JP4748864B2 - サーマルヘッド - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、ファクリミリやワードプロセッサ、ビデオプリンタ等のプリンタ機構として組み込まれるサーマルヘッドの製造方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
感熱記録(サーマル)方式の画像記録装置は、装置の構成がシンプルで小型化、軽量化、低価格化に有利である上に、記録音が静かで、消費電力も小さいことから、各種プリンタやファクシミリ等の記録用途に幅広く使用されている。
【0003】
このような感熱記録方式に用いられるサーマルヘッドは、例えば図4に示す如く、セラミック基板11の上面に、直線状に配列した多数の発熱体12と、これら発熱体12に電気的に接続される一対の電極13a,13bとを所定パターンに被着させた構造を有しており、感熱紙等の記録媒体を発熱体12上に送り込みながら、これら発熱体12を外部からの画像データに基づいて個々に選択的にジュール発熱させるとともに該発熱した熱を記録媒体に伝導させ、記録媒体に所定の印画を形成することによってサーマルヘッドとして機能する。
【0004】
また上述したサーマルヘッドの発熱体12や一対の電極13a,13bは、以下のプロセスを経てパターン形成されていた。
【0005】
まず、発熱体12を形成するTaSiO等の抵抗薄膜と、一対の電極13a,13bを形成するアルミニウム等の金属薄膜とを従来周知のスパッタリング法や真空蒸着法等によってセラミック基板11の上面に順次被着・形成し、得られた積層体を2度のフォトエッチングにて微細加工するプロセス、具体的には、抵抗薄膜及び金属薄膜を発熱体12及び一対の電極13a,13bの外形に沿ってエッチングすることによって積層体を所定形状にパターニングする第1のフォトエッチングと、金属薄膜の一部をエッチングして下層の抵抗薄膜を露出させる第2のフォトエッチングとにより微細加工され、これによって発熱体12と一対の電極13a,13bとが所定形状にパターン形成されていた。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上述した従来のサーマルヘッドの製造方法によれば、発熱体12及び一対の電極13a,13bをパターン形成するために2度のフォトエッチングが行われており、抵抗薄膜と金属薄膜とから成る積層体の表面には、第1、第2の各フォトエッチングに先立って、感光性樹脂を用いたフォトレジストがエッチング用のマスクとして被着・形成されていた。それ故、第1のフォトエッチングを終えてから第2のフォトエッチングを行うまでの間に、第1のフォトエッチングで使用したフォトレジストを溶剤等を使って金属薄膜の表面より剥離させた上、露出した金属薄膜等の表面に感光性樹脂を再び塗布して第2フォトエッチング用のフォトレジストを新たに被着・形成しなければならず、このようなプロセスによりサーマルヘッドを製造した場合、発熱体12や電極13a,13bのパターン形成に大変な手間がかかり、生産性に劣るという欠点を有していた。
【0007】
本発明は上記欠点に鑑み案出されたもので、その目的は、製造プロセスを簡略化して生産性を向上させることができるサーマルヘッドの製造方法を提供することにある。
【0008】
【課題を解決するための手段】
本発明のサーマルヘッドは、セラミック基板の上面上に、主走査方向に沿って配列された抵抗薄膜から成る複数の発熱体と、前記抵抗薄膜上に形成された金属薄膜から成り、前記発熱体の両端に電気的に接続される一対の電極とを被着・形成してなるサーマルヘッドであって、前記一対の電極は、前記発熱体を挟んで対向する先端部が、主走査方向の中央部で前記発熱体側に延出するようにパターン形成されており、前記一対の電極の前記先端部は、前記発熱体側に向かうにつれて幅が狭くなっているとともに、主走査方向の両端部から先端へ延びる縁がそれぞれ凹状に湾曲していることを特徴とするものである。
【0010】
【発明の実施の形態】
以下、本発明を添付図面に基づいて詳細に説明する。
図1は本発明の製造方法によって製作したサーマルヘッドの平面図、図2は図1のサーマルヘッドの断面図であり、1はセラミック基板、3aは抵抗薄膜から成る発熱体、4a,4bは金属薄膜から成る一対の電極である。
【0011】
前記セラミック基板1は、アルミナセラミックス等のセラミック材料により矩形状をなすように形成されており、その上面にはグレーズ層2や発熱体3,一対の電極4a,4b等が被着・形成され,これらを支持する支持母材として機能する。
【0012】
尚、前記セラミック基板は、アルミナセラミックスから成る場合、アルミナ、シリカ、マグネシア等のセラミックス原料を用いて形成したセラミックグリーンシートを所定形状に打ち抜いた上、これを高温で焼成することによって製作される。
【0013】
また前記セラミック基板1の上面には、その全面にわたりグレーズ層2が被着されており、該グレーズ層2の上面には更に複数個の発熱体3a及び一対の電極4a,4bが所定パターンに被着・形成されている。
【0014】
前記グレーズ層2は、ガラス等の低熱伝導性材料により形成され、その内部で発熱体3aの発する熱の一部を蓄積することにより、発熱体3aの温度が短時間で印画に必要な所定の温度となるようにサーマルヘッドの熱応答特性を良好に維持する蓄熱層としての作用を為す。
【0015】
前記グレーズ層2は、ガラスから成る場合、ガラス粉末に適当な有機溶剤などを添加・混合して得た所定のガラスペーストを従来周知のスクリーン印刷法等によってセラミック基板1の上面全域に印刷・塗布し、これを高温で焼き付けることによって形成される。
【0016】
また前記グレーズ層2の上面に設けられている複数個の発熱体3aは、セラミック基板1の一辺に沿って例えば600dpi(dot per inch)の密度で主走査方向に直線状に配列されており、例えばTaSiOやTiSiO,TaN等の電気抵抗材料を0.01μm〜0.2μmの厚みに被着させた抵抗薄膜3により形成されているため、後述する一対の電極4a,4b等を介して電源電力が印加されると、ジュール発熱を起こし、印画を形成するのに必要な所定の温度となる。
【0017】
一方、前記一対の電極4a,4bは、図示しないドライバーICの駆動に伴って前記発熱体3に電源電力を供給するためのものであり、全ての発熱体3aに共通接続される共通電極4aと各発熱体3aに個別に接続される個別電極4bとで構成され、例えばアルミニウム(Al)や銅(Cu)等の金属を0.3μm〜2.5μmの厚みに被着させた金属薄膜4により形成されている。
【0018】
また、このような一対の電極4a,4bは、発熱体3aを挟んで対向する先端部が主走査方向の中央部で10μm〜50μm程度、発熱体3a側に延出するようにパターニングされており、これにより各発熱体3aの平面視形状は主走査方向の中央域が両端域に比し狭い形となっている。
【0019】
そして、上述した発熱体3aや一対の電極4a,4bの表面には更に保護膜5が被着され、この保護膜5によって発熱体3a及び一対の電極4a,4bが被覆されている。
【0020】
前記保護膜5は、窒化珪素(Si3N4)や炭化珪素(SiC),サイアロン(Si-Al-O-N)等の耐磨耗性ならびに耐腐食性に優れた無機質材料から成り、先に述べた発熱体3aや一対の電極4a,4bを大気中に含まれている水分等の接触による腐食や記録媒体の摺接による磨耗から良好に保護する作用を為す。
【0021】
尚、前記保護膜5は、例えば従来周知のスパッタリング法等を採用し、上述の無機質材料を発熱体3aや一対の電極4a,4bが設けられているグレーズ層2等の上面に3μm〜10μmの厚みに被着させることによって形成される。
【0022】
かくして上述したサーマルヘッドは、感熱紙等の記録媒体を複数個の発熱体3a上に搬送しながら、これらの発熱体3aを外部からの画像データに基づいて個々に選択的にジュール発熱させるとともに該発熱した熱を上記記録媒体に伝導させ、記録媒体に印画を形成することによってサーマルヘッドとして機能する。
【0023】
かかる構造のサーマルヘッドは、各発熱体3aの平面視形状が、先に述べたように主走査方向の中央域で両端域に比し狭くなしてあり、一対の電極4a,4bが、発熱体3aを挟んで対向する先端部が主走査方向の中央部で10μm〜50μm程度、発熱体3a側に延出するようにパターニングされているため、印画の際、記録媒体との摩擦を小さくして紙カスの発生量を低減させることができ、紙カスの付着などに起因した印画品質の劣化を有効に防止することができるとともに紙カスの除去に伴うメンテナンス等の手間を軽減することができる利点がある。
【0024】
次に上述したサーマルヘッドの発熱体3と一対の電極4a,4bとをセラミック基板1上にパターン形成するための方法について図3を用いて説明する。
【0025】
(1)まず、グレーズ層2が被着されているセラミック基板1を準備し、その上面に、図3(a)に示す如く、抵抗薄膜3及び金属薄膜4から成る積層体6を形成する。
【0026】
前記抵抗薄膜3及び金属薄膜4は、従来周知のスパッタリングや真空蒸着等の薄膜形成技術を採用し、TaSiO等の電気抵抗材料とAl等の金属材料とをグレーズ層2が設けられているセラミック基板1の上面に順次、被着させることによって形成される。
【0027】
尚、前記積層体6の厚みは、抵抗薄膜3が例えば0.01μm〜0.2μmに、金属薄膜4が例えば0.3μm〜2.5μmに設定される。
【0028】
(2)次に、図3(b)に示す如く、従来周知のフォトリソグラフィー技術を採用し、上述した積層体6の上面全域に感光性樹脂から成るフォトレジスト7aを被着・形成する。
【0029】
前記感光性樹脂としては、露光・現像のプロセスにおいて、紫外光を照射した部位が変質して除去されるポジ型の感光性樹脂が使用され、このような性質をもった液状の感光性樹脂を従来周知のスピンコート法やロールコート法等によって積層体6の上面に塗布するとともに、これを乾燥させ、しかる後、図1に示した発熱体3a及び電極4a,4bの形状に対応した所定パターンのフォトマスクを用いて、感光性樹脂を露光及び現像することによりフォトレジスト7aが形成される。
【0030】
尚、この露光プロセスにおいて、上述のフォトマスクを介して感光性樹脂に照射される紫外光は、発熱体3a及び電極4a,4bの反転パターンにて露光され、これを現像して得られるフォトレジスト7aの形状は発熱体3a及び電極4a,4bのパターンに対応した形状となる。
【0031】
(3)次に、図3(c)に示す如く、従来周知のエッチング技術を採用し、フォトレジスト7aが存在しない部位の金属薄膜4及び抵抗薄膜3を連続的に除去する。
【0032】
このエッチングは、前記積層体6を、金属薄膜4と抵抗薄膜3の双方をエッチングすることができる強酸系のエッチング液に浸漬して、フォトレジスト7aが存在しない部位の積層体6をエッチング液で浸食・除去することにより行われ、これによって前記積層体6は発熱体3及び一対の電極4a,4bの外形に沿ってパターニングされることとなる。
【0033】
(4)そして次に、図3(d)に示す如く、積層体6上に残存するフォトレジスト7aを更に発熱体3aのパターンに露光・現像し、最後に、図3(e)に示す如く、フォトレジスト7aが存在しない部位の金属薄膜4をエッチング除去する。
【0034】
この露光プロセスでは発熱体3aのパターンに対応したフォトマスクが用いられ、これに続くエッチングのプロセスでは、上述のフォトマスクを用いて露光・現像して得たフォトレジスト7a’のパターンに応じて金属薄膜4の一部がエッチング除去される。即ち、上述の露光・現像により露出した金属薄膜4の表面に先のエッチング液とは異なる強酸系のエッチング液を接触させて、金属薄膜4の一部を除去することにより、発熱体形成部の抵抗薄膜3が露出して複数個の発熱体3aがパターン形成されるとともに該露出部の両側で金属薄膜4が共通電極4aと個別電極4bとに分離され、所望のサーマルヘッドパターンが得られる。
【0035】
以上のような本形態の製造方法によれば、発熱体3a及び一対の電極4a,4bをパターン形成する際、抵抗薄膜3と金属薄膜4とから成る積層体6を単一の感光性樹脂7を2段階で露光・現像することにより、発熱体3a及び一対の電極4a,4bを微細加工するようにしたことから、フォトレジスト7aを途中で剥離させたり、新たなフォトレジストを被着させるといった手間がなくなり、発熱体3a及び一対の電極4a,4bのパターン形成のプロセスを簡略化することができる。従って、サーマルヘッドの生産性が大幅に向上される。
【0036】
また上述の方法によってサーマルヘッドを製造したとき、各発熱体3aの平面視形状が主走査方向の中央域で両端域に比し狭くなるのは、(4)の工程で述べた2度めのエッチングの際に電極4a,4bの角部が側面側より浸食(サイドエッチング)されるためであり、これによって紙カス発生量が低減された、手入れの簡単なサーマルヘッドが得られる。
【0037】
尚、本発明は上述の実施形態に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲において種々の変更、改良等が可能である。
【0038】
例えば、上述の実施形態において金属薄膜4のサイドエッチングを抑えるために2度めのエッチングを行う前にフォトレジスト7aをベークするようにしても構わない。
【0039】
【発明の効果】
本発明によれば、発熱体及び一対の電極をパターン形成する際、発熱体を形成する抵抗薄膜と一対の電極を形成する金属薄膜とを順次積層し、その表面に被着される単一の感光性樹脂(フォトレジスト)を2段階で露光・現像することにより、発熱体及び一対の電極を微細加工するようにしたことから、フォトレジストを途中で剥離させたり、新たなフォトレジストを被着させるといった手間がなくなり、発熱体及び一対の電極のパターン形成のプロセスを簡略化してサーマルヘッドの生産性を向上させることができるようになる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の製造方法によって製作したサーマルヘッドの平面図である。
【図2】図1のサーマルヘッドの断面図である。
【図3】(a)〜(e)は本発明の製造方法を説明するための工程毎の斜視図である。
【図4】従来のサーマルヘッドの平面図である。
【符号の説明】
1・・・セラミック基板、3・・・抵抗薄膜、3a・・・発熱体、4・・・金属薄膜、4a,4b・・・一対の電極、6・・・積層体、7a,7a’・・・フォトレジスト
Claims (1)
- セラミック基板の上面上に、主走査方向に沿って配列された抵抗薄膜から成る複数の発熱体と、前記抵抗薄膜上に形成された金属薄膜から成り、前記発熱体の両端に電気的に接続される一対の電極とを被着・形成してなるサーマルヘッドであって、
前記一対の電極は、前記発熱体を挟んで対向する先端部が、主走査方向の中央部で前記発熱体側に延出するようにパターン形成されており、
前記一対の電極の前記先端部は、前記発熱体側に向かうにつれて幅が狭くなっているとともに、主走査方向の両端部から先端へ延びる縁がそれぞれ凹状に湾曲していることを特徴とするサーマルヘッド。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001022716A JP4748864B2 (ja) | 2001-01-31 | 2001-01-31 | サーマルヘッド |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001022716A JP4748864B2 (ja) | 2001-01-31 | 2001-01-31 | サーマルヘッド |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2002225325A JP2002225325A (ja) | 2002-08-14 |
JP4748864B2 true JP4748864B2 (ja) | 2011-08-17 |
Family
ID=18888091
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2001022716A Expired - Fee Related JP4748864B2 (ja) | 2001-01-31 | 2001-01-31 | サーマルヘッド |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4748864B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4696506B2 (ja) * | 2004-09-10 | 2011-06-08 | Tdk株式会社 | サーマルヘッドおよびその製造方法ならびにこれを用いた印画装置 |
JP5044133B2 (ja) * | 2005-12-28 | 2012-10-10 | 京セラ株式会社 | サーマルヘッドおよびサーマルプリンタ |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6140004A (ja) * | 1984-07-31 | 1986-02-26 | 富士通株式会社 | 抵抗器のパタ−ン形成方法 |
JPS62204967A (ja) * | 1986-03-05 | 1987-09-09 | Toshiba Corp | サ−マルヘツドの製造方法 |
JPH01306261A (ja) * | 1988-06-06 | 1989-12-11 | Toshiba Corp | サーマルヘッド |
-
2001
- 2001-01-31 JP JP2001022716A patent/JP4748864B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2002225325A (ja) | 2002-08-14 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20071019 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20100701 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100720 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100916 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20110118 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20110310 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20110419 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20110517 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140527 Year of fee payment: 3 |
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LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |