JP4734106B2 - 分析装置 - Google Patents
分析装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4734106B2 JP4734106B2 JP2005356788A JP2005356788A JP4734106B2 JP 4734106 B2 JP4734106 B2 JP 4734106B2 JP 2005356788 A JP2005356788 A JP 2005356788A JP 2005356788 A JP2005356788 A JP 2005356788A JP 4734106 B2 JP4734106 B2 JP 4734106B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- distribution
- difference
- coexistence
- rays
- electronic component
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Description
I0:基準位置に換算した場合のX線強度の補正値
Ii:各測定位置で測定されたX線強度
L0:検出器から基準位置までの基準距離
Li:検出器から各測定位置までの距離
このように補正されたX線強度は、配置された領域の位置情報に対応させたマッピングデータとして記憶装置57の記憶領域に格納される。このようなマッピングデータは、検出対象として指定された元素毎に生成され、後述する各処理にて使用される。
[第一実施例]
本発明の第一実施例では、鉛(Pb)と共存する錫(Sn)の蛍光X線の種類とエネルギーに注目し、Sn−Kα線(25.2KeV)の分布とSn−Lα線(3.4KeV)の分布の差分を取ることによって得たSnの分布とPbの分布とが重なる場合、Sn−Pb合金は部品表面ではなく部品内部に存在すると判定する。
・ Sn−Lα線(3.4KeV) 0.05mm
・ Sn−Kα線(25.2KeV) 15.0 mm
であることから、Sn−Lα線を用いると表面付近の情報のみを、Sn−Kα線を用いると表面付近の情報に加えて部品内部の情報を得ることができる。
[第二実施例]
従来技術では、電子部品でカドミウムが検出されると、カドミウム含有という判定になる。または、さらに点分析を行い、組成から接点のカドミニウムめっきであることを確かめる必要がある。また、従来技術では、カドミウムの使用されている場所を特定することができないため、電子部品を分解し、場所を確認する必要があった。
(付記1)
X線で励起した特性X線(蛍光X線)による元素マッピングを用いて電子部品に含有される特定物質を分析する分析装置であって、
特定物質を構成する任意の元素に関し、エネルギーの異なる2種類以上の特性X線を用いることによって、第一の元素と第二の元素とが共存を示す分布を2種類以上取得する共存分布取得手段と、
前記2種類以上の分布の差分を取得する差分分布取得手段と、
前記差分を示す分布によって前記電子部品の部品内部における前記第一の元素と第二の元素の存在を判定する内部共存元素判定手段とを有することを特徴とする分析装置。
(付記2)
少なくとも前記第一の元素と前記第二の元素とのいずれか一方は有害物質であることを特徴とする付記1記載の分析装置。
(付記3)
前記内部共存元素判定手段によって前記第一の元素と前記第二の元素とが部品内部に共存すると判定した場合、有害物質としての規制対象であるとして表示ユニットに前記分布を表示させる表示手段を有することを特徴とする請求項1記載の分析装置。
(付記4)
前記第一の元素と前記第二の元素は、鉛と錫であることを特徴とする付記1乃至3のいずれか一項記載の分析装置。
(付記5)
共存分布取得手段は、前期第一の元素の蛍光X線の種類としてエネルギーが10.6KeVであるPb−Lα線を、また、前記第二の元素の蛍光X線の種類として、エネルギーが25.2KeVであるSn−Kα線と、エネルギーが3.4KeVであるSn−Lα線とを設定することを特徴とする付記1乃至4のいずれか一項記載の分析装置。
(付記6)
X線で励起した特性X線(蛍光X線)による元素マッピングを用いて電子部品に含有される特定物質を分析する分析方法であって、コンピュータが、
特定物質を構成する任意の元素に関し、エネルギーの異なる2種類以上の特性X線を用いることによって、第一の元素と第二の元素とが共存を示す分布を2種類以上取得する共存分布取得手順と、
前記2種類以上の分布の差分を取得する差分分布取得手順と、
前記差分を示す分布によって前記電子部品の部品内部における前記第一の元素と第二の元素の存在を判定する内部共存元素判定手順とを実行することを特徴とする分析方法。
(付記7)
X線で励起した特性X線(蛍光X線)による元素マッピングを用いて電子部品に含有される特定物質を分析する分析処理をコンピュータに行わせるためのコンピュータ実行可能なプログラムであって、該コンピュータに、
特定物質を構成する任意の元素に関し、エネルギーの異なる2種類以上の特性X線を用いることによって、第一の元素と第二の元素とが共存を示す分布を2種類取得する共存分布取得手順と、
前記2種類以上の分布の差分を取得する差分分布取得手順と、
前記差分を示す分布によって前記電子部品の部品内部における前記第一の元素と第二の元素の存在を判定する内部共存元素判定手順とを実行させることを特徴とするコンピュータ実行可能なプログラム。
(付記8)
X線で励起した特性X線(蛍光X線)による元素マッピングを用いて電子部品に含有される特定物質を分析する分析装置であって、
第一の元素と第二の元素とが共存を示す分布を取得する共存分布取得手段と、
前記第一の元素の分布と前記共存分布取得手段によって取得した前記共存を示す分布との差分を取得する差分分布取得手段と、
前記共存分布取得手段によって取得した分布と前記差分分布取得手段によって取得した差分による分布の少なくとも1つ以上を表示ユニットに表示させる表示手段とを有することを特徴とする分析装置。
(付記9)
透過X線による前記電子部品の形状画像を取得する形状画像取得手段を更に有し、
前記表示手段は、前記形状画像と対比させて、前記前記共存分布取得手段によって取得した前記分布と前記差分分布取得手段によって取得した差分による分布の少なくとも1つ以上を表示ユニットに表示させることを特徴とする付記8記載の分析装置。
(付記10)
前記第一の元素はカドミウムであり、前記第二の元素は銀であることを特徴とする付記8記載の分析装置。
(付記11)
前記表示手段は、前記共存分布取得手段によって取得した分布を有害物質としての規制対象であるとして表示ユニットに表示させることを特徴とする付記8乃至10のいずれか一項記載の分析装置。
(付記12)
X線で励起した特性X線(蛍光X線)による元素マッピングを用いて電子部品に含有される特定物質を分析する分析方法であって、コンピュータが、
第一の元素と第二の元素とが共存を示す分布を取得する共存分布取得手順と、
前記第一の元素の分布と前記共存分布取得手順によって取得した前記共存を示す分布との差分を取得する差分分布取得手順と、
前記共存分布取得手順によって取得した分布と前記差分分布取得手順によって取得した差分による分布の少なくとも1つ以上を表示ユニットに表示させる表示手順とを有することを特徴とする分析方法。
(付記13)
X線で励起した特性X線(蛍光X線)による元素マッピングを用いて電子部品に含有される特定物質を分析する分析処理をコンピュータに行わせるためのコンピュータ実行可能なプログラムであって、該コンピュータに、
第一の元素と第二の元素とが共存を示す分布を取得する共存分布取得手順と、
前記第一の元素の分布と前記共存分布取得手順によって取得した前記共存を示す分布との差分を取得する差分分布取得手順と、
前記共存分布取得手順によって取得した分布と前記差分分布取得手順によって取得した差分による分布の少なくとも1つ以上を表示ユニットに表示させる表示手順とを有することを特徴とするコンピュータ実行可能なプログラム。
52 メモリユニット
53 表示ユニット
54 出力ユニット
55 入力ユニット
56 通信ユニット
57 記憶装置
58 ドライバ
59 記憶媒体
61 インターフェイス(I/F)
62 蛍光X線測定器
Claims (7)
- X線で励起した特性X線による元素マッピングを用いて電子部品に含有される特定物質を分析する分析装置であって、
特定物質を構成する任意の元素に関し、エネルギーの異なる2種類以上の特性X線を用いて元素マッピングを行うことにより、第一の元素と第二の元素の共存を示す分布を2種類以上取得する共存分布取得手段と、
前記2種類以上の分布の差分を取得する差分分布取得手段と、
前記差分を示す分布によって前記電子部品の部品内部における前記第一の元素と第二の元素の存在を判定する内部共存元素判定手段とを有することを特徴とする分析装置。 - 前記内部共存元素判定手段によって前記第一の元素と前記第二の元素とが部品内部に共存すると判定した場合、有害物質としての規制対象であるとして表示ユニットに前記分布を表示させる表示手段を有することを特徴とする請求項1記載の分析装置。
- 共存分布取得手段は、前記第一の元素の蛍光X線の種類としてエネルギーが10.6KeVであるPb−Lα線を、また、前記第二の元素の蛍光X線の種類として、エネルギーが25.2KeVであるSn−Kα線と、エネルギーが3.4KeVであるSn−Lα線とを設定することを特徴とする請求項1又は2記載の分析装置。
- X線で励起した特性X線による元素マッピングを用いて電子部品に含有される特定物質を分析する分析方法であって、コンピュータが、
特定物質を構成する任意の元素に関し、エネルギーの異なる2種類以上の特性X線を用いて元素マッピングを行うことにより、第一の元素と第二の元素の共存を示す分布を2種類以上取得する共存分布取得手順と、
前記2種類以上の分布の差分を取得する差分分布取得手順と、
前記差分を示す分布によって前記電子部品の部品内部における前記第一の元素と第二の元素の存在を判定する内部共存元素判定手順とを実行することを特徴とする分析方法。 - X線で励起した特性X線による元素マッピングを用いて電子部品に含有される特定物質を分析する分析装置であって、
第一の元素と第二の元素に係り各々に対応する特性X線による元素マッピングを行うことにより取得した該第一の元素の分布と該第二の元素の分布の差分を求めて、該第一の元素と該第二の元素の共存を示す分布を取得する共存分布取得手段と、
前記第一の元素の分布と前記共存分布取得手段によって取得した前記共存を示す分布との差分を取得する差分分布取得手段と、
前記差分分布取得手段によって取得した差分による分布を表示ユニットに表示させる表示手段とを有することを特徴とする分析装置。 - 透過X線による前記電子部品の形状画像を取得する形状画像取得手段を更に有し、
前記表示手段は、前記形状画像と対比させて、前記前記共存分布取得手段によって取得した前記分布と前記差分分布取得手段によって取得した差分による分布の少なくとも1つ以上を表示ユニットに表示させることを特徴とする請求項5記載の分析装置。 - X線で励起した特性X線による元素マッピングを用いて電子部品に含有される特定物質を分析する分析方法であって、コンピュータが、
第一の元素と第二の元素に係り各々に対応する特性X線による元素マッピングを行うことにより取得した該第一の元素の分布と該第二の元素の分布の差分を求めて、該第一の元素と該第二の元素の共存を示す分布を取得する共存分布取得手順と、
前記第一の元素の分布と前記共存分布取得手順によって取得した前記共存を示す分布との差分を取得する差分分布取得手順と、
前記差分分布取得手順によって取得した差分による分布を表示ユニットに表示させる表示手順とを有することを特徴とする分析方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005356788A JP4734106B2 (ja) | 2005-12-09 | 2005-12-09 | 分析装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005356788A JP4734106B2 (ja) | 2005-12-09 | 2005-12-09 | 分析装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007163183A JP2007163183A (ja) | 2007-06-28 |
JP4734106B2 true JP4734106B2 (ja) | 2011-07-27 |
Family
ID=38246254
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2005356788A Expired - Fee Related JP4734106B2 (ja) | 2005-12-09 | 2005-12-09 | 分析装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4734106B2 (ja) |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009031182A (ja) * | 2007-07-30 | 2009-02-12 | X-Ray Precision Inc | X線透視分析装置 |
JP5135950B2 (ja) * | 2007-08-27 | 2013-02-06 | 富士通株式会社 | 蛍光x線分析方法 |
JP5328264B2 (ja) * | 2008-08-21 | 2013-10-30 | 株式会社日立ハイテクサイエンス | 元素マッピング装置及び元素マッピング画像表示方法 |
JP5307504B2 (ja) * | 2008-08-22 | 2013-10-02 | 株式会社日立ハイテクサイエンス | X線分析装置及びx線分析方法 |
JP2011169821A (ja) | 2010-02-19 | 2011-09-01 | Sii Nanotechnology Inc | X線分析装置およびx線分析のマッピング方法 |
JP5684612B2 (ja) * | 2011-03-09 | 2015-03-18 | 株式会社日立ハイテクサイエンス | X線分析装置 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001291088A (ja) * | 2000-04-07 | 2001-10-19 | Ge Yokogawa Medical Systems Ltd | 医用画像表示装置 |
JP2004343176A (ja) * | 2003-05-13 | 2004-12-02 | Canon Inc | 画像処理方法 |
-
2005
- 2005-12-09 JP JP2005356788A patent/JP4734106B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001291088A (ja) * | 2000-04-07 | 2001-10-19 | Ge Yokogawa Medical Systems Ltd | 医用画像表示装置 |
JP2004343176A (ja) * | 2003-05-13 | 2004-12-02 | Canon Inc | 画像処理方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2007163183A (ja) | 2007-06-28 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4734106B2 (ja) | 分析装置 | |
JP4874697B2 (ja) | 電子プローブx線分析装置及びその動作方法 | |
Vanhoof et al. | Applicability of portable XRF systems for screening waste loads on hazardous substances as incoming inspection at waste handling plants | |
JP2008521003A (ja) | X線マイクロ分析法を用いて複雑な構造の含有化学物質を決定するための方法 | |
JP2013036984A (ja) | 蛍光x線分析装置 | |
Ott et al. | Forensic identification of fentanyl and its analogs by electrochemical-surface enhanced Raman spectroscopy (EC-SERS) for the screening of seized drugs of abuse | |
JP4794848B2 (ja) | 分析装置 | |
US7289598B2 (en) | X-ray fluorescent analysis apparatus | |
JP5447279B2 (ja) | 検査方法 | |
EP1920240B1 (en) | X-ray fluorescence analysis to determine levels of hazardous substances | |
JP3610256B2 (ja) | 蛍光x線分析装置 | |
JP5135950B2 (ja) | 蛍光x線分析方法 | |
JP6191051B2 (ja) | 蛍光x線分析装置 | |
89 | Hand-held X-ray fluorescence spectrometry | |
CN101400305A (zh) | 定量测量聚合物样品中痕量金属的方法 | |
JP2008039680A (ja) | 特定物質の含有判定方法およびその装置 | |
JP2017020924A (ja) | 樹脂判別装置及び樹脂判別方法 | |
Shrivastava et al. | Handheld x-ray fluorescence: practical application as a screening tool to detect the presence of environmentally-sensitive substances in electronic equipment | |
Knoop et al. | Interference-free determination of REEs in electronic waste using ICP optical emission spectroscopy | |
JP5043387B2 (ja) | 蛍光x線分析による被膜分析方法及び装置 | |
Yeoh et al. | Advanced EDX Analysis for Memory Devices | |
US5990480A (en) | KLM marker display controller for EPMA or the like | |
JP3701133B2 (ja) | 質量分析装置及び分析値の自動診断方法 | |
CN116593513A (zh) | 基于x射线荧光鉴别复杂基体矿物的方法、系统和介质 | |
JP2009103551A (ja) | 蛍光x線分析方法及び蛍光x線分析装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20080911 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20110104 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20110228 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20110329 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20110425 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140428 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |