JP4752228B2 - 光導波路板の製造方法 - Google Patents
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Description
2 難溶部位(コア)
3 現像液
4 オーバクラッド
20 コア材
80 基準マーカ
3a 第1の現像液
3b 第2の現像液
Claims (6)
- 光透過性樹脂よりなるクラッド基板を形成するクラッド基板形成工程と、
前記クラッド基板表面にクラッド基板よりも高屈折率の材料よりなるコア材を配置するコア材配置工程と、
前記コア材に選択的に光を照射して難溶部位と可溶部位とに区分けするコア材パターニング工程と、
前記コア材の可溶部位を第1の現像液で溶解する第1現像工程と、
前記第1の現像液をこの現像液よりも表面張力の低い第2の現像液で置換しつつ、前記第1の現像液及び第2の現像液で前記コア材の残留した可溶部位を溶解する第2現像工程と、
前記コア材の難溶部位の表面にオーバクラッド材を配置してオーバクラッドを形成し、前記コア材の難溶部位をこのオーバクラッドと前記クラッド基板とで囲むことにより光導波路を形成するオーバクラッド形成工程と、を備えたことを特徴とする光導波路板の製造方法。 - 前記第2現像工程は、前記第1の現像液をこの現像液よりも現像能力の低い第2の現像液で置換しつつ、前記第1の現像液及び第2の現像液で前記コア材の残留した可溶部位を溶解する現像工程である請求項1記載の光導波路板の製造方法。
- 前記第2現像工程は、前記置換に際し、前記第1の現像液及び第2の現像液を透過する光の強度、又はこれらの現像液の誘電率を測定することにより前記現像液の置換割合を決定し、この測定結果を基に第2の現像液の置換割合を制御する請求項1又は請求項2記載の光導波路板の製造方法。
- 前記クラッド基板形成工程とコア材配置工程との間に、前記クラッド基板表面の可溶のコア材が配置される部位に、前記第1の現像液によって溶解又は変色する基準マーカを形成するマーカ形成工程を備え、
前記第1現像工程と第2現像工程との間に、前記第1の現像液を第2の現像液で置換し始めるタイミングを測定するために前記基準マーカの溶解度合い又は変色度合いを検知するマーカ検知工程を備えている請求項1又は請求項2記載の光導波路板の製造方法。 - 前記第2現像工程は、前記第1の現像液を、この現像液よりも表面張力の低い第2の現像液で、回転させた前記クラッド基板上にこの第2の現像液を塗布することにより置換しつつ、前記第1の現像液及び第2の現像液で前記コア材の残留した可溶部位を溶解する現像工程である請求項1又は請求項2記載の光導波路板の製造方法。
- 前記オーバクラッド形成工程は、前記第2の現像液が残留した状態で前記第2の現像液を液体状のオーバクラッド材で置換し配置して、このオーバクラッド材を硬化させることにより前記コア材の難溶部位の表面にオーバクラッドを形成する工程である請求項1又は請求項2記載の光導波路板の製造方法。
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