to one end of the rotary spindle 632, and a cutting tool. A cutting water supply pipe 634 that supplies water, a blade cover 635 that covers the cutting blade 633, and a servomotor (not shown) that rotationally drives the rotary spindle 632 are provided, and an index feed in which the axial direction of the rotary spindle 632 is indicated by an arrow Y It is arranged along the direction. Note that the cutting blade 633 of the first cutting means 6a and the cutting blade 633 of the second cutting means 6b are disposed to face each other.

図示の実施形態における第1の切削手段6aと第2の切削手段6bは、上記割り出し移動基台61、61を一対の案内レール432、432に沿って図2において矢印Yで示す割り出し送り方向に移動するための割り出し送り手段64、64を具備している。割り出し送り手段64、64は、それぞれ一対の案内レール432、432の間に平行に配設された雄ネジロッド641と、雄ネジロッド641の一端部を回転可能に支持する軸受642と、雄ネジロッド641の他端に連結され該雄ネジロッド641を正転または逆転駆動するパルスモータ643とからなっている。なお、雄ネジロッド641、641は、上記割り出し移動基台61、61に設けられた逃げ溝613、613とそれぞれ対応する高さ位置に配設されている。このように構成された割り出し送り手段64、64は、それぞれ雄ネジロッド641、641が上記割り出し移動基台61、61に形成された雌ネジ614、614に螺合される。従って、割り出し送り手段64、64は、それぞれパルスモータ643、643を駆動して雄ネジロッド641、641を正転または逆転駆動することにより、割り出し移動基台61、61を一対の案内レール432、432に沿って図2において矢印Yで示す割り出し送り方向に移動することができる。この割り出し移動基台61、61が移動する際に雄ネジロッド641、641が、割り出し移動基台61、61に設けられた逃げ溝613、613を挿通することにより、割り出し移動基台61、61はその移動が許容される。   In the illustrated embodiment, the first cutting means 6a and the second cutting means 6b are arranged so that the index moving bases 61 and 61 are moved along the pair of guide rails 432 and 432 in the index feed direction indicated by the arrow Y in FIG. Indexing feed means 64, 64 for moving are provided. The index feeding means 64 and 64 are formed of a male screw rod 641 disposed in parallel between the pair of guide rails 432 and 432, a bearing 642 that rotatably supports one end of the male screw rod 641, and a male screw rod 641. A pulse motor 643 is connected to the other end and drives the male screw rod 641 to rotate forward or backward. The male screw rods 641 and 641 are disposed at height positions corresponding to the escape grooves 613 and 613 provided in the indexing movement bases 61 and 61, respectively. In the index feeding means 64 and 64 configured as described above, male screw rods 641 and 641 are screwed into female screws 614 and 614 formed on the index moving bases 61 and 61, respectively. Accordingly, the index feeding means 64 and 64 drive the pulse motors 643 and 643 to drive the male screw rods 641 and 641 in the normal direction or the reverse direction, respectively, thereby causing the index moving bases 61 and 61 to be paired with the pair of guide rails 432 and 432. 2 can be moved in the index feed direction indicated by the arrow Y in FIG. When the index movement bases 61 and 61 move, the male threaded rods 641 and 641 pass through the clearance grooves 613 and 613 provided in the index movement bases 61 and 61, so that the index movement bases 61 and 61 are The movement is allowed.

また、図示の実施形態における第1の切削手段6aと第2の切削手段6bは、図4および図5に示すように上記切り込み移動基台62、62を一対の案内レール612、612に沿って矢印Zで示す切り込み送り方向に移動するための切り込み送り手段65、65を具備している。切り込み送り手段65、65は、それぞれ一対の案内レール612、612と平行に配設された雄ネジロッド651と、雄ネジロッド651の一端部を回転可能に支持する軸受652と、雄ネジロッド651の他端に連結され該雄ネジロッド651を正転または逆転駆動するパルスモータ653とからなっている。このように構成された切り込み送り手段65、65は、それぞれ雄ネジロッド651が上記切り込み移動基台62の被支持部621に形成された雌ネジ622aに螺合される。従って、切り込み送り手段65、65は、それぞれパルスモータ653を駆動して雄ネジロッド651を正転または逆転駆動することにより、切り込み移動基台62を一対の案内レール622、622に沿って図2および図5において矢印Zで示す切り込み送り方向に移動することができる。   Further, the first cutting means 6a and the second cutting means 6b in the illustrated embodiment are configured such that the cutting moving bases 62 and 62 are moved along a pair of guide rails 612 and 612 as shown in FIGS. Cutting feed means 65, 65 for moving in the cutting feed direction indicated by the arrow Z are provided. The incision feeding means 65 and 65 include a male screw rod 651 disposed in parallel with the pair of guide rails 612 and 612, a bearing 652 that rotatably supports one end of the male screw rod 651, and the other end of the male screw rod 651 And a pulse motor 653 for driving the male screw rod 651 in the normal direction or the reverse direction. In the cutting feed means 65 and 65 configured as described above, the male screw rod 651 is screwed into a female screw 622 a formed on the supported portion 621 of the cutting movement base 62. Accordingly, the notch feed means 65 and 65 drive the pulse motor 653 to drive the male screw rod 651 in the normal direction or the reverse direction, thereby moving the notch moving base 62 along the pair of guide rails 622 and 622 as shown in FIG. In FIG. 5, it can move in the cutting feed direction indicated by the arrow Z.

図示の実施形態における切削装置は、図1および図3に示すように上記第1の切削手段6aおよび第2の切削手段6bの周囲の雰囲気を吸引して排出する排気手段7を備えている。この排気手段7は、第1の切削手段6aおよび第2の切削手段6bに対して図3において矢印X1で示す切削送り方向の下流側に配設されている。排気手段7は、矩形状のハウジング71を具備している。このハウジング71は、図3に示すように第1の切削手段6aおよび第2の切削手段6b側の側壁711における上記防水カバー361の上側に形成された吸引開口711aを備えている。また、ハウジング71は、図1に示すように一方の端壁712の上部に形成された排気口712aを備えている。この排気口712aには排気ダクト72の一端が接続されており、排気ダクト72の他端は図示しない吸引手段に接続されている。   As shown in FIGS. 1 and 3, the cutting apparatus in the illustrated embodiment includes an exhaust unit 7 that sucks and discharges the atmosphere around the first cutting unit 6a and the second cutting unit 6b. The exhaust means 7 is disposed downstream of the first cutting means 6a and the second cutting means 6b in the cutting feed direction indicated by the arrow X1 in FIG. The exhaust means 7 includes a rectangular housing 71. As shown in FIG. 3, the housing 71 includes a suction opening 711a formed above the waterproof cover 361 on the side wall 711 on the first cutting means 6a and second cutting means 6b side. Further, the housing 71 includes an exhaust port 712a formed at the upper part of one end wall 712 as shown in FIG. One end of an exhaust duct 72 is connected to the exhaust port 712a, and the other end of the exhaust duct 72 is connected to suction means (not shown).

図3および図6を参照して説明を続けると、図示の実施形態における切削装置は、上記第1の切削手段6aおよび第2の切削手段6bの切削ブレード633の回転に起因して飛散される切削水を上記排気手段7に導く飛散水案内手段8を備えている。この飛散水案内手段8は、図6に示すように上壁81と、該上壁81の両側縁からぞれぞれ垂下して形成された側壁82および83とからなっており、その一端が第1の切削手段6aおよび第2の切削手段6bの切削ブレード633を覆うブレードカバー635に取付けられている。飛散水案内手段8の他端部は、図3に示すように排気手段7を構成するハウジング71の側壁711に形成された吸引開口711aを通してハウジング71内に挿入されている。なお、上記ブレードカバー635は、図示の実施形態においてはスピンドルハウジング631に装着された第1のカバー部材636と、該第1のカバー部材636に装着される第2のカバー部材637とからなっている。この第1のカバー部材636と第2のカバー部材637にそれぞれ切削水供給管634が配設されている。第1のカバー部材636の側面には雌ネジ穴636aと2個の位置決めピン636bが設けられており、第2のカバー部材637には上記雌ネジ穴636aと対応する位置に挿通穴637aが設けられている。また、第2のカバー部材637の第1のカバー部材636と対向する面には、上記2個の位置決めピン636bが嵌合する図示しない2個の凹部が形成されている。このように構成された第1のカバー部材636と第2のカバー部材637は、第2のカバー部材637に形成された図示しない2個の凹部を第1のカバー部材636に設けられた2個の位置決めピン636bに嵌合することによって位置決めする。そして、締結ボルト638を第1のカバー部材636の挿通穴637aに挿通し、第2のカバー部材637に設けられた雌ネジ穴636aと螺合することにより、第2のカバー部材637を第1のカバー部材636に装着する。   If the description is continued with reference to FIG. 3 and FIG. 6, the cutting apparatus in the illustrated embodiment is scattered due to the rotation of the cutting blade 633 of the first cutting means 6a and the second cutting means 6b. Scattered water guiding means 8 for guiding cutting water to the exhaust means 7 is provided. As shown in FIG. 6, the scattered water guiding means 8 is composed of an upper wall 81 and side walls 82 and 83 formed by hanging from both side edges of the upper wall 81, and one end thereof is formed. It is attached to a blade cover 635 that covers the cutting blades 633 of the first cutting means 6a and the second cutting means 6b. The other end of the scattered water guiding means 8 is inserted into the housing 71 through a suction opening 711a formed in the side wall 711 of the housing 71 constituting the exhaust means 7 as shown in FIG. The blade cover 635 includes a first cover member 636 mounted on the spindle housing 631 and a second cover member 637 mounted on the first cover member 636 in the illustrated embodiment. Yes. Cutting water supply pipes 634 are disposed on the first cover member 636 and the second cover member 637, respectively. A female screw hole 636a and two positioning pins 636b are provided on the side surface of the first cover member 636, and an insertion hole 637a is provided in the second cover member 637 at a position corresponding to the female screw hole 636a. It has been. Further, on the surface of the second cover member 637 facing the first cover member 636, two recesses (not shown) into which the two positioning pins 636b are fitted are formed. The first cover member 636 and the second cover member 637 configured as described above are provided with two recesses (not shown) formed in the second cover member 637 provided in the first cover member 636. The positioning is performed by fitting to the positioning pin 636b. Then, the fastening bolt 638 is inserted into the insertion hole 637a of the first cover member 636, and is screwed into the female screw hole 636a provided in the second cover member 637, thereby making the second cover member 637 the first cover. The cover member 636 is attached.

図2に戻って説明を続けると、図示の実施形態における切削装置は、第1のチャックテーブル34aおよび第2のチャックテーブル34bにそれぞれ保持された被加工物を洗浄する第1の洗浄手段9aおよび第2の洗浄手段9bを備えている。第1の洗浄手段9aは、門型の支持フレーム4の第1の柱部41に配設された洗浄水供給手段91aと該洗浄水供給手段91aに接続された噴射ノズル92aとからなっている。噴射ノズル92aは、複数の噴孔を備えてパイプ材によって形成されており、切削送り方向Xと直交する方向に延設され第1のチャックテーブル34aの移動経路上に配設されている。第2の洗浄手段9bは、門型の支持フレーム4の第2の柱部42に配設された洗浄水供給手段91bと該洗浄水供給手段91bに接続された噴射ノズル92bとからなっている。噴射ノズル92bも上記噴射ノズル92aと同様に複数の噴孔を備えてパイプ材によって形成されており、切削送り方向Xと直交する方向に延設され第2のチャックテーブル34bの移動経路上に配設されている。   Returning to FIG. 2 and continuing the description, the cutting apparatus in the illustrated embodiment has a first cleaning means 9a and a first cleaning means 9a for cleaning the workpieces respectively held by the first chuck table 34a and the second chuck table 34b. Second cleaning means 9b is provided. The first cleaning means 9a includes a cleaning water supply means 91a disposed on the first column portion 41 of the gate-shaped support frame 4 and an injection nozzle 92a connected to the cleaning water supply means 91a. . The injection nozzle 92a includes a plurality of injection holes and is formed of a pipe material. The injection nozzle 92a extends in a direction orthogonal to the cutting feed direction X and is disposed on the moving path of the first chuck table 34a. The second cleaning means 9b includes a cleaning water supply means 91b disposed on the second column portion 42 of the gate-shaped support frame 4 and an injection nozzle 92b connected to the cleaning water supply means 91b. . Similarly to the injection nozzle 92a, the injection nozzle 92b has a plurality of injection holes and is formed of a pipe material. The injection nozzle 92b extends in a direction orthogonal to the cutting feed direction X and is arranged on the movement path of the second chuck table 34b. It is installed.

また、図示の実施形態における切削装置は、上記第1の洗浄手段9aおよび第2の洗浄手段9bによって洗浄された被加工物を乾燥する乾燥手段10を具備している。この乾燥手段10はスピンナー乾燥手段からなっている。この乾燥手段10は、第1のチャックテーブル34aおよび第2のチャックテーブル34bの図2に示す被加工物着脱位置の割り出し送り方向Yの延長線上に配置されている。   Further, the cutting apparatus in the illustrated embodiment includes a drying unit 10 that dries the workpiece cleaned by the first cleaning unit 9a and the second cleaning unit 9b. The drying means 10 is a spinner drying means. The drying means 10 is disposed on an extension line in the index feed direction Y of the workpiece attaching / detaching position shown in FIG. 2 of the first chuck table 34a and the second chuck table 34b.

図1に戻って説明を続けると、上記装置ハウジング2には、半導体ウエーハ等の被加工物をストックするカセット111を含むカセット機構11と、該カセット111に収納された被加工物を仮置き領域12に搬出するとともに切削作業終了後の被加工物をカセット111に搬入する被加工物搬出・搬入手段13と、仮置き領域12と上記第1のチャックテーブル34aおよび第2のチャックテーブル34bと乾燥手段10との間で被加工物を搬送する被加工物搬送手段14が配設されている。カセット111は、カセット機構11の図示しない昇降手段のカセットテーブル上に載置されるようになっている。カセット111には環状のフレーム15に装着された保護テープ16の表面に貼着された半導体ウエーハWが収容されている。また、装置ハウジング2には、操作パネル17が配設されている。なお、図示の実施形態における切削装置においては、上記第1のアライメント手段5aと第2のアライメント手段5bを前面にしてオペレータの操作位置が形成され、操作パネル17はオペレータと対面する位置に配設されている。   Returning to FIG. 1 and continuing the description, the apparatus housing 2 includes a cassette mechanism 11 including a cassette 111 for stocking workpieces such as semiconductor wafers, and a temporary storage area for the workpieces stored in the cassette 111. The workpiece unloading / loading means 13 for unloading to the cassette 12 and loading the workpiece after the cutting operation into the cassette 111, the temporary storage area 12, the first chuck table 34a and the second chuck table 34b, and drying. Workpiece conveying means 14 for conveying the workpiece to and from the means 10 is provided. The cassette 111 is placed on a cassette table of lifting means (not shown) of the cassette mechanism 11. The cassette 111 accommodates a semiconductor wafer W adhered to the surface of the protective tape 16 attached to the annular frame 15. An operation panel 17 is disposed in the device housing 2. In the cutting apparatus in the illustrated embodiment, the operator's operation position is formed with the first alignment means 5a and the second alignment means 5b in front, and the operation panel 17 is disposed at a position facing the operator. Has been.

図示の実施形態における切削装置は以上のように構成されており、以下被加工物としての半導体ウエーハを切削する加工方法について主に図1および図2を参照して説明する。
先ず、カセット機構11の図示しない昇降手段を作動してカセット111を適宜の高さに位置付ける。カセット111が適宜の高さに位置付けられたら、被加工物搬出・搬入機構13を作動しカセット111に収容された半導体ウエーハWを仮置き領域12に搬出する。仮置き領域12に搬出された半導体ウエーハWは、ここで中心位置合わせが行われる。仮置き領域12で中心位置合わせが行われた半導体ウエーハWは、被加工物搬送手段14によって第1のチャックテーブル34a上に搬送される。このとき第1のチャックテーブル34aは、図2に示す被加工物着脱位置に位置付けられている。第1のチャックテーブル34a上に載置された半導体ウエーハWは、図示しない吸引手段を作動することにより、第1のチャックテーブル34a上に吸引保持される(第1の被加工物保持工程)。
The cutting apparatus in the illustrated embodiment is configured as described above. Hereinafter, a processing method for cutting a semiconductor wafer as a workpiece will be mainly described with reference to FIGS. 1 and 2.
First, the raising / lowering means (not shown) of the cassette mechanism 11 is operated to position the cassette 111 at an appropriate height. When the cassette 111 is positioned at an appropriate height, the workpiece unloading / loading mechanism 13 is operated to unload the semiconductor wafer W accommodated in the cassette 111 to the temporary placement region 12. The semiconductor wafer W carried out to the temporary placement area 12 is center-aligned here. The semiconductor wafer W whose center has been aligned in the temporary placement region 12 is transferred onto the first chuck table 34a by the workpiece transfer means 14. At this time, the first chuck table 34a is positioned at the workpiece attaching / detaching position shown in FIG. The semiconductor wafer W placed on the first chuck table 34a is sucked and held on the first chuck table 34a by operating a suction means (not shown) (first workpiece holding step).

上述したように半導体ウエーハWを吸引保持した第1のチャックテーブル34aは、第1の切削送り手段37aの作動により第1のアライメント手段5aの下方であるアライメント領域に移動せしめられる。次に、第1のアライメント手段5aの移動手段52を作動して、第1のアライメント手段5aの撮像手段53を第1のチャックテーブル34aの直上に位置付ける。撮像手段53を第1のチャックテーブル34aの直上に位置付けたならば、撮像手段53によって第1のチャックテーブル34a上に保持された半導体ウエーハWの表面が撮像され、半導体ウエーハWの表面に形成された切削領域であるストリートが検出される。そして、第1の切削手段6aの割り出し送り手段64および第2の切削手段6bの割り出し送り手段64を作動して、それぞれの切削ブレード633と上記撮像手段53によって検出されたストリートとの位置合わせを行うアライメントが実施される(第1のアライメント工程)。   As described above, the first chuck table 34a that sucks and holds the semiconductor wafer W is moved to the alignment region below the first alignment means 5a by the operation of the first cutting feed means 37a. Next, the moving means 52 of the first alignment means 5a is operated to position the imaging means 53 of the first alignment means 5a directly above the first chuck table 34a. If the image pickup means 53 is positioned immediately above the first chuck table 34a, the surface of the semiconductor wafer W held on the first chuck table 34a is picked up by the image pickup means 53 and formed on the surface of the semiconductor wafer W. A street which is a cut area is detected. Then, the index feeding means 64 of the first cutting means 6 a and the index feeding means 64 of the second cutting means 6 b are operated to align the respective cutting blades 633 with the streets detected by the imaging means 53. The alignment to be performed is performed (first alignment step).

第1のチャックテーブル34a上に保持された半導体ウエーハWに対して第1のアライメント工程を実施している間に、被加工物搬出・搬入機構13を作動しカセット111に収容された半導体ウエーハWを仮置き領域12に搬出する。仮置き領域12に搬出された半導体ウエーハWは、ここで中心位置合わせが行われる。仮置き領域12で中心位置合わせが行われた半導体ウエーハWは、被加工物搬送手段14によって被加工物着脱位置に位置付けられている第2のチャックテーブル34b上に搬送される。第2のチャックテーブル34b上に載置された半導体ウエーハWは、図示しない吸引手段を作動することにより、第2のチャックテーブル34b上に吸引保持される(第2の被加工物保持工程)。   While the first alignment process is being performed on the semiconductor wafer W held on the first chuck table 34a, the workpiece carry-in / load-in mechanism 13 is operated to accommodate the semiconductor wafer W accommodated in the cassette 111. Are carried out to the temporary storage area 12. The semiconductor wafer W carried out to the temporary placement area 12 is center-aligned here. The semiconductor wafer W center-aligned in the temporary placement region 12 is transferred onto the second chuck table 34b positioned at the workpiece attachment / detachment position by the workpiece transfer means 14. The semiconductor wafer W placed on the second chuck table 34b is sucked and held on the second chuck table 34b by operating a suction means (not shown) (second workpiece holding step).

第2のチャックテーブル34b上に半導体ウエーハWを吸引保持したならば、第2のチャックテーブル34bは第2の切削送り手段37bの作動により第2のアライメント手段5bの下方であるアライメント領域に移動せしめられる。そして、第2のアライメント手段5bによって第2のチャックテーブル34bに保持された半導体ウエーハWの切削すべき領域を検出する第2のアライメント工程を実施する。なお、第2のアライメント工程は、上述した第1のアライメント工程と同様に実施する。   If the semiconductor wafer W is sucked and held on the second chuck table 34b, the second chuck table 34b is moved to an alignment region below the second alignment means 5b by the operation of the second cutting feed means 37b. It is done. Then, a second alignment step of detecting a region to be cut of the semiconductor wafer W held on the second chuck table 34b by the second alignment means 5b is performed. The second alignment process is performed in the same manner as the first alignment process described above.

一方、上記第1のアライメント工程が終了したならば、第1のチャックテーブル34aを切削領域に移動し、第1の切削手段6aの割り出し送り手段64を作動して図7に示すように第1の切削手段6aの切削ブレード633を第1のチャックテーブル34aに保持された半導体ウエーハWに形成された中央のストリートと対応する位置に位置付け、更に切り込み送り手段65を作動して切削ブレード633を下降して所定の切り込み送り位置に位置付ける。また、第2の切削手段6bの割り出し送り手段64を作動して第2の切削手段6bの切削ブレード633を第1のチャックテーブル34a保持された半導体ウエーハWに形成された最端のストリートと対応する位置に位置付け、更に切り込み送り手段65を作動して切削ブレード633を下降して所定の切り込み送り位置に位置付ける。そして、第1の切削手段6aの切削ブレード633および第2の切削手段6bの切削ブレード633を回転しつつ第1の切削送り手段37aを作動して第1のチャックテーブル34aを図7において矢印X1で示す切削送り方向に移動することにより、第1のチャックテーブル34aに保持された半導体ウエーハWは高速回転する第1の切削手段6aの切削ブレード633および第2の切削手段6bの切削ブレード633の作用を受けて、上記所定のストリートに沿って切削される(第1の切削工程)。この第1の切削工程においては、切削水供給管634、634から切削水が切削部に供給される。   On the other hand, when the first alignment step is completed, the first chuck table 34a is moved to the cutting region, and the index feeding means 64 of the first cutting means 6a is operated to perform the first as shown in FIG. The cutting blade 633 of the cutting means 6a is positioned at a position corresponding to the central street formed in the semiconductor wafer W held by the first chuck table 34a, and the cutting feed means 65 is further operated to lower the cutting blade 633. Then, it is positioned at a predetermined cutting feed position. Further, the index feed means 64 of the second cutting means 6b is operated to correspond the cutting blade 633 of the second cutting means 6b to the endmost street formed on the semiconductor wafer W held by the first chuck table 34a. Then, the cutting feed means 65 is actuated to lower the cutting blade 633 and position it at a predetermined cutting feed position. Then, the first cutting feed means 37a is operated while rotating the cutting blade 633 of the first cutting means 6a and the cutting blade 633 of the second cutting means 6b, and the first chuck table 34a is moved to the arrow X1 in FIG. The semiconductor wafer W held by the first chuck table 34a is moved at a high speed by the cutting blade 633 of the first cutting means 6a and the cutting blade 633 of the second cutting means 6b. Under the action, cutting is performed along the predetermined street (first cutting step). In the first cutting process, cutting water is supplied from the cutting water supply pipes 634 and 634 to the cutting portion.

上記第1の切削工程においては、図6に示すように第1の切削手段6aおよび第2の切削手段6bの切削ブレード633が共に矢印639で示すように回転せしめられる。この結果、切削水供給管634、634から供給された切削水は、図3に示すように切削ブレード633の回転に起因して飛散水案内手段8に向けて飛散する。この飛散された切削水は、飛散水案内手段8に案内されて排気手段7のハウジング71内に導かれる。このようにしてハウジング71内に導かれた飛散された切削水は、ハウジング71の吸引開口711aから吸引された第1の切削手段6aおよび第2の切削手段6bの周囲の雰囲気とともに排気口712aおよび排気ダクト73を通して排出される。従って、切削ブレード633の回転に起因して飛散された切削水が第1の切削手段6aおよび第2の切削手段6bの切り込み送り手段65に付着することはなく、切り込み送り手段65が飛散された切削水によって汚染されることはない。   In the first cutting step, as shown in FIG. 6, the cutting blades 633 of the first cutting means 6a and the second cutting means 6b are both rotated as indicated by an arrow 639. As a result, the cutting water supplied from the cutting water supply pipes 634 and 634 scatters toward the scattered water guide means 8 due to the rotation of the cutting blade 633 as shown in FIG. The scattered cutting water is guided by the scattered water guide means 8 and guided into the housing 71 of the exhaust means 7. In this way, the scattered cutting water guided into the housing 71 and the atmosphere around the first cutting means 6a and the second cutting means 6b sucked from the suction opening 711a of the housing 71 and the exhaust ports 712a and 712a. It is discharged through the exhaust duct 73. Therefore, the cutting water scattered due to the rotation of the cutting blade 633 does not adhere to the cutting feed means 65 of the first cutting means 6a and the second cutting means 6b, and the cutting feed means 65 is scattered. It is not contaminated by cutting water.

上述したように第1のチャックテーブル34aに保持された半導体ウエーハWを所定のストリートに沿って切削したならば、第1の切削手段6aの割り出し送り手段64および第2の切削手段6bの割り出し送り手段64を作動して第1の切削手段6aおよび第2の切削手段6bをストリートの間隔分だけ図7において矢印Y1で示す割り出し送り方向に移動し(割り出し送り工程)、上記第1の切削工程を実施する。このようにして、割り出し送り工程と第1の切削工程を繰り返し実施することにより、半導体ウエーハWは所定方向に形成された全てのストリートに沿って切削される。所定方向に形成された全てのストリートに沿って半導体ウエーハWを切削したならば、半導体ウエーハWを保持した第1のチャックテーブル34aを90度回転させる。そして、第1のチャックテーブル34aに保持された半導体ウエーハWに上記割り出し送り工程と第1の切削工程を繰り返し実施することにより、半導体ウエーハWは格子状に形成された全てのストリートに沿って切削され、個々のチップに分割される。なお、半導体ウエーハWは個々のチップに分割されても環状のフレーム15に装着された保護テープ16に貼着されているので、バラバラにはならずウエーハの形態が維持されている。   As described above, when the semiconductor wafer W held on the first chuck table 34a is cut along a predetermined street, the index feed means 64 of the first cutting means 6a and the index feed of the second cutting means 6b. By operating the means 64, the first cutting means 6a and the second cutting means 6b are moved in the index feed direction indicated by the arrow Y1 in FIG. 7 by the street interval (index feed process), and the first cutting process described above. To implement. In this manner, the semiconductor wafer W is cut along all the streets formed in a predetermined direction by repeatedly performing the index feeding process and the first cutting process. When the semiconductor wafer W is cut along all the streets formed in the predetermined direction, the first chuck table 34a holding the semiconductor wafer W is rotated by 90 degrees. Then, the semiconductor wafer W is cut along all the streets formed in a lattice shape by repeatedly performing the indexing feeding step and the first cutting step on the semiconductor wafer W held on the first chuck table 34a. And divided into individual chips. Even if the semiconductor wafer W is divided into individual chips, the semiconductor wafer W is stuck to the protective tape 16 attached to the annular frame 15, so that the form of the wafer is maintained without being separated.

上述した第1の切削工程が終了したならば、上記第2のアライメント工程が実施された半導体ウエーハWを保持した第2のチャックテーブル34bを切削領域に移動する。そして、上記第1の切削工程を実施した後に第1の切削手段6aおよび第2の切削手段6bによって上述した第1の切削工程と同様に第2のチャックテーブル34bに保持された半導体ウエーハWに対して第2の切削工程を実施する。この第2の切削工程においては、図6に示すように第1の切削手段6aおよび第2の切削手段6bの切削ブレード633が共に矢印639で示すように回転せしめられる。この結果、切削水供給管634、634から供給された切削水は、図3に示すように切削ブレード633の回転に起因して飛散水案内手段8に向けて飛散する。この飛散された切削水は、飛散水案内手段8に案内されて排気手段7のハウジング71内に導かれる。このようにしてハウジング71内に導かれた飛散された切削水は、ハウジング71の吸引開口711aから吸引された第1の切削手段6aおよび第2の切削手段6bの周囲の雰囲気とともに排気口712aおよび排気ダクト73を通して排出される。従って、切削ブレード633の回転に起因して飛散された切削水が第1の切削手段6aおよび第2の切削手段6bの切り込み送り手段65に付着することはなく、切り込み送り手段65が飛散された切削水によって汚染されることはない。   When the first cutting process described above is completed, the second chuck table 34b holding the semiconductor wafer W on which the second alignment process is performed is moved to the cutting area. Then, after the first cutting step, the semiconductor wafer W held on the second chuck table 34b by the first cutting means 6a and the second cutting means 6b as in the first cutting step described above is applied to the semiconductor wafer W held on the second chuck table 34b. On the other hand, the second cutting step is performed. In the second cutting step, as shown in FIG. 6, the cutting blades 633 of the first cutting means 6a and the second cutting means 6b are both rotated as indicated by an arrow 639. As a result, the cutting water supplied from the cutting water supply pipes 634 and 634 scatters toward the scattered water guide means 8 due to the rotation of the cutting blade 633 as shown in FIG. The scattered cutting water is guided by the scattered water guide means 8 and guided into the housing 71 of the exhaust means 7. In this way, the scattered cutting water guided into the housing 71 and the atmosphere around the first cutting means 6a and the second cutting means 6b sucked from the suction opening 711a of the housing 71 and the exhaust ports 712a and 712a. It is discharged through the exhaust duct 73. Therefore, the cutting water scattered due to the rotation of the cutting blade 633 does not adhere to the cutting feed means 65 of the first cutting means 6a and the second cutting means 6b, and the cutting feed means 65 is scattered. It is not contaminated by cutting water.

上述した第2の切削工程を実施している間に、第1の切削工程が終了した半導体ウエーハWを保持した第1のチャックテーブル34aは加工領域から被加工物着脱位置に向けて移動せしめられる。このとき、第1の洗浄手段9aを作動し噴射ノズル92aから洗浄水を噴射する。この結果、第1の切削工程が実施された半導体ウエーハWに噴射ノズル92aから洗浄水が噴射されるので、半導体ウエーハWに付着している切削屑が洗浄され除去される(第1の洗浄工程)。   While the second cutting process described above is being performed, the first chuck table 34a holding the semiconductor wafer W after the completion of the first cutting process is moved from the processing region toward the workpiece attachment / detachment position. . At this time, the 1st washing | cleaning means 9a is operated and washing water is injected from the injection nozzle 92a. As a result, the cleaning water is sprayed from the injection nozzle 92a onto the semiconductor wafer W on which the first cutting process has been performed, so that the cutting waste adhering to the semiconductor wafer W is cleaned and removed (first cleaning process). ).

第1の洗浄工程が実施されたならば、被加工物搬送手段12を作動して第1のチャックテーブル34aに保持された洗浄済みの半導体ウエーハWを乾燥手段10に搬送する。乾燥手段10に搬送された半導体ウエーハWは、ここでスピンナー乾燥される(第1の乾燥工程)。このようにして第1の乾燥工程が実施された半導体ウエーハWは、被加工物搬送手段14によって乾燥手段から搬出され次工程に搬送される。   When the first cleaning step is performed, the workpiece transfer means 12 is operated to transfer the cleaned semiconductor wafer W held on the first chuck table 34 a to the drying means 10. The semiconductor wafer W conveyed to the drying means 10 is spinner dried here (first drying step). The semiconductor wafer W that has been subjected to the first drying step in this way is unloaded from the drying means by the workpiece transfer means 14 and transferred to the next process.

なお、上記第1の洗浄工程が実施された第1のチャックテーブル34a上の半導体ウエーハWが乾燥手段10に搬送されたならば、第1のチャックテーブル34aに次の半導体ウエーハWを保持する上記第1の被加工物保持工程を実施する。そして、上記第1のアライメント工程、第1の切削工程、第1の洗浄工程、第1の乾燥工程を順次実施する。   If the semiconductor wafer W on the first chuck table 34a on which the first cleaning step has been performed is transferred to the drying means 10, the next semiconductor wafer W is held on the first chuck table 34a. A first workpiece holding step is performed. Then, the first alignment step, the first cutting step, the first cleaning step, and the first drying step are sequentially performed.

一方、上述した第2の切削工程が実施された半導体ウエーハWを保持した第2のチャックテーブル34bは、第1のチャックテーブル34aに保持された次の半導体ウエーハWに対して第2の切削工程を実施している間に加工領域から被加工物着脱位置に向けて移動せしめられる。このとき、第2の洗浄手段9bを作動し噴射ノズル92bから洗浄水を噴射する。この結果、第2の切削工程が実施された半導体ウエーハWに噴射ノズル92bから洗浄水が噴射されるので、半導体ウエーハWに付着している切削屑が洗浄され除去される(第2の洗浄工程)。   On the other hand, the second chuck table 34b holding the semiconductor wafer W on which the above-described second cutting process has been performed has a second cutting process on the next semiconductor wafer W held on the first chuck table 34a. Is carried out from the machining area toward the workpiece attachment / detachment position. At this time, the second cleaning means 9b is activated to inject cleaning water from the injection nozzle 92b. As a result, the cleaning water is sprayed from the spray nozzle 92b onto the semiconductor wafer W on which the second cutting process has been performed, so that the cutting waste adhering to the semiconductor wafer W is cleaned and removed (second cleaning process). ).

第2の洗浄工程が実施されたならば、被加工物搬送手段12を作動して第2のチャックテーブル34bに保持された洗浄済みの半導体ウエーハWを乾燥手段8に搬送する。乾燥手段10に搬送された半導体ウエーハWは、上述した第1の乾燥工程と同様に第2の乾燥工程を実施する。このようにして第2の乾燥工程が実施された半導体ウエーハWは、被加工物搬送手段14によって乾燥手段から搬出され次工程に搬送される。   When the second cleaning step is performed, the workpiece transfer means 12 is operated to transfer the cleaned semiconductor wafer W held on the second chuck table 34 b to the drying means 8. The semiconductor wafer W transported to the drying means 10 performs the second drying step in the same manner as the first drying step described above. The semiconductor wafer W that has been subjected to the second drying process in this way is unloaded from the drying means by the workpiece transfer means 14 and transferred to the next process.

なお、上記第2の洗浄工程が実施された第2のチャックテーブル34b上の半導体ウエーハWが乾燥手段10に搬送されたならば、第2のチャックテーブル34bに次の半導体ウエーハWを保持する上記第2の被加工物保持工程を実施する。そして、上記第2のアライメント工程、第2の切削工程、第2の洗浄工程、第2の乾燥工程を順次実施する。   If the semiconductor wafer W on the second chuck table 34b on which the second cleaning step has been performed is transported to the drying means 10, the next semiconductor wafer W is held on the second chuck table 34b. A second workpiece holding step is performed. Then, the second alignment process, the second cutting process, the second cleaning process, and the second drying process are sequentially performed.

以上、本発明を図示の実施形態に基づいて説明したが、本発明は実施形態のみに限定されるものではなく、本発明の趣旨の範囲で種々の変形は可能である。例えば、図示の実施形態においては2台のチャックテーブルおよび2台の切削手段を備えた例を示したが、1台のチャックテーブルおよび1台の切削手段を備えた切削装置に本発明を適用してもよい。   Although the present invention has been described based on the illustrated embodiment, the present invention is not limited to the embodiment, and various modifications are possible within the scope of the gist of the present invention. For example, in the illustrated embodiment, an example in which two chuck tables and two cutting means are provided is shown. However, the present invention is applied to a cutting apparatus having one chuck table and one cutting means. May be.

本発明に従って構成された切削装置の一部を破断して示す斜視図。The perspective view which fractures | ruptures and shows a part of cutting device comprised according to this invention. 図1に示す切削装置の要部斜視図。The principal part perspective view of the cutting device shown in FIG. 図1におけるA―A断面図。FIG. 2 is a cross-sectional view taken along line AA in FIG. 図1に示す切削装置の第1の切削手段および第2の切削手段を示す斜視図。The perspective view which shows the 1st cutting means and the 2nd cutting means of the cutting apparatus shown in FIG. 図2におけるB―B断面図。BB sectional drawing in FIG. 図1に示す切削装置に装備される飛散水案内手段の斜視図。The perspective view of the splash water guide means with which the cutting apparatus shown in FIG. 1 is equipped. 図1に示す切削装置に装備される第1の切削手段の切削ブレードと第2の切削手段の切削ブレードの切削位置を示す説明図。Explanatory drawing which shows the cutting position of the cutting blade of the 1st cutting means with which the cutting apparatus shown in FIG. 1 is equipped, and the cutting blade of the 2nd cutting means.

符号の説明Explanation of symbols

2:装置ハウジング
3: チャックテーブル機構
31a:第1の案内レール
31b:第2の案内レール
32a:第1の支持基台
32b:第2の支持基台
34a:第1のチャックテーブル
34b:第2のチャックテーブル
36a:第1のブレード検出手段
36b:第2のブレード検出手段
37a:第1の切削送り手段
37b:第2の切削送り手段
4:門型の支持フレーム
5a:第1のアライメント手段5a
5b:第2のアライメント手段
52:移動手段
53:撮像手段
6a:第1の切削手段
6b:第2の切削手段
61:割り出し移動基台
62:切り込み移動基台
63:スピンドルユニット
632:回転スピンドル
633:切削ブレード
64:割り出し送り手段
65:切り込み送り手段
7:排気手段
71:排気手段のハウジング
72:排気ダクト
8:飛散水案内手段
9a:第1の洗浄手段
91a:洗浄水供給手段
92a:噴射ノズル
9b:第2の洗浄手段
91b:洗浄水供給手段
92b:噴射ノズル
10:乾燥手段
11: カセット機構
111: カセット
12:仮置き領域
13:被加工物搬出・搬入手段
14:被加工物搬送手段
15:被加工物搬送手段
16:保護テープ
17:操作パネル
2: device housing 3: chuck table mechanism 31a: first guide rail 31b: second guide rail 32a: first support base 32b: second support base 34a: first chuck table 34b: second Chuck table 36a: first blade detection means 36b: second blade detection means 37a: first cutting feed means 37b: second cutting feed means 4: portal support frame 5a: first alignment means 5a
5b: second alignment means 52: moving means 53: imaging means 6a: first cutting means 6b: second cutting means 61: indexing movement base 62: cutting movement base 63: spindle unit 632: rotating spindle 633 : Cutting blade 64: Index feed means 65: Cut feed means 7: Exhaust means 71: Exhaust means housing 72: Exhaust duct 8: Splash water guide means 9a: First cleaning means 91a: Wash water supply means 92a: Injection nozzle 9b: Second cleaning means 91b: Washing water supply means 92b: Injection nozzle 10: Drying means 11: Cassette mechanism 111: Cassette 12: Temporary storage area 13: Workpiece unloading / carrying means 14: Workpiece conveying means 15 : Workpiece conveying means 16: Protective tape 17: Operation panel

Claims (2)

被加工物を保持する被加工物保持面を有するチャックテーブルと、該チャックテーブルに保持された被加工物に切削加工を施す切削手段と、該チャックテーブルを切削送り方向に切削送りする切削ブレードを備えた切削送り手段と、該切削手段を該チャックテーブルの該被加工物保持面に対して垂直な方向に切り込み送りする切り込み送り手段と、を具備する切削装置において、
該切削送り手段の周囲の雰囲気を吸引して排出する排気手段と、
該切削ブレードの回転に起因して飛散される切削水を該排気手段に導く飛散水案内手段と、を具備し、
該排気手段は、該チャックテーブルの切削送り方向下流側に配設され、該切り込み送り手段の側に側壁を有しこの側壁と該飛散水案内手段の上方との間に吸引開口を有したハウジングを備え、このハウジングの上部に吸引手段に接続された排気口を備えている、
ことを特徴とする切削装置。
A chuck table having a workpiece holding surface for holding the workpiece, a cutting means for cutting the workpiece held on the chuck table, and a cutting blade for cutting and feeding the chuck table in the cutting feed direction. A cutting apparatus comprising: a cutting feed means provided; and a cutting feed means for cutting and feeding the cutting means in a direction perpendicular to the workpiece holding surface of the chuck table.
An exhaust means for sucking and discharging the atmosphere around the cutting feed means;
Spattered water guiding means for guiding cutting water scattered due to rotation of the cutting blade to the exhaust means ,
The exhaust means is disposed downstream of the chuck table in the cutting feed direction, and has a side wall on the cut feed means side and a suction opening between the side wall and the scattered water guide means. An exhaust port connected to the suction means at the top of the housing ,
The cutting device characterized by the above.
該切削手段は第1の切削手段と第2の切削手段とを具備し、該第1の切削手段の切削ブレードと該第2の切削手段の切削ブレードが互いに対向して配設され、該両切削ブレードは同方向に回転せしめられる、請求項1記載の切削装置。 The cutting means includes a first cutting means and a second cutting means, and the cutting blade of the first cutting means and the cutting blade of the second cutting means are disposed so as to face each other. cutting blade is rotated in the same direction, according to claim 1 Symbol placement of the cutting device.
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