JP4756132B2 - 炭素質皮膜及びその製造方法 - Google Patents
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項1.金属材料を陰極として炭酸塩を含有する溶融塩中で炭酸イオンを電解し、陰極表面に炭素質皮膜を形成する炭素質皮膜の製造方法であって、電位変動波形を制御しながら電解を行うことを特徴とする炭素質皮膜の製造方法。
項2.電解電位の波形が、矩形波状、三角波形状及び正弦波形状からなる群から選択される少なくとも1種の波形である項1に記載の炭素質皮膜の製造方法。
項3.電解の平均電位がカソード限界電位基準で0.7〜1.2Vである項1又は2に記載の炭素質皮膜の製造方法。
項4.金属材料を陰極として炭酸塩を含有する溶融塩中で炭酸イオンを電解し、陰極表面に炭素質皮膜を形成する炭素質皮膜の製造方法であって、電極に印加する電解電位が定電位であり、設定電位がカソード限界電位基準で0.7〜1.2Vであり、電解時間が20〜150時間であり、通電電気量が陰極の面積に対して300〜3000C/cm2であることを特徴とする炭素質皮膜の製造方法。
項5.炭酸塩を除いた溶融塩に対する炭酸塩の濃度が0.001〜5モル%である項1〜4のいずれかに記載の炭素質皮膜の製造方法。
項6.炭酸塩が、炭酸カリウム、炭酸リチウム、炭酸ナトリウム及び炭酸バリウムからなる少なくとも1種である項1〜5のいずれかに記載の炭素質皮膜の製造方法。
項7.陰極の金属材料がチタン、ジルコニウム、ステンレス、バナジウム、ニオブ、タンタル、モリブデン、タングステン、クロム、白金、コバルト、ニッケル、銅、金及びアルミニウムからなる群から選択される少なくとも1種の金属である項1〜6のいずれかに記載の炭素質皮膜の製造方法。
項8.金属板上に形成された炭素質皮膜であって、炭素質皮膜の金属と接する面において、金属基板の表面を覆ったカーボンの緻密な薄膜を有し、該緻密な薄膜の金属面からの高さが0.005〜10μmであり、該緻密な薄膜上に炭素質粒子堆積構造を有する炭素質皮膜。
項9.金属板上に形成された炭素質皮膜であって、炭素質皮膜の金属と接する面において、金属基板の表面を覆ったカーボンの緻密な薄膜を有し、金属面からの高さが0.005〜10μmであり、該緻密な薄膜上に炭素質粒子が集合してメソ構造を形成し、該メソ構造において逆円錐台状の穴が規則的に並び、該穴の下端が半球状であり、該穴の最大径が1〜200μmであり、また炭素質皮膜の金属と接する面から逆円錐台状の穴の底までの厚みが 0.005〜50μmである炭素質皮膜。
本発明の製造方法1では炭酸塩を含有する溶融塩中における炭酸イオンの電解において電極に印加する電位の変動波形を制御する。このようなプロセスは通常、電解浴中で行うことができる。電位変動波形の制御とは、電解の間に電極に印加する電位を変動させることをいい、電位を一定とする定電位制御とは異なる。
塩化リチウム:塩化カリウム=35〜100mol%:65〜0mol%、好ましくは55〜65mol%:45〜35mol%。
塩化リチウム:塩化カリウム=30〜70mol%:70〜30mol%、好ましくは45〜55mol%:55〜45mol%。
塩化リチウム:塩化カリウム:塩化セシウム=57.5:13.3:29.2mol%。
本発明の製造方法2では、陰極表面に炭素質皮膜を形成する炭素質皮膜の製造において、金属材料を陰極として炭酸塩を含有する溶融塩中で炭酸イオンを電解する際に、電極に印加する電解電位が定電位であり、設定電位がカソード限界電位基準で0.7〜1.2Vであり、電解時間が20〜150時間であり、通電電気量が陰極の面積に対して300〜3000C/cm2であることを特徴とする。このようなプロセスは通常、電解浴中で行うことができる。定電位とは電解の間に電極に印加する電位を一定とすることをいう。
塩化リチウム:塩化カリウム=35〜100mol%:65〜0mol%、好ましくは55〜65mol%:45〜35mol%。
塩化リチウム:塩化カリウム=30〜70mol%:70〜30mol%、好ましくは45〜55mol%:55〜45mol%。
塩化リチウム:塩化カリウム:塩化セシウム=57.5:13.3:29.2mol%。
電解浴中で、共晶組成にて混合したLiCl(58.5モル%)及びKCl(41.5モル%)からなる300gの混合物を200℃で真空乾燥させた後、アルゴン雰囲気中450℃で溶融させ溶媒とした。この溶媒にK2CO3を0.50モル%となるように添加し、得られた溶融物を電解用の溶融塩とした。陰極としては、5NのNaOH水溶液で表面を化学研磨した50μm厚のアルミニウム箔を使用し、陽極としてはグラッシーカーボンを使用し、参照極としては、Ag+/Ag電極を使用した。450℃を維持しながら陰極に対し、Li+/Liを基準とした最低電位を0.80V、最大電位を1.00Vとし、10mV/秒で電位をスイープして印加し、18時間電解を行った。電解後、溶融塩から陰極を引き上げ、陰極表面上に得られた炭素質皮膜を蒸留水で洗浄し、次いでエタノールで洗浄し、炭素質皮膜を有するアルミニウム箔を得た。得られたアルミニウム箔を切断し得られた断面を走査電子顕微鏡で観察した。なお、電解による製造時には基板を炭素質皮膜が覆っており剥離はなかった。観察結果を図2に示す。図2上段の写真は炭素質皮膜の断面を写した写真である。厚さ数μmの緻密な薄膜の上に粒子状炭素の集合体が100μm程度の高さで魚卵状で存在している。図2下段は薄膜上部に存在する粒子状炭素の集合体を拡大した写真であり、1〜2μm程度のサイズの粒子が多くみられる。
最低電位を0.90V、最大電位を1.10Vとし、電解時間を19.4時間とした以外は実施例1と同様にして炭素質皮膜を製造し、剥離させて得られた断面を走査電子顕微鏡で観察した。なお、電解による製造時には基板を炭素質皮膜が覆っており剥離はなかった。観察結果を図3に示す。図3上段は、図2上段とは異なり、上半分程度の白色がかった部分が基板側であり、下半分のやや白色がかったところが成長した炭素質皮膜部分である。厚さ数μmの緻密な薄膜の上に粒子状炭素の集合体が100μm程度の高さで魚卵状で存在していた。図3下段は緻密な薄膜上部に存在する粒子状炭素の集合体を拡大した写真であり、0.5〜1μm程度のサイズの粒子が多くみられた。
#600の研磨紙により表面処理した1.0mm厚のアルミニウム板を陰極として使用し、K2CO3濃度を0.20モル%、最大電位を1.2Vとし、電解時間を18.7時間とした以外は実施例1と同様にして炭素質皮膜を製造し、その断面を走査電子顕微鏡で観察した。観察結果を図4に示す。なお、図4上段では、基板から炭素質皮膜が剥離しているがこれは顕微鏡撮影のためアルミニウム板を180°折り曲げた際に剥離したものであり、電解による製造時には基板を炭素質皮膜が覆っており剥離はなかった。厚さ10μm弱の緻密な薄膜が観察された。図4下段は緻密な薄膜上部に存在する粒子状炭素の集合体を拡大した写真であり、数100nm程度のサイズの粒子が多くみられた。
#600の研磨紙により表面処理した1.0mm厚のアルミニウム板を陰極として使用し、K2CO3濃度を0.20モル%、最低電位を0.75V、最大電位を1.2Vとし、電解時間を17.7時間とした以外は実施例1と同様にして炭素質皮膜を製造し、その表面を走査電子顕微鏡で観察した。観察結果を図5に示す。なお、図5上段では、基板から炭素質皮膜が剥離しているがこれは顕微鏡撮影のためアルミニウム板を180°折り曲げた際に剥離したものであり、電解による製造時には基板を炭素質皮膜が覆っており剥離はなかった。厚さ5μm程度の緻密な薄膜が観察された。図5下段は緻密な薄膜上部に存在する粒子状炭素の集合体を拡大した写真であり、数μm程度のサイズの粒子が多くみられた。
#600の研磨紙により表面処理した1.0mm厚のアルミニウム板を陰極として使用し、K2CO3濃度を0.20モル%、最低電位を0.72V、最大電位を1.2Vとし、電解時間を17.2時間とした以外は実施例1と同様にして炭素質皮膜を製造し、その断面を走査電子顕微鏡で観察した。観察結果を図6に示す。なお、図6上段では、基板から炭素質皮膜が剥離しているがこれは顕微鏡撮影のためアルミニウム板を180°折り曲げた際に剥離したものであり、電解による製造時には基板を炭素質皮膜が覆っており剥離はなかった。厚さ10μm弱程度の緻密な薄膜が観察された。図5下段は緻密な薄膜上部に存在する粒子状炭素の集合体を拡大した写真であり、1μm程度のサイズの粒子が多くみられた。
電位を定常の1.00Vとし、陰極として#600の研磨紙により表面処理した1.0mm厚の銅板を使用し、K2CO3濃度を0.20モル%、電解時間を90時間とした以外は実施例1と同様にして炭素質皮膜を製造し、その表面を走査電子顕微鏡で観察した。観察結果を図7〜図9に示す。なお、図7上段では、基板上に、規則的に並んだ穴を有する特異な炭素質皮膜が形成されていることが観察された。図7下段では、緻密な薄膜の厚さが数10μmであることが観察された。また、50〜80μm程度の径で100μm程度の深さの穴が多いことが観察された。
電位を1.00V、電解時間を24.0時間とした以外は実施例6と同様にして炭素質皮膜を製造し、その断面を走査電子顕微鏡で観察した。観察結果を図10に示す。厚さ5μm程度の薄膜上に、炭素質粒子が不規則に集合し、嵩高い構造を有する粒子集合体がまばらに存在している様子が観察された。
2 るつぼ
3 ホルダー
4 導入管
5 排気管
6 溶媒
7 熱電対
8 陽極
9 陰極
10 参照極
11 電気化学測定装置
Claims (6)
- 下記(1)及び(2)を満足することを特徴とする金属板上に形成された炭素質皮膜。
(1)該炭素質皮膜の金属と接する面において、金属基板の表面を覆ったカーボンの薄膜を有し、該薄膜の金属面からの高さが0.005〜10μmであり、該薄膜上に炭素質粒子堆積構造を有する
(2)該炭素質被膜が、金属材料を陰極として炭酸塩を含有する溶融塩中で炭酸イオンを電解し、陰極表面に炭素質皮膜を形成する炭素質皮膜の製造方法において、電位変動波形を制御しながら電解を行い、電解電位の波形が、矩形波状、三角波形状及び正弦波形状からなる群から選択される少なくとも1種の波形であり、電解の平均電位がカソード限界電位基準で0.7〜1.2Vであることを特徴とする製造方法によって得られたものである - カーボンの薄膜の密度が、1.4〜2.2g/cm 3 であり、炭素質粒子体積構造の密度が、0.23〜1.6g/cm 3 である請求項1に記載の炭素質被膜。
- 下記(1)及び(2)を満足することを特徴とする金属板上に形成された炭素質皮膜。
(1)該炭素質皮膜の金属と接する面において、金属基板の表面を覆ったカーボンの薄膜を有し、金属面からの高さが0.005〜10μmであり、該薄膜上に炭素質粒子が集合してメソ構造を形成し、該メソ構造において逆円錐台状の穴が規則的に並び、該穴の下端が半球状であり、該穴の最大径が1〜200μmであり、また炭素質皮膜の金属と接する面から逆円錐台状の穴の底までの厚みが0.005〜50μmである
(2)該炭素質被膜が、金属材料を陰極として炭酸塩を含有する溶融塩中で炭酸イオンを電解し、陰極表面に炭素質皮膜を形成する炭素質皮膜の製造方法において、電極に印加する電解電位が定電位であり、設定電位がカソード限界電位基準で0.7〜1.2Vであり、電解時間が20〜150時間であり、通電電気量が陰極の面積に対して300〜3000C/cm 2 であることを特徴とする製造方法によって得られたものである - 炭酸塩を除いた溶融塩に対する炭酸塩の濃度が0.001〜5モル%である請求項1〜3のいずれかに記載の炭素質皮膜。
- 炭酸塩が、炭酸カリウム、炭酸リチウム、炭酸ナトリウム及び炭酸バリウムからなる群から選択される少なくとも1種である請求項4に記載の炭素質皮膜。
- 陰極の金属材料がチタン、ジルコニウム、ステンレス、バナジウム、ニオブ、タンタル、モリブデン、タングステン、クロム、白金、コバルト、ニッケル、銅、金及びアルミニウムからなる群から選択される少なくとも1種の金属である請求項1〜5のいずれかに記載の炭素質皮膜。
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