JP4759116B2 - 核磁気共鳴用磁場を形成するrfコイル、そのコイルによる磁場形成方法、そのコイルを用いた磁気共鳴システム、およびrfコイルシステム - Google Patents

核磁気共鳴用磁場を形成するrfコイル、そのコイルによる磁場形成方法、そのコイルを用いた磁気共鳴システム、およびrfコイルシステム Download PDF

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Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、磁気共鳴(MR)イメージング・システムに関し、より具体的には、MRイメージング・システム内で用いられる無線周波数(RF)コイル系に関する。
【0002】
【従来の技術】
磁気共鳴(MR)イメージング・システムは、歳差運動する核磁気モーメントから検出される無線周波数(RF)信号に基づいて、撮像空間(imaging volume)内の患者又はその他の物体の画像を形成する。撮像空間の全体にわたって、主マグネットが静磁場すなわちB0 磁場を発生する。同様に、MRイメージング・システム内の勾配コイルを用いて、MRイメージング・データ取得サイクルの選択された部分において、B0 静磁場内で互いに直交するx,y,z座標に沿って磁場勾配を生じるように迅速に切り換えを行う。この間に、無線周波数(RF)コイルが、撮像空間内でB0 磁場に垂直なB1 磁場と呼ばれるRF磁場パルスを発生し、核を励起させる。これにより、核は励起して、共鳴RF周波数で所定の軸の周りを歳差運動する。これらの核スピンは、適正な読み出し磁場勾配が核スピンに印加されたときに、空間依存性のRF応答信号を発生する。RFコイルは又、歳差運動している核スピンからのRF応答信号を検出することが可能であり、検出された信号をMRイメージング・システムへ転送する。MRイメージング・システムは、検出されたRF応答信号を結合して、人体又は物体の撮像空間内に位置する部分の画像を形成する。
【0003】
正確な画像を形成するために、B0 静磁場、磁場勾配及びRFコイルによって発生されるB1 磁場は、撮像空間の全体にわたって空間的に均一である必要がある。従来、均一な磁場及び勾配を発生するために、主マグネット、勾配コイル及びRFコイルは、患者を完全に包囲するような円筒形を有している。このようなシステムにおいては、B0 磁場は典型的には水平であり、円筒のボア(中孔)の長さ方向の軸に平行に走行する。形状が円筒形であり、且つ患者を完全に包囲していることから、高度に均一な撮像空間が保証される。しかしながら、円筒形構成は、患者及び撮像空間への接近性(アクセス)が厳しく制限される点では不利である。幾何形状が円筒形であると、MRイメージング走査中に医師が相互作用的な処置を行うことが、不可能ではないまでも、困難になる。加えて、多くの患者にとっては、これらのような従来のMRシステムの円筒形ボアは窮屈であり、検査し得る患者の体格を制限すると共に、一部の患者には閉所恐怖症的な反応を生じる場合がある。従って、従来の円筒形の幾何形状に代わる代替構成が必要とされる。
【0004】
この要求に応えて、開放型MRイメージング・システムが開発された。開放型MRシステムにおいては、撮像空間は、極めて接近し易く、患者にとっても医師にとっても開放性がある。これにより、医療的処置のために撮像空間に接近することが可能になると共に、一部の患者の閉所恐怖的な反応を軽減することができる。一部の開放型MRシステムは、撮像空間の相対向する側に配置されている2つの円板状の磁極片を用いており、垂直なB0 磁場を有する。これらのシステムは、やはり平坦で且つ円板状の形状である勾配コイル及びRFコイルを有する。これらの開放型MRシステムは、2つの円板状の磁極片の間の空間において、医師又は患者に多大な接近量を提供する。他の開放型MRシステムは、撮像空間の相対向する側に配置されている2つのトロイド形状の磁極片を用いる。水平B0 磁場を有するように設定されているときには、患者又は医師は、トロイドのボアを通って、又は側方から撮像空間に接近することができる。磁極片がトロイド形状であるので、対応する勾配コイル及びRFコイルも同様の形状とし、且つ磁極片同士の間の空間を最大限にするように平坦にする必要がある。このように、開放型MRシステムは、従来の閉鎖型システム設計に固有の接近性及び閉所恐怖症の問題を軽減する。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、開放型MRシステムは、撮像空間内に均一な磁場を発生することがより困難である点では不利である。具体的には、開放型MRシステムのRFコイル及びその他の構成要素に要求される平坦性の問題がある。同様に、開放型MRシステムは、患者を完全に包囲している訳ではないので、B0 静磁場、勾配磁場及びB1 磁場の高度の均一性を得ることは困難である。
【0006】
典型的な開放型システムのRFコイルの一例は、二重バタフライ型設計であるが、この設計は、導体に近接した位置で特に不均一である。ホイール・スポーク構造の形態を有する平坦なバード・ケージ(鳥かご)型設計を用いる場合もあるが、この設計も又、導体の付近で不均一である。尚、ここでは、高い均一性を有するB1 磁場を備えたシステムは、撮像空間(imaging volume)の全体にわたってRF信号に対して実質的に均等な感度を有するものとする。B1 磁場に不均一性が存在するときには、不均一な区域の感度は増大しているか又は減少している。この増大又は減少によって、検出されるRF信号が多くなるか又は少なくなり、再構成後のMR画像に明るい点又は暗い点が生ずる。従って、例えば、典型的な二重バタフライ型設計又は平坦バード・ケージ型設計における導体の付近の区域は、撮像空間の残りの部分よりも感度が高く、これにより、画像内に非常に明るい区域又はホット・スポットが形成される。
【0007】
又、典型的な平坦型のRFコイル設計のもう1つの短所は、感度が撮像空間の外部で十分に速く降下せず、撮像空間の外部にRF磁場を生じて画像に影響を及ぼすことである。撮像空間の内部では、B0 磁場、勾配磁場及びRF磁場は、可能な限り均一であるように設計されている。しかしながら、撮像空間の外部では、均一性はそれほど制御されていない。結果として、撮像空間の外部の区域では、不均一なB0 磁場及びB1 磁場と、非線形の勾配磁場との重ね合わせから、信号の折り返し(エイリアシング)が生ずる可能性があり、このとき、撮像空間の外部の区域は、撮像空間の内部の区域と同じ周波数を有する信号を発生する。これら外部の信号は、検出されて、画像内に明るい点を生ずる可能性がある。撮像空間の外部でRF磁場感度を急に低下させることにより、外部の磁場と撮像空間の内部の磁場との相互作用が減少する。典型的な従来技術では、戻り電流の経路がRFシールドを通過し、実際には、直進導体の下方で直進している。この結果、コイルの中心に沿った直進の戻り電流経路が生じ、この場合には、戻り電流経路は、感度の急な降下を生ずるためには用いられていない。このようなものとして、現在のRFコイル設計は典型的には、撮像空間の外部にRF迷走磁場を生じ、この迷走磁場が勾配コイルの非線形性及びマグネットの不均一性と組み合わさって、撮像空間の外部の遠方からの信号も画像内に折り込まれてしまう可能性がある。従って、MRシステムにおいては、撮像空間の外部からの信号が画像に影響を及ぼさないように、撮像空間の外部での感度の非常に急な降下を生ずることが望ましい。
【0008】
これらの短所に加え、開放型MRIシステム用のRFコイルの設計は、他のいくつかの制約を有している。例えば、RFコイルの直径は典型的には、磁極片の直径までに制限される。平坦型RFコイルの直径、及び撮像空間のイソセンタまでのコイルの距離は、コイルが均一なRF磁場を発生する能力に影響を及ぼす。例えば、RFコイルの直径が、RFコイルから撮像空間のイソセンタ(isocenter) までの距離に等しいか又はこれよりも大きいときには、撮像空間の内部で均一なRF磁場を発生することはより容易である。前述のように、RFコイルの平坦性から既に均一性の問題が生じているので、RFコイルの許容可能な直径を制限すると、問題に更なる困難度が加わる。
【0009】
更に、平坦型RFコイルは、撮像空間を包囲している円筒形コイルに比較して非効率的である。平坦型RFコイルが非効率的であるので、同等の閉鎖型MRシステムよりも大型の電力増幅器が必要になる。より大型の電力増幅器は、システムに追加経費を加えるので問題がある。更に、より大きな電力を要求することにより、RFコイルによって生ずるRF磁場の比吸収率(SAR;specific absorption ratio )が増大する可能性がある。当業者には公知のように、SARは、MRシステムの送信RFコイル内又はコイルに近接して配置されている患者又は医療関係者によって吸収され得る電磁的エネルギのレベルに関連している。例えば米国内では、SAR限度は、米国食品医薬品局(FDA)によって規定されている。開放型MRシステムに要求される間隔が上述のように迫っているため、RFコイルは必然的に、患者の表面にかなり近接していなければならない。このように、SAR限度は、RFコイルによって利用されるものとして許容される電力量を制約する可能性がある。
【0010】
【課題を解決するための手段】
本発明の好適な実施態様によれば、例えば、図5に示すような、磁気共鳴イメージング・システムのためのB 1 磁場を形成するRFコイル(66または68)は、前記B 磁場に平行な第1の平面(84)内で電流を流す並列接続された複数の導体からなる第1及び第2の組の主経路導体セグメント(82,94または117,119)と、この第1及び第2の組の主経路導体セグメント(82,94または117,119)の組間で前記電流を伝達する第1及び第2の戻り経路導体(104,106または116,118)とを具備する。この第1及び第2の組の主経路導体セグメント(82,94または117,119)は、前記第1の組の主経路導体セグメント(82または117)は、当該RFコイル(66)を分割する中心線(86)に関して線対称に、前記第2の組の主経路導体セグメント(94または119)に対して実質的に平行に配置されており、このような主経路導体セグメントの配置と、所定振幅値を有する前記電流が前記第1及び第2の組の主経路導体セグメント(82,94または117,119)の各々を励磁することから帰結される前記B 1 磁場が撮像空間内で所望の均一性を有するべく構成されている。また、前記第1及び第2の戻り経路導体(104,106または116,118)は、前記第1の平面(84)から離間した第2の平面(114)内において前記中心線(86)の各々の側に対称に離間配置されていると共に、前記中心線(86)から前記第1及び第2の組の主経路導体セグメント(82,94または117,119)よりも更に外側に離隔した位置に配置されたことにより、当該RFコイル(66または68)が前記電流によりエネルギを与えられたときに、前記撮像空間の外部での前記B 1 磁場に所望の感度降下を生じせしめる、ように構成されている。これにより、所望の均一性が得られる。
【0011】
もう1つの実施の形態によれば、本発明は、前記戻り経路導体(104,106,116,118)は、前記RFコイルがエネルギを与えられたときに、前記撮像空間内に所望の比吸収率(SAR)を提供する形状に形成されていることにより前記所望の感度降下を生じせしめる。これにより撮像空間内に所望のSARが提供される。
【0012】
前記第1の平面(84)は前記撮像空間のイソセンター(88)から第1の所定距離だけ離間し、前記第2の平面(114)は前記イソセンターから第2の所定距離だけ離間しており、前記第2の所定距離が前記第1の所定距離よりも長いことにより、撮像空間内で所望の均一性を有すると共に、撮像空間の外部で所望の感度降下を有するB1 磁場を形成する。
本発明の更なる好適な実施形態は、前記第1及び第2の組の主経路導体セグメント(82,94または117,119)の各々の組の導体の本数は2本以上であることが好ましい。
本発明の更なる好適な実施形態によれば、前記第1及び第2の組の主経路導体セグメント(82,94または117,119)の各々の組の各々の主経路導体に流れる前記電流の大きさを、夫々の主経路導体の前記中心線(86)からの距離と共に増大させることにより、撮像空間内で所望の均一性を増す。
本発明の更なる実施態様は、上記RFコイルをMRシステムに用いることである。また、本発明の好適な実施態様のMRシステムは、撮像空間の相対向する側に配置される1対の磁極片(16,18)を含む磁気共鳴マグネットと、上記のRFコイルの対(36,38、または62,64,66,68)を、前記1対の磁極片(16,18)に対応して、具備している。
また、更なる実施態様によれば、上述の1対のRFコイル(36と38)を有し、夫々のRFコイルが磁極片に隣接して、互いに直交する2つの直交コイルセット(62と64,または66と68)を有するものである。この場合に、コイル間のクロスト−クを防止するために、前記2つの直交コイルセットの各々のコイルセットのコイル間での容量結合及び誘導結合を低減する分離回路を更に具備することが好ましい。
本発明の更なる好適な実施態様によれば、図2に示すように、複数の直交コイルセットを有し、これらのコイルセットは前方直交コイルセットと後方直交コイルセットを形成する。
【0013】
【発明の実施の形態】
本発明に従って図1について説明する。磁気共鳴(MR)イメージング・システム10が、MRマグネット・アセンブリ20の第1の磁極片16と第2の磁極片18との間の開放空間14内の撮像空間12に配置されている患者11を含んでいる。MRマグネット・アセンブリ20は、第1及び第2の磁極片16及び18にそれぞれ隣接して第1及び第2のシム・ディスク22及び24を含んでおり、撮像空間12を横断して一様な静磁場26、即ち、B0 磁場を形成する。勾配増幅器28が、シム・ディスク22及び24に隣接してそれぞれ配置されている第1の勾配コイル・セット30及び第2の勾配コイル・セット32に電力を供給する。X軸勾配コイルとY軸勾配コイルとZ軸勾配コイルとをそれぞれ含んでいる勾配コイル・セット30及び32が付勢される(即ち、エネルギを与えられる)と、所定の方向に磁場勾配を発生する。RF送信器34が、勾配コイル・セット30及び32に隣接してそれぞれ配置されている前方(anterior)RFコイル・セット36及び後方(posterior)RFコイル・セット38に所要の電力を供給する。前方及び後方RFコイル・セット36及び38にエネルギを与えると、RFエネルギが送信されて、B0 磁場26に対して垂直に回転する円形分極B1 磁場40を発生する。B1 磁場40は、撮像空間12内の患者11の体内の核スピンを励起する。各々のRFコイル・セット36及び38と、各々の勾配コイル・セット30及び32との間に挟まれて、それぞれ第1及び第2のRFシールド42及び44が設けられている。第1及び第2のRFシールド42及び44は、B1 磁場40が勾配コイル・セット30及び32に透過するのを防止しており、これにより、撮像空間の内部のRFエネルギを収容すると共に、勾配コイル内でのRFエネルギの損失を防止している。
【0014】
典型的には、操作者コンソール48を介して操作者46によって入力されるパラメータに基づいて、汎用コンピュータ50が、パルス・シーケンサ52を起動して、MRデータ取得サイクルを開始する。パルス・シーケンサ52は、勾配増幅器28及びRF送信器34がRF送信/受信回路53にエネルギを与えるタイミング及び起動を制御して、磁場勾配及びRFエネルギを発生する。勾配磁場及びRFエネルギは、核スピンを励起させ、撮像空間12内の所定の画像平面において患者11の組織によってMR応答信号が放出されるようにする。RF送信/受信回路53は、放出されたMR応答信号を患者11の撮像空間12から受信し、信号を受信器54へ転送する。RF送信/受信回路53は、放出されたMR応答信号を前方及び後方RFコイル・セット36及び38から取得してもよい。代替的には、RF送信/受信回路53は、MR応答信号を受信するためのRF表面コイル(図示されていない)を追加で含んでいてもよい。受信器54は、放出されたMR応答信号を受信すると共に増幅し、この信号を再構成ユニット56へ供給する。再構成ユニット56は、患者11の撮像平面におけるMR画像のデータを形成する。画像データは、汎用コンピュータ50へ供給され、コンピュータ50は、操作者コンソール48上にMR画像を表示する。操作者コンソール48の出力は、スキャン・コンバータ58へデータを供給することもでき、スキャン・コンバータ58は、信号の形式を変換して表示装置60へ供給する。表示装置60は、画像平面の画像を形成し、外科手術等の医療処置時に医師を支援することができる。
【0015】
図2及び図3について説明する。RFコイル・セット36及び38はそれぞれ、同様の直交(クォドラチャ)構造を有する多数のコイルを含んでおり、これらのコイルが組み合わさって、RFコイル系61を形成している。RFコイル・セット36及び38は好ましくは、互いの実質的な鏡像となっている。直交コイルであるので、各々のRFコイル・セット36及び38は、Iチャネル・コイルとQチャネル・コイルとを含んでいる。前方RFコイル・セット36のIチャネル・コイルの電流及びQチャネル・コイルの電流は、後方RFコイル・セット38のIチャネル・コイルの電流及びQチャネル・コイルの電流に対してそれぞれ約180°だけ位相がずれている。同様に、各々のRFコイル・セット36及び38の内部では、Iチャネル・コイルの電流及びQチャネル・コイルの電流は、互いに対して約90°だけ位相がずれている。例えば、前方RFコイル・セット36は、構造的にも電気的にも約0°及び約90°を成してそれぞれ配置されているIチャネル・コイル62とQチャネル・コイル64とを有する直交構造を含んでいる。同様に、後方RFコイル・セット38は、構造的にも電気的にも約180°及び約270°を成してそれぞれ配置されているIチャネル・コイル66とQチャネル・コイル68とを含んでいる。Iチャネル・コイル62及び66からの主経路導体70及び72は、Qチャネル・コイル64及び68の主経路導体74及び76に対して約90°の角度を成している。このようなものとして、Iチャネル・コイル62及び66からの関連する磁場は、Qチャネル・コイル64及び68からの関連する磁場に対して実質的に垂直となっている。従って、ここで記載するように位相をずらした状態でコイルが駆動されると、これらの実質的に垂直な磁場によって、実質的に円形の分極されたB1 磁場40(図1)が生ずる。
【0016】
各々のRFコイル・セット36及び38の構造、並びに各々のコイル構成要素のイソセンタ88に対する相対的位置は、撮像空間12内のB1 磁場40の均一性、撮像空間の外部の感度降下、及び患者11へのSAR照射に劇的な影響を及ぼす。具体的には、各々の主経路導体の間の間隔が、主経路導体から撮像空間12までの距離及び主経路導体における電流の大きさの比と組み合わさって、撮像空間の内部のB1磁場の均一性に大きな影響を及ぼす。又、戻り経路導体の配置、及び戻り経路導体から撮像空間12までの距離が、撮像空間の外部の感度降下の量に絶大な影響を及ぼす。最後に、戻り経路導体及び主経路導体からRFシールド及び撮像空間までの距離が、感度降下、撮像空間内部での均一性、及び患者11へのSAR照射にかなりの影響を及ぼす。
【0017】
各々のコイル62、64、66及び68の構造は、類似している。後方Iチャネル・コイル66を例として用いて図4を参照して述べると、各々のコイルは、主経路導体72を含んでおり、主経路導体72内での電流のピークの大きさI1 及びI2 は、均一な円形分極B1 磁場40を形成するようにキャパシタによって変化させることができる。好ましくは、主経路導体72は、電気的に並列に接続されている主経路導体セグメントから成る第1の組82を含んでいる。導体セグメントの第1の組82に属する各々の導体は好ましくは、中心軸86に対して実質的に平行である。中心軸は、撮像空間12のイソセンタ88を通る中心平面87(図6)内に位置している。直進導体セグメントの第1の組82は、少なくとも第1の主経路導体セグメント90を含んでおり、好ましくは第2の主経路導体セグメント92も含んでいる。主経路導体セグメント90及び92に対応して、電流の大きさI1 及びI2 、従ってキャパシタ78〜81の値は、後で説明するように、ビオ・サバールの法則に基づいて、各々の主経路導体セグメントから撮像空間までの距離、及び所望の均一性に応じて変化させることができる。
【0018】
電流I1 及びI2 の比は、撮像空間12内での均一性を決定する。但し、当業者は理解されるように、電流の大きさは、所要のB1 磁場の大きさに全面的に依存している。従って、I1 及びI2 の電流のピークの大きさの値は、各々のシステム毎の要求条件によって変わる。
【0019】
主経路導体72は加えて、中心軸86に関して主経路導体セグメントの第1の組82と対称に配置されている主経路導体セグメントの第2の組94を含んでいる。第2の組94も又、第1の主経路導体セグメント96を含み、好ましくは第2の主経路導体セグメント98も含んでおり、又、キャパシタ100〜103を含んでいる。これらのセグメント96及び98並びにキャパシタ100〜103は、第1及び第2の導体セグメント90及び92並びにキャパシタ78〜81と同様の電流の大きさ及び容量特性をそれぞれ有している。主経路導体セグメント90、92、96及び98の相対的な配置は、中心軸86に関して対称である。
【0020】
前述のように、主経路導体72は、導体セグメントの第1及び第2の組82及び94を含んでいる。導体セグメントの各々の組82及び94は、少なくとも1つの導体セグメントを含んでいる。但し、撮像空間12のB1 磁場40の均一性を向上させるためには、導体セグメントの各々の組82及び94は好ましくは、少なくとも2つの導体セグメントを含む。各々の組82及び94内での導体セグメントの数を増大させると、所望の水準の均一性を達成する能力が向上する。
【0021】
各々の組82及び94の第1及び第2の主経路導体セグメントはそれぞれ、中心軸86から所定の距離x1 及びx2 に配置される。中心軸86からの所定の距離x1 及びx2 はそれぞれ、撮像空間12からの距離にも対応している。後述するように、ビオ・サバールの法則は、x1 の値及びx2 の値を、電流I1 及びI2 の比と組み合わせて用いて、所望のB1 磁場40を決定する。従って、各々のコイルにおける主経路導体セグメントの各々の組82及び94について、中心軸86までの距離及び各導体の電流の大きさの比を、イソセンタ88に関するB1 磁場の所望の均一性を達成するように設定する。B1 磁場の均一性は、好ましくは約±6dBよりも良好であり、より好ましくは約±3dBよりも良好であり、更に好ましくは約±2dBよりも良好であり、最も好ましくは約±1.5dBよりも良好であるものとする。
【0022】
同様に、各々のコイル62、64、66及び68が、第1及び第2の戻り経路導体を含んでおり、第1及び第2の戻り経路導体はそれぞれ、主経路導体セグメントの第1の組と第2の組との間で電流を伝達する。このようなものとして、後方Iチャネル・コイル66(図4)を再び例として用いると、第1及び第2の戻り経路導体104及び106の各々が、電流の大きさI3 =I1 +I2 を有している。第1及び第2の戻り経路導体104及び106は、導電性経路108〜111を介して主経路導体セグメント82及び94と連通している。第1及び第2の戻り経路導体104及び106はそれぞれ、主経路導体セグメントの各々の組82及び94の一方の端部から、主経路導体の対向する組の他方の端部へ電流を戻す。第1及び第2の戻り経路導体104及び106の各々が、主経路導体セグメントの各々の組82及び94に直列接続されており、連続回路を形成している。このようにして、電流は、主経路導体セグメントの第1及び第2の組82及び94に同様の方式で流入すると共に流出する。結果として、各々のRFコイル内において、主経路導体セグメントの第1の組82を流れる電流は、主経路導体セグメントの第2の組94に流れる電流と同じ方向に流れる。
【0023】
戻り経路導体104及び106は好ましくは、形状が円弧状である。より好ましくは、導体104及び106は、実質的に同じ直径の範囲内に位置し、中心軸86に対して平行な軸に関して実質的に対称に配置される。実質的に同じ円形の経路に沿って導体104及び106を配置することにより、B1 磁場40の均一性及び撮像空間12の外部での感度降下が実質的に等方的となり、即ち、イソセンタ88からあらゆる方向で同じ大きさを有するようになる。但し、戻り経路導体として他の形状を用いてもよいことを当業者は理解されよう。これらの構造には、非円形円弧形、長方形、正方形等がある。しかしながら、好ましい円形経路に対してこれらの構造を用いると、一般的には、損失がより大きくなり、コイル感度が低下すると共に、降下が非等方的になる。従って、当業者は、戻り経路導体の形状は、変化させてもよく、尚且つ本発明の範囲内に含まれることを理解されよう。
【0024】
本発明は好ましくは、半径rI を有する同じIチャネル円形経路に配置されている第1の戻り経路導体104と第2の戻り経路導体106とを設ける。同様に、図3を参照して述べると、コイル68のような各々のQチャネル・コイルは、半径rQ を有する実質的に同じQチャネル円形経路に配置されている第1の戻り経路導体116と第2の戻り経路導体118とを含んでいると有利である。Qチャネルの第1及び第2の戻り経路導体116及び118は、主経路導体セグメントから成る第1及び第2の組117及び119の各々に直列接続されている。各々の半径rI 及びrQ の値は、撮像空間12の外部で急な感度降下を生ずるようにビオ・サバールの法則に従って決定される。感度降下が急であると、撮像空間12の外部からの信号のエイリアシングが減少する。RFコイル系61の戻り経路導体の配置から、感度降下として、約−10dBよりも良好であり、より好ましくは約−15dBよりも良好であり、更に好ましくは約−20dBよりも良好であり、最も好ましくは約−30dBよりも良好である感度降下が提供される。
【0025】
更に、図3を参照すると、Qチャネル戻り経路導体116及び118は、Iチャネル戻り経路導体104及び106から半径方向に離隔して設けられ(即ち、rQ >rI )、チャネル同士の間の分離を提供すると共に、エネルギ損失を最小限に抑える。各々のRFコイル・セット36及び38のIチャネル・コイル及びQチャネル・コイルが同一であったとすると、各々のRFコイル・セットの戻り経路導体は、互いの真上に位置するものとなってしまう。戻り経路導体が重ね合わされたとすると、戻り経路導体同士の間に高いキャパシタンスが形成され、分離が不十分となる可能性があり、即ち、IチャネルとQチャネルとの間で雑音又はエネルギ伝達が生ずる可能性がある。戻り経路導体同士の間の間隔、すなわち|rQ −rI |の間の差は好ましくは、分離として、約−15dBよりも良好であり、より好ましくは約−20dBよりも良好である分離を提供する。このように、各々のIチャネル・コイル及びQチャネル・コイルの第1及び第2の戻り経路導体104及び116並びに106及び118はそれぞれ、チャネル同士の間の分離を最大限にすると共に、撮像空間の外部の急な感度降下を達成しながらRFコイルによって発生される円形分極B1 磁場40の所望の均一性を達成するように配置される。
【0026】
図5及び図6について説明する。本発明によれば、主経路導体は、戻り経路導体を含んでいる第2の平面114から実質的に離隔している第1の平面84に配置されていると有利である。主経路導体と戻り経路導体との離隔によって、戻り経路導体が運ぶ大電流を患者11から離隔するように移動させることが可能になり、これにより、SAR照射を減少させると共に感度降下率を最適化するので有益である。一方では、より大電流を運ぶ戻り経路導体は依然として、B1 磁場40の均一性及び感度降下にも寄与している。
【0027】
図5〜図8を参照しながら後方コイル66及び68を例として用いて述べると、好ましくは、主経路導体72及び76は、第1の回路板67(図7)上のトレース(trace)であり、他方、戻り経路導体104、106、116及び118は、第2の回路板69(図8)内のトレースである。理想的には、各々のチャネルのトレースは、各々の回路板67及び69の同じ表面に設けられる。例えば、Iチャネルの主経路導体72が第1の回路板67の上面に設けられ、Iチャネルの戻り導体104及び106が第2の回路板69の上面に設けられる。同様に、Qチャネルの導体76、並びに116及び118は、それぞれ、回路板67及び69の底面に設けられる。
【0028】
当業界で公知のように、各々の回路板67及び69は、表面に銅トレースを蝕刻したFR4(登録商標)材及びTEFLON(登録商標)材で構成される。但し、他の構造、例えば、ここに開示されている構造に合致するように配置されている銅切片又はその他の導電性材料等を用いてもよい。各々の回路板67及び69の厚みは、比較的薄肉、好ましくは、約15ミル〜65ミル(1ミル=0.001インチ)とし、従って、各々の表面上に設けられた導体は、実質的に同じ平面にあるものと見做すことができる。
【0029】
図5を参照すると、コイル66からの導電性経路108〜111は、例えば、回路板67と回路板69との間に延在している導電性延長部108a〜111aを含んでおり、主経路導体72をそれぞれの戻り経路導体104及び106に接続している。導電性延長部108a〜111aは、リベット及びアイレット、ピン、ワイヤ、又は距離を介して電気的接続を形成するのに用いることのできるその他の類似の装置を含み得る。
【0030】
加えて、図6を参照すると、RFコイル系61の各々のコイル(例えば、後方コイル・セット38の各RFコイル)は、B1 磁場40において所望の均一性を生じ、撮像空間の外部での所望の感度降下を生ずると共に、患者11のSAR照射を減少させるように、イソセンタ88に対して主経路導体及び戻り経路導体を配置させている。第2の平面114は、第1の平面84から、各平面に直交する軸に沿って所定の距離z2 だけ離隔されている。主経路導体72及び76を収容している第1の平面84は、イソセンタ88から距離z1 だけ離隔されている。同様に、第2の平面114は、イソセンタ88からは距離z1 +z2 だけ、又、RFシールド44からは距離z3 だけ離隔されている。電流の平方は患者11のSAR照射に比例するので、第2の平面114は、第1及び第2の戻り経路導体104及び106、並びに116及び118を流れる電流がより大きいことから、イソセンタ88から更に遠くに離隔される。更に、導体内の電流量は、電流量に比例した影響をB1 磁場に及ぼすので、戻り経路導体のこの配置は、撮像空間12内のB1 磁場40に対する戻り経路導体の影響を減少させる。このようにして、戻り経路導体及び主経路導体の相対的な配置が組み合わさって、患者11のSAR照射を最小限に抑えながら、B1 磁場40の均一性及び感度降下を最適化する。
【0031】
イソセンタに関するB1 磁場の均一性の所望の水準に合致するように各々のRFコイルの構造を画定するために、上述の構造を、ビオ・サバールの繰り返しプログラムに投入することができる。ビオ・サバールの繰り返しプログラムは、ビオ・サバールの法則を導体構造に適用して、合成的なB1 磁場を決定するものである。ビオ・サバールの法則は、次の式のように、任意の構成を有する電流からの点(x,y,z)におけるB1 磁場を決定するベクトル表現である。
【0032】
【数1】
Figure 0004759116
【0033】
ここで、
μ0=透磁率、
I=電流の大きさ、
R=dsと(x,y,z)との間の距離、
【0034】
【外1】
Figure 0004759116
【0035】
である。当業者には理解されるように、ビオ・サバールの繰り返しプログラムは、撮像空間12内の多数の点(x,y,z)についてB1 磁場40を算出し、所与のRFコイルの構造に基づいて累加的なB1 磁場40を決定する。ビオ・サバールの繰り返しプログラムは、次の自由度を用いる。
(1) 戻り経路導体とRFシールドとの間の距離、
(2) 主経路導体とRFシールドとの間の距離、
(3) 戻り経路導体の配置、
(4) 主経路導体の数、
(5) 主経路導体の全ての組同士の間の距離、及び
(6) 主経路導体同士の間の電流比。
【0036】
この繰り返しプログラムを実行すると、所望の均一性を有するB1 磁場40の解が得られる。コイル構造及び所望の均一性は、例えば、所望の均一性、撮像空間の寸法、コイルからイソセンタまでの間隔、及びRFシールドとコイルとの間の最大距離のような変数についてパラメータが与えられると決定することができる。但し、RFコイルの効率及び局所的SARのような他の領域においては代償が生じ得る。しかしながら、当業者には公知のように、これらの代償は、プログラムの境界条件で考慮に入れることができる。この繰り返しプログラムは、自由度を変化させて解を決定することもできる。複数の主経路導体と、半径方向外側に配置されている戻り経路導体とを備えた上述の直交構造は、従来システムに比較して、速い感度降下と、同じ電力でより大きなB1磁場とを有する効率の高いRFコイル系を与える。このようにして、任意の撮像空間について、B1 磁場の所望の任意の均一性と合致するように、他の境界条件を考慮に入れながら、RFコイル系の構造を決定することができる。
【0037】
動作時には、図2を参照して述べると、RF送信器34(図1)は、同軸ケーブルを介して電力を供給して、RFコイル系61にエネルギを与える。MRパルス・シーケンスの際に、RF送信器34内に設けられている送信増幅器が動作して、RF励起信号eT を発生する。RF送信/受信(T/R)スイッチ120が同期して動作して、励起信号eT を第1のパワー・スプリッタ装置122に結合する。第1のパワー・スプリッタ装置122は、前方コイル・セット36に対して励起信号eT を0°でRF励起信号eTaとして通過させると同時に、信号eT を180°だけ遅延させて、RF励起信号eTpを後方コイル・セット38へ供給する。前方パワー・スプリッタ装置124が、前方Iチャネルに対して信号eTaを0°でRF励起信号eTaI として通過させると同時に、信号eTaを90°だけ遅延させて、RF励起信号eTaQ を前方Qチャネルへ供給する。同様に、後方パワー・スプリッタ装置126が、後方Iチャネルに対して信号eTpを180°でRF励起信号eTpI として通過させると同時に、信号eTpを90°だけ遅延させて、RF励起信号eTpQ を後方Qチャネルへ供給する。このようにして、各々の信号の位相は、eTaI =0°、eTaQ =90°、eTpI =180°、及びeTpQ =270°となるように変化する。
【0038】
加えて、それぞれのコイルに到達する前に、各々の信号eTaI 、eTaQ 、eTp I 及びeTpQ は、前方及び後方コイル・セット36及び38のそれぞれのIチャネル・コイルとQチャネル・コイルとの間の分離を改善する平衡/不平衡(BALUN)装置128を通過する。90°のスプリッタ装置124及び126においては、例えば、それぞれのIチャネル及びQチャネルの接地導体は接続されており、従って、同じ電位にある。これにより、接地ループが形成され、IチャネルとQチャネルとの間の分離を低下させる可能性がある。しかしながら、直交RFコイル系用にスプリッタ装置を用いるときには、一方のチャネルからの雑音が他方のチャネルに拾われることのないようにIチャネルとQチャネルとの間の良好な分離を設けることが重要である。一方のチャネルから他方のチャネルへの雑音の伝達が少しでも存在すると、直交コイルによって提供される信号対ノイズ比の利点が損なわれる。従って、それぞれのコイルにおいて定義される接地を、スプリッタ装置において定義されている接地から分離することが望ましい。BALUN装置128は、異なる接地を分離するために、各々の信号を送達する同軸ケーブルの接地シールド上に高インピーダンスを形成する。好ましくは、BALUN装置128は、信号分離として、約−15dBよりも良好であり、より好ましくは−20dBよりも良好であり、最も好ましくは−30dBである信号分離を提供する。このようにして、BALUN装置128は、接地ループを解消すると共に、一方のチャネルの雑音が他方のチャネルに漏洩するのを防止して、それぞれの直交型前方及び後方コイル・セット36及び38について高い信号対ノイズ比を維持する。
【0039】
BALUN装置を通過した後に、各々の信号eTaI、eTaQ、eTpI及びeTpQは、入力回路130へ供給される。後方Iチャネル・コイル66を例として用いて図3及び図9を参照しながら述べると、入力回路130は、キャパシタ134及び136と、トリマ・キャパシタ142とを備えた同調回路132を含んでいる。円形の導体104及び106の周囲に分配されている他の全てのキャパシタ137〜141と一緒になって、同調回路132は、コイル66の共振周波数を決定する。共振周波数は、トリマ・キャパシタ142の調節によって微調整することができる。当業者には公知のように、キャパシタの値は、コイルのインダクタンス及び共振周波数に応じて変わる。
【0040】
加えて、図9を参照すると、入力回路130は、キャパシタ145と、トリマ・キャパシタ146とを並列で備えた整合回路144を含んでおり、この整合回路は、同軸ケーブル148の中心導体147と直列になっている。やはり当業者には理解されるように、これらのキャパシタの値は、インダクタンス及び共振周波数に応じて変わる。整合回路144は、例えば、同軸ケーブル148の出力から見たコイル66のインピーダンスを変化させるのに用いられる。好ましくは、キャパシタ145及び146は、電力増幅器からコイルへの最も効率のよいエネルギ伝達が行われる値に設定されるようにコイル66のインピーダンスを調節する。あるいは、受信コイルの場合には、コイル66のインピーダンスは、前置増幅器の雑音指数が最小化する値に調節される。典型的には、インピーダンスは、50Ωの実インピーダンスに調節される。
【0041】
更に、入力回路130は、キャパシタ134及び151と、ダイオード152と、インダクタ153及び154とで構成されている減結合回路網150を含んでいる。上述と同様に、入力回路130内でのキャパシタ、ダイオード及びインダクタの値は、他のシステム・パラメータに応じて変わる。減結合回路網150は、放出されたMR応答信号を撮像空間の内部の他のコイルを用いて受信することが望ましいときに、例えばコイル66がこれらの信号を受信するのを防止する。又、減結合回路網150は、この全身用ボディ・コイルの内部に設けられている異なる送信コイルによる送信パルスの際のRFエネルギの散逸を防止する。減結合回路網150を起動するためには、ダイオード152を介して順方向バイアス用DC電流を印加して、ダイオード152が見かけの上で短絡するようにする。すると、この場合に、インダクタ154は、キャパシタ134と共振し、コイル66と同じ周波数で共振する並列タンク共振器を形成する。並列タンク共振器は、戻り経路導体104に極めて高いインピーダンスを導入し、これにより、コイル66を減結合する。このDC電流は、インダクタ153とキャパシタ151とで構成されているチョーク回路156を介して同軸ケーブル148の中心導体147によって供給される。チョーク回路156は、中心導体147からのDC電流がインダクタ153へ通過するのは許すが、RF信号がコイル66から同軸ケーブル148へ通過するのはブロックする。チョーク回路156は、インダクタ153及びキャパシタ151によって極めて高いインピーダンスを有する並列共振器を形成することにより、コイル66からのRF信号をブロックする。他方、RF送信パルスの際には、ダイオード152は、大電圧によってバック・バイアスを加えられて、RFエネルギがダイオードを介して流れないように保証する。当業者には公知のように、ダイオード152に順方向バイアス及びバック・バイアスを加えるのに用いられる電圧は、システムのピーク電圧に依存する。入力回路130上のダイオード152を開いたり閉じたりするために、前方及び後方パワー・スプリッタ装置124及び126にコイル・スイッチ・バイアス装置158(図2)が接続される。
【0042】
更に又、図2、図3及び図10を参照して述べると、分離回路160が、各々のコイル・セット36及び38のIチャネル・コイル及びQチャネル・コイルの戻り経路導体を接続しており、IチャネルとQチャネルとの間の分離を最適化している。分離回路160は、チャネル間の分離として、約−15dBよりも良好であり、好ましくは約−20dBよりも良好であり、最も好ましくは約−25dBよりも良好である分離を提供する。直交コイル・セット36又は38のいずれの場合も、それぞれのIチャネル・コイル及びQチャネル・コイル62及び64又は66及び68は、互いの真上に配置されている。それぞれのIチャネル・コイル及びQチャネル・コイル62及び64又は66及び68は、互いに対して90°ずつずれているが、典型的には、コイル同士の間に残留量の誘導結合又は容量結合が存在しており、これにより、チャネル同士の間の分離が理想的でなくなる。2つのコイルの間の残留インダクタンスは、例えば、コイルが互いに対して完璧に90°で位相ずれしていないことにより生じ得る。この残留インダクタンスは、残留インダクタンスに並列にキャパシタを挿入することにより解消することができる。同様に、2つのコイルの間の容量結合は、例えば、各コイルの戻り経路導体が、互いに過度に接近しており、RFエネルギが一方のコイルから他方のコイルへ漏洩するときに生じ得る。このことは、寄生キャパシタンスとして知られており、寄生キャパシタンスをインダクタと共に並列共振器内に設けることにより解消することができる。Iチャネル・コイルとQチャネル・コイルとの間の結合が容量性であるか誘導性であるかは既知でないので、分離回路160は、いずれの状況にも対応するように、各々のコイル・セット36及び38のIチャネル・コイルとQチャネル・コイルとの間に並列でキャパシタ161と、インダクタ162とを含んでいると有利である。回路160がここに記載しているコイルと同じ周波数で共振するときには、回路160は高インピーダンスとなる。回路160が、より低い周波数で共振するならば、回路160はキャパシタのように振る舞う。回路160が、より高い周波数で共振するならば、回路160はインダクタのように振る舞う。このようにして、分離回路160は、各々の直交コイル・セット36及び38のIチャネル・コイルとQチャネル・コイルとの間の分離を最適化する。
【0043】
RFパルス・シーケンスの取得段階の際に、受信されたMR信号成分eI′及びeQ′はそれぞれ、受信器54又は前方及び後方RFコイル・セット36及び38によって検出される。図2を参照すると、例えば、コイル・セット36及び37を用いるならば、受信されたMR信号成分eaI′、eaQ′、epI′及びepQ′は、前方及び後方パワー・スプリッタ装置124及び126に戻って結合されて、ea′ 及びep′ を形成する。次いで、信号ea′ 及びep′ は、第1のパワー・スプリッタ装置122へ転送される。第1のパワー・スプリッタ装置122は、ea′ 及びep′ に対して動作して、合成受信MR信号eR′ を発生し、この信号がT/Rスイッチ120に結合される。このような取得段階の際に、スイッチ120は、受信されたMR信号を受信器54(図1)に結合するように動作し、受信器54は、このような信号を、周知のMR手法に従って更に処理するために増幅する。
【0044】
前方及び後方RFコイル・セット36及び38のそれぞれのコイルがIチャネル励起信号及びQチャネル励起信号によって駆動されると、これにより撮像空間12に発生された磁場成分は、空間12に加算されて、合成的な円形分極B1磁場40を形成する。前述のように、B1 磁場40は、所望の任意の均一性を有し得る。B1 磁場40は、MRの慣例に従ってMR患者又は他の被検体内の核スピンをz軸に整列している状態から横方向のxy平面に向かってフリップさせる。又、本発明の直交RFコイル系61によって発生される円形分極B1磁場40は、線形RFコイル系と比較して、核スピンを励起するのにより小振幅しか要求しないので、有利である。
【0045】
【実施例】
以下、非限定的な実施例によって本発明を更に説明する。実際の問題は、約40cm直径の球状の撮像空間の内部で約±3dBの均一性を有する開放型の垂直B0 磁場マグネット用のRFボディ・コイル系を構成することにあった。撮像空間の外部では、勾配ワープによる折り返しを防止するために、イソセンタから約35cmの位置で約−20dBだけ磁場を降下させなければならなかった。RFボディ・コイル系の前方又は後方の二半部の厚み(z2 +z3 )は、RFシールドと合計で、約23cm未満であった。磁極片の直径、従って、RFコイル系の最大直径は、約92cmであった。求められた解は、コイルの略中心から約4cm(x1 )及び約15cm(x2 )の所にそれぞれ対称に隔設された4つの主経路導体を有する図3のようなRFコイルであった。最も外側に位置する導体からコイルの中心までの間隔は、約15.5cmから約17.5cmまでにわたることができ、好ましくは約16.0cmから約17.0cm、最も好ましくは約16.5cmである。同様に、最も内側に位置する導体からコイルの中心までの間隔は、約3.0cmから約5.0cmまでにわたることができ、好ましくは3.5cmから4.5cm、最も好ましくは約4.0cmである。最も外側に位置する各々の主経路導体における電流のピークの大きさは、約34A(I2 )であり、他方、内側に位置する各々の主経路導体の電流のピークの大きさは、約17A(I1 )であった。電流の大きさは、それぞれ約±2.5Aだけ変動してもよい。従って、戻り経路での電流の大きさは、約51A(I3 )となった。但し、前述のように、電流のピークの大きさは、所要のB1磁場の大きさに応じて変わる。Iチャネル・コイル用の戻り経路導体には、約38cm(rI )の半径が与えられ、他方、Qチャネル・コイル用の戻り経路導体には、約39cm(rQ )の半径が与えられて、撮像空間の外部の速い感度降下を形成した。但し、rI の値は、約36cmから約40cmまでにわたり得る。同様に、rQ の値も、約37cmから約41cmまでにわたり得る。従って、|rQ −rI |は好ましくは、約2cmであり、約0.1cmから約5cmまでにわたり得る。加えて、戻り経路導体は、主経路導体から約13mm(z2 )だけ奥まっており、RFシールドまでの距離は約10mm(z3 )として、局所SARの制限に合致し、且つ感度降下及び均一性を最適化するようにした。このようなものとして、z2 は好ましくは、約13mmであったが、約10mmから約15mmまでにわたり得る。同様に、z3 は、約8mmから約12mmまでにわたり得る。又、z1 は好ましくは、約243mmであり、約240mmから約250mmまでにわたる。
【0046】
更に、整合回路144は、コイルのインピーダンスが約50Ωの実インピーダンスに調節されるように設定された。同様に、約500mAの順方向バイアス用DC電流がダイオード152を介して印加され、減結合回路網150を起動した。他方、ダイオード152は、約1000VのDC電流でバック・バイアスを与えられた。又、分離回路160には、約1pFから約10pFにわたり、好ましくは5pFであるキャパシタンス、及び約2μHから約4μHにわたり、好ましくは3μHであるインダクタンスが与えられた。ここでも、前述のように、これらの値は、コイルの共振周波数に応じて変わる。
【0047】
図11及び図12について説明する。これらの図には、このような合成磁場のx=0.0におけるyz平面及びz=0.0におけるxy平面でのプロットがそれぞれ示されている。これらのプロットは、RFコイル系61によって与えられた40cmのサジタル視野(FOV)についての磁場のyz投影及びxy投影が、極めて高い均一性、及び40cmの撮像空間の外部での極めて急な降下を有することをそれぞれ示している。加えて、図13を参照すると、同図には、イソセンタを通過するy軸上でB0 磁場に垂直なdB単位での測定B1 磁場のプロットが示されている。ここでも、このようなプロットは、RFコイル系61が、極めて高い均一性、及び40cmの撮像空間の外部での極めて急な降下を有することを示している。
【0048】
この実施例では、チャネル当たり4つの直進導体のみが示されている。当業者は理解されるように、直進導体の数を増大させると、より多くの電流比を変化させる能力が得られる。電流比の数を増大させると、所望の均一性を達成するのにより多くの自由度が許容される。従って、本発明は、チャネル当たり少なくとも4つの直進導体を利用するものとする。
【0049】
更に、当業者には理解されるように、本発明の各構成要素についての値は、距離、インダクタンス、直進導体の数、コイルの共振周波数等に応じて変わる。従って、上で与えられた全ての値は、例示の目的のためのものであって、限定するものと考えるべきではない。
【0050】
これらの好ましい実施の形態を参照して本発明を記載したが、他の実施の形態でも同じ成果を達成することができる。例えば、より多くの直進導体セグメントを加えることにより、自由度の数を増大させて、撮像空間内でのB1磁場の均一性を画定する能力を向上させてもよい。このようなものとして、本発明の変形及び改変は、当業者には明らかであり、特許請求の範囲はこれらのような改変及び均等構成を全て網羅しているものとする。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の磁気共鳴イメージング・システムを示す概略図である。
【図2】本発明の送信/受信回路及びRFコイル系の1つの実施の形態を示す概略図である。
【図3】後方RFコイル・セットの構造の概略図である。
【図4】図3の後方RFコイル・セットのIチャネル・コイルの概略図である。
【図5】図3の後方RFコイル・セットの主経路導体セグメントを収容している第1の回路板の上部平面図である。
【図6】図3の後方RFコイル・セットの戻り経路導体セグメントを収容している第2の回路板の上部平面図である。
【図7】図5〜図6の回路板の前方からの展開遠近図である。
【図8】MRマグネット・アセンブリ内部の図7に類似した後方RFコイル・セットの回路板の断面図である。
【図9】本発明の入力回路の概略図である。
【図10】本発明の分離回路の概略図である。
【図11】図1の実施の形態によって与えられ、YZ平面内に投影されたB1 磁場をプロットした図である。
【図12】図1の実施の形態によって与えられ、XY平面内に投影されたB1 磁場をプロットした図である。のプロットである。
【図13】Y軸上に投影された磁場をdB単位でプロットした図である。
【符号の説明】
10 磁気共鳴(MR)イメージング・システム
11 患者
12 撮像空間
14 開放空間
16、18 磁極片
20 MRマグネット・アセンブリ
22、24 シム・ディスク
26 B0 静磁場
30、32 勾配コイル・セット
36 前方RFコイル・セット
38 後方RFコイル・セット
40 円形分極B1 磁場
42、44 RFシールド
61 RFコイル系
62、66 Iチャネル・コイル
64、68 Qチャネル・コイル
67 主経路導体用の第1の回路板
69 戻り経路導体用の第2の回路板
70、72 Iチャネル・コイルの主経路導体
74、76 Qチャネル・コイルの主経路導体
82、117 主経路導体セグメントの第1の組
84 主経路導体を含む第1の平面
86 中心軸
87 中心平面
88 イソセンタ
90、96 第1の主経路導体セグメント
92、98 第2の主経路導体セグメント
94、119 主経路導体セグメントの第2の組
104、116 第1の戻り経路導体
106、118 第2の戻り経路導体
108、109、110、111 導電性経路
108a、109a、110a、111a 導電性延長部
114 戻り経路導体を含む第2の平面
122 第1のパワー・スプリッタ装置
124 前方パワー・スプリッタ装置
126 後方パワー・スプリッタ装置
128 平衡/不平衡(BALUN)装置
130 入力回路
132 同調回路
144 整合回路
147 中心導体
148 同軸ケーブル
150 減結合回路網
156 チョーク回路
160 分離回路

Claims (10)

  1. 核磁気共鳴のためのB1磁場を形成するRFコイル(66または68)において、
    前記B1磁場に平行な第1の平面(84)内で電流を流す並列接続された複数の導体からなる第1及び第2の組の主経路導体セグメント(82,94または117,119)であって、前記第1の組の主経路導体セグメント(82または117)は、当該RFコイル(66)を分割する中心線(86)に関して線対称に、前記第2の組の主経路導体セグメント(94または119)に対して実質的に平行に配置されており、このような主経路導体セグメントの配置と、所定振幅値を有する前記電流が前記第1及び第2の組の主経路導体セグメント(82,94または117,119)の各々を励磁することから帰結される前記B1磁場が撮像空間内で所望の均一性を有するべく構成された、第1及び第2の組の主経路導体セグメント(82,94または117,119)と、
    前記第1及び第2の組の主経路導体セグメント(82,94または117,119)の組間で前記電流を伝達する第1及び第2の戻り経路導体(104,106または116,118)であって、該第1及び第2の戻り経路導体(104,106または116,118)は、前記第1の平面(84)から離間した第2の平面(114)内において前記中心線(86)の各々の側に対称に離間配置されていると共に、前記中心線(86)から前記第1及び第2の組の主経路導体セグメント(82,94または117,119)よりも更に外側に離隔した位置に配置されたことにより、当該RFコイル(66または68)が前記電流によりエネルギを与えられたときに、前記撮像空間の外部での前記B1磁場に所望の感度降下を生じせしめる、ように構成された第1及び第2の戻り経路導体(104,106または116,118)と、
    を備えたことを特徴とするRFコイル。
  2. 前記戻り経路導体(104,106,116,118)は、前記RFコイルがエネルギを与えられたときに、前記撮像空間内に所望の比吸収率(SAR)を提供する形状に形成されていることにより前記所望の感度降下を生じせしめることを特徴とする請求項1に記載のRFコイル。
  3. 前記第1の平面(84)は前記撮像空間のイソセンター(88)から第1の所定距離だけ離間し、前記第2の平面(114)は前記イソセンターから第2の所定距離だけ離間しており、前記第2の所定距離が前記第1の所定距離よりも長いことを特徴とする請求項1または2に記載のRFコイル。
  4. 前記第1及び第2の戻り経路導体(104,106,116,118)は、円弧形、長方形及び正方形から選択された1つの形状構造を有している請求項1乃至のいずれかに記載のRFコイル。
  5. 前記第1及び第2の組の主経路導体セグメント(82,94または117,119)の各々の組は、電気的に並列に接続された2本を超える本数の導体(90,92または96,98)を含んでいることを特徴とする請求項1乃至のいずれかに記載のRFコイル。
  6. 前記第1及び第2の組の主経路導体セグメント(82,94または117,119)の各々の組の各々の主経路導体に流れる前記電流の大きさは、夫々の主経路導体の前記中心線(86)からの距離と共に増大することを特徴とする請求項に記載のRFコイル。
  7. 請求項1に記載の前記第1及び第2の組の主経路導体セグメント(82,94または117,119)と前記第1及び第2の戻り経路導体(104,106または116,118)からなる前記RFコイルに、請求項1に記載の前記所定振幅値を有する前記電流によりエネルギを与える工程を含むことにより、前記所望の均一性を有する前記磁場を創成することを特徴とする方法。
  8. 撮像空間の相対向する側に配置される1対の磁極片(16,18)を含む磁気共鳴マグネットと、
    請求項1乃至に記載のRFコイルの対(36,38、または62,64,66,68)を、前記1対の磁極片(16,18)に対応して、具備したことを特徴とする診断イメージング用の磁気共鳴(MR)システム(10)。
  9. さらに、
    請求項1乃至請求項のいずれかに記載の1対のRFコイル(36と38)であって、
    夫々のRFコイルが前記磁極片に隣接して、互いに直交する2つの直交コイルセット(62と64,または66と68)を有する、1対のRFコイル(36と38)と、
    前記2つの直交コイルセットの各々のコイルセットのコイル間での容量結合及び誘導結合を低減する分離回路と、
    を含むことを特徴とするMRシステム(10)。
  10. 撮像空間(12)内で核磁気共鳴のためのB1磁場を形成するRFコイルシステム(36と38)において、
    請求項1乃至のいずれかに記載のRFコイルを2組分とを具備することが、
    前方直交コイルセット(62と64)と、
    前記前方直交コイルセットに対向する後方直交コイルセット(66と68)を構成して、これにより、これらのコイルセット間に撮像空間を規定する、ことを特徴とするのコイルシステム(36と38)。
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