JP4737930B2 - 高純度シリカゲルの製造方法 - Google Patents
高純度シリカゲルの製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4737930B2 JP4737930B2 JP2003426254A JP2003426254A JP4737930B2 JP 4737930 B2 JP4737930 B2 JP 4737930B2 JP 2003426254 A JP2003426254 A JP 2003426254A JP 2003426254 A JP2003426254 A JP 2003426254A JP 4737930 B2 JP4737930 B2 JP 4737930B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- aqueous solution
- alkali metal
- metal silicate
- silica gel
- impurity removal
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Landscapes
- Silicon Compounds (AREA)
Description
〔1〕
高純度シリカゲルを製造する方法において、
前記第2段不純物除去工程で得られたシリカヒドロゲルについて、さらにアルカリ金属ケイ酸塩水溶液生成工程、及び第2段不純物除去工程をセットで1回以上実施する〔1〕項に記載の高純度シリカゲルの製造方法。
アルカリ金属ケイ酸塩水溶液の当該鉱酸液中への流出速度が0.3〜0.9m/sである〔1〕項または〔2〕項に記載の高純度シリカゲルの製造方法。
本発明においては、基本的に、
(1)アルカリ金属ケイ酸塩水溶液からシリカヒドロゲルを生成、水洗する第1段不純物除去工程(以下「第1段工程」ということもある。)、
(2)得られたシリカヒドロゲルからアルカリ金属ケイ酸塩水溶液生成工程、及び
(3)このアルカリ金属ケイ酸塩水溶液から再度シリカヒドロゲルの生成、酸浸漬する第2段不純物除去工程(以下「第2段工程」ということもある。)を含む。
第1段工程は、原料であるアルカリ金属ケイ酸塩水溶液を、好ましくは撹拌下に、孔径(内径を示す。以下同じ。)1.0〜4.0mmφのチュ−ブから、濃度5〜30質量%の鉱酸水溶液中に直接押し出して粒状のシリカヒドロゲルを生成し、次いで水洗する不純物除去工程である。
以上のごとくして得られたシリカヒドロゲル粒子は、酸水溶液と分離し、充分水洗される。
当該溶解工程は、第1段不純物除去工程で得られた粒状のシリカヒドロゲルを、再度水酸化ナトリウム水溶液(一般的には、水酸化アルカリ水溶液)により溶解し、第2段不純物除去工程の原料となるアルカリ金属ケイ酸塩水溶液を調製する工程である。
第2段不純物除去工程は、この調製したアルカリ金属ケイ酸塩水溶液から、再度シリカヒドロゲルの生成、酸浸漬して不純物の抽出除去を行う不純物除去工程である。
この酸浸漬による不純物除去工程は、基本的に第1段不純物除去工程と同様の操作を行えばよい。
以下、実施例をあげて本発明を具体的に説明するが、本発明の技術的範囲がこれに限定されるものではない。なお、%とあるものは、とくに断りなき限り、質量%である。
(1)第2段不純物除去工程のみを実施する実験を行った。すなわち、ケイ酸ナトリウム水溶液(SiO2:24%、モル比SiO2/NaO=3.1)900gを、内径1.0mmφのフッ素樹脂チューブを通して、75℃に保持した1.5%過酸化水素と15%硫酸の混合水溶液1Lを入れた凝固浴中へ、ポンプで、0.48m/sの速度で押し出しゲル化させた。
第1段不純物除去工程及び第2段不純物除去工程の凝固浴の鉱酸に40%硫酸を使用したことを除いて、実施例1と同様の操作方法を行った。しかしながら、この条件では、凝固浴へ押し出した後、凝固速度が速くなりすぎて、ケイ酸ナトリウム水溶液が、その押し出しチューブ出口で直ちに凝固してしまい、操作性及び反応制御性が著しく悪化し、操作継続不能となった。
第1段不純物除去工程及び第2段不純物除去工程のケイ酸ナトリウム水溶液を凝固浴液中に押し出す際、内径5.0mmφのチューブを使用するほかは、実施例1と同様の実験を行った。得られた乾燥シリカゲルの不純物濃度をICP分析法により測定した結果を表1に示した。
表1から明らかなごとく、本発明で規定した方法に従えば、実施例1〜4に示したように、出発原料として市販のアルカリ金属ケイ酸塩水溶液を、そのまま使用したにかかわらず、その目的とする不純物濃度を極限まで低下せしめた高純度シリカゲルを、安定的に、かつ、安価に得ることができる。
Claims (3)
- 高純度シリカゲルを製造する方法において、
(1)アルカリ金属ケイ酸塩水溶液を、孔径1.0〜4.0mmφのチュ−ブまたは細管から濃度5〜30質量%の鉱酸水溶液中に直接押し出して粒径0.1〜2.0mmの粒状のシリカヒドロゲルを生成し、次いで水洗する第1段不純物除去工程、
(2)得られた粒状のシリカヒドロゲルを水酸化ナトリウム水溶液により溶解する、アルカリ金属ケイ酸塩水溶液生成工程、及び
(3)このアルカリ金属ケイ酸塩水溶液を、再び孔径1.0〜4.0mmφのチューブまたは細管から濃度5〜30質量%の鉱酸水溶液中に直接押し出して再び粒径0.1〜2.0mmの粒状のシリカヒドロゲルを生成し、この粒状のシリカヒドロゲルを更に濃度5〜30質量%の鉱酸水溶液に浸漬した後水洗する第2段不純物除去工程を含むことを特徴とする高純度シリカゲルの製造方法。 - 前記第2段不純物除去工程で得られたシリカヒドロゲルについて、さらにアルカリ金属ケイ酸塩水溶液生成工程、及び第2段不純物除去工程をセットで1回以上実施する請求項1に記載の高純度シリカゲルの製造方法。
- アルカリ金属ケイ酸塩水溶液の当該鉱酸水溶液中への流出速度が0.3〜0.9m/sである請求項1または2に記載の高純度シリカゲルの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003426254A JP4737930B2 (ja) | 2003-12-24 | 2003-12-24 | 高純度シリカゲルの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003426254A JP4737930B2 (ja) | 2003-12-24 | 2003-12-24 | 高純度シリカゲルの製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2005179159A JP2005179159A (ja) | 2005-07-07 |
JP4737930B2 true JP4737930B2 (ja) | 2011-08-03 |
Family
ID=34785838
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2003426254A Expired - Fee Related JP4737930B2 (ja) | 2003-12-24 | 2003-12-24 | 高純度シリカゲルの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4737930B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN111747419B (zh) * | 2020-07-08 | 2023-08-22 | 青岛美高集团有限公司 | 一种降低硅胶中重金属含量的方法 |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003183018A (ja) * | 2001-12-17 | 2003-07-03 | Mitsubishi Rayon Co Ltd | 高純度珪酸アルカリ及びその製造方法 |
-
2003
- 2003-12-24 JP JP2003426254A patent/JP4737930B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2005179159A (ja) | 2005-07-07 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5032223B2 (ja) | ポリシリコン破砕物を清浄化する方法 | |
KR930001210B1 (ko) | 고순도 실리카의 제조공정 | |
CN105132693B (zh) | 一种从胶体活化钯活化后的酸钯废液中回收钯的工艺 | |
JP2011126757A (ja) | 硫酸ニッケル水溶液の製造方法 | |
RU2198138C2 (ru) | СПОСОБ ОЧИСТКИ ЧАСТИЦ SiO2, УСТРОЙСТВО ДЛЯ ОСУЩЕСТВЛЕНИЯ СПОСОБА И ЗЕРНО, ПОЛУЧЕННОЕ СОГЛАСНО СПОСОБУ | |
TW200930663A (en) | Method of recycling fluoride from a waste solution including hydrofluoric acid to produce fluosilicate | |
TWI221149B (en) | Method for producing synthetic quartz glass | |
JPS61158810A (ja) | 高純度シリカゾルの製造法 | |
JP4737930B2 (ja) | 高純度シリカゲルの製造方法 | |
JP2010037188A (ja) | 脱色されたアルミン酸ソーダ水溶液の製造方法 | |
CN105722785A (zh) | 氢气制造用硅原料a、氢气制造用硅原料b、氢气制造用硅原料a的制造方法、氢气制造用硅原料b的制造方法、氢气制造方法和氢气制造装置 | |
AT504602B1 (de) | Verfahren und vorrichtung zur herstellung wasserfreier seltenerdhalogenide von kristallqualität | |
JP2002500609A (ja) | アセテートイオンの存在下でのイオン交換による超高純度過酸化水素溶液の製造プロセス | |
JPH0535086B2 (ja) | ||
CN111533097A (zh) | 一种黄磷氧化脱砷的方法 | |
CN108251643B (zh) | 一种氧化法脱除硫酸锌溶液中微量硒和碲的方法 | |
JP3268890B2 (ja) | 1,3−シクロヘキサンジカルボン酸の製造方法 | |
JP5281514B2 (ja) | 硫酸銅水溶液の製造方法 | |
JP2002322106A5 (ja) | ||
KR100816084B1 (ko) | 이온교환수지를 이용한 연속공정으로 실리카 졸을 제조하는방법 | |
JP5739687B2 (ja) | アルコールの精製方法、装置及びシステム | |
JP3442120B2 (ja) | シリカヒドロゲルを洗浄する方法 | |
CN104860843B (zh) | 一种丙酮连氮的合成方法 | |
JPS6256319A (ja) | 高純度シリカの製造法 | |
JP5036990B2 (ja) | フッ化マンガンの製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20061020 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20090126 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20090202 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20090402 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100319 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100423 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20110415 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20110426 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Ref document number: 4737930 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140513 Year of fee payment: 3 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |