JP4729961B2 - ハードコートされた光学材料の製造方法 - Google Patents

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Description

本発明は、プラスチック材料、中でも、プラスチックレンズ、プリズム、光ファイバー、情報記録基盤、フィルター等の光学材料、特に眼鏡用プラスチックレンズを製造する方法に係わる。
プラスチック材料は、加工性、機械強度、軽量性の面から、各種光学材料においてガラス材料からの置き換わりが顕著であり、特に眼鏡レンズでは近年多用されている。しかしながら、その反面、プラスチック材料はガラス材料に比べ表面硬度が低く傷つき安いため、ハードコートを施したり、ハードコートフィルムを張り合わせて使用する場合が多い。眼鏡プラスチックレンズではハードコートを施しており、多くの場合、密着性、ハードコート後の耐衝撃性などを向上させるためにプライマー層などの中間層を形成した後、ハードコートする方法で製造している(例えば、特許文献1〜7参照)。中でも高屈折率プラスチックレンズ、特にエピスルフィド基を有する化合物を原料としたレンズ製造にこの方法を適用した例が多い(特許文献4〜7参照)。しかしながら、プライマー層などの中間層の形成工程は、工程が煩雑かつ条件が厳密なことや特殊で高価な装置が必要なことから、この層を省略することが望まれている。
プライマー層などの中間層を省略した場合、通常、初期密着性の低下(特許文献3、比較例参照)や耐水性試験後(50℃温水中、5時間)の密着性が低下(特許文献1、比較例参照)する。このため、プラズマ処理、活性酸素処理、アルカリ処理などにより、プラスチック基材の表面状態を変性させる方法が提案されている(特許文献8〜10参照)が、耐湿性などの耐久性試験後の密着性は検討されておらず、実用上望まれる経時変化後の密着性に関しては不十分であった。例えば、エピスルフィド基を有する化合物を原料としたレンズ基材の処理として、オゾン水に浸漬する方法は初期密着性の評価のみであり(特許文献8、実施例参照)、水酸化ナトリウム水溶液に浸漬する方法は初期密着性または温和な条件下(30℃で7日や80℃で10分)での保存後の密着性の評価のみであった(特許文献9および10、実施例参照)。
特許3375793号公報 特開平10−260301号公報 特開平11−167002号公報 特開2001−201602号公報 特開2001−288406号公報 特開2001−288412号公報 特開2003−195003号公報 特開2001−83301号公報 国際公開第01/088048号パンフレット 特開2000−206305号公報
本発明の課題は、エピスルフィド基を有する化合物を原料とした光学材料において、プライマー層などの中間層を形成せずに密着性が高くかつ経時的な物性低下のないハードコートされた光学材料を製造する方法を開発することにある。
本願発明者はこの発明の課題を解決すべく鋭意研究を行った結果、プラスチック基材を酸性物質に浸漬させた後、プライマー層などの中間層を形成せずに直接ハードコートした光学材料が、ハードコートとプラスチックレンズ基材が良好な密着性を有し、かつ耐湿性試験後も良好な密着性が保持されることを見出し、本発明に至った。
本発明のプラスチック基材をハードコートする前に酸性物質に浸漬させる方法により、プライマー層などの中間層を形成せずに密着性の高くかつ経時的な物性低下のないハードコートされた光学材料が得られた。
本発明で行う酸性物質による浸漬処理とは、プラスチック基材を酸性物質(酸性無機化合物および/または酸性有機化合物)を含有する液に浸漬処理して行う。本浸漬処理はハードコート前処理工程とも言えるものであり、本浸漬処理した後に形成したハードコートは良好な密着性を有し、かつ各種耐久性試験後の密着性も良好となる。
本発明で使用する酸性を示す無機化合物の具体例としては、過酸化水素、硝酸、塩酸、過塩素酸、次亜塩素酸、二酸化塩素、フッ酸、硫酸、発煙硫酸、ホウ酸、ヒ酸、亜ヒ酸、ピロヒ酸、リン酸、亜リン酸、次亜リン酸、オキシ塩化リン、オキシ臭化リン、三塩化リン、三臭化リン、五塩化リン、青酸、クロム酸、無水硝酸、無水硫酸、酸化ホウ素、五酸化ヒ素、五酸化リン、無水クロム酸、塩化スルフリル、シリカゲル、シリカアルミナ、ケイ酸類、四フッ化ホウ素等があげられる。有機化合物としては、カルボン酸類、(亜)リン酸エステル類、スルホン酸類、スルフィン酸類、フェノール類、メルカプタン類があげられる。
使用する酸性物質は、単独でも2種類以上混合してもかまわない。これら化合物の中で、好ましいものは過酸化水素、無機酸、スルホン酸類、フェノール類であり、より好ましいものは、過酸化水素及び無機酸であり、さらに好ましいものは過酸化水素、硝酸、塩酸、硫酸、リン酸、亜リン酸、無水硫酸であり、特に好ましいものは硫酸および過酸化水素であり、最も好ましいものは硫酸と過酸化水素の混合物である。
酸性物質の浸漬液中の総濃度は、好ましくは0.1〜99.9wt%であり、より好ましくは1〜90wt%、さらに好ましくは5〜90wt%、特に好ましくは10〜90wt%、最も好ましくは20〜80wt%である。
浸漬液の他の成分は、特に制約はないが、主には溶媒である。溶媒としては、水、アルコール類、エーテル類、ケトン類、エステル類、アミド基やニトロ基を有する化合物などの窒素化合物類、二硫化炭素やジメチルスルホキシドなどの硫黄化合物類などをあげることができ、好ましくは水やアルコール類である。これらの溶媒は、単独でも2種類以上混合して使用してもかまわない。必要に応じて公知の界面活性剤などの添加剤を浸漬液に添加しても良い。
浸漬処理の時間は実質的に効果が得られるのであれば長くて短くてもかまわないが、実用上の面から、1秒以上24時間以下が好ましい。浸漬液の温度も同様に如何様でもかまわないが、−20℃〜200℃が好ましく、より好ましくは0℃〜200℃、特に好ましくは0℃〜150℃である。
十分な処理効果が得られ、浸漬処理されるプラスチック基材の変形、劣化や変色がさけられるので、浸漬温度を上記範囲内にコントロールするのが好ましい。
浸漬前後に、必要に応じてプラスチック基材を、水、アルカリ水溶液、酸水溶液、有機溶媒などで洗浄すること、プラズマ、紫外線、赤外線、可視光線、X線、放射線などの活性エネルギー線の照射、加熱などを行うことは処理効果を高める点で、またムラのない良好なハードコートを得る点でも好ましい。特に、プラスチック基材を浸漬処理後に、水酸化ナトリウムなどの1〜50wt%のアルカリ水溶液で洗浄することが好ましい。
浸漬する際、攪拌、超音波や振動などを加えて、処理効果を促進することも可能である。また、酸性物質によっては通常の加熱では沸点など制約から所望の温度が得られない場合があるが、この時は加圧下あるいは、沸点上昇を可能とする成分を添加し、いわゆる沸点上昇法により所望の処理温度を実現する。加圧により沸点を上昇させる場合は、圧力釜あるいはオートクレーブ等を使用して通常1.1〜20気圧下で実施する。
本発明で使用するハードコートは、着色が少なく、透明性、均一性、密着性、表面硬度に優れるプラスチック基材表面上の被覆であり、ハードコート層としてはハードコート層の本来の機能である耐擦傷性を向上するものであれば良く、従来公知のプラスチックレンズ用のハードコート層が使用可能である。
ハードコート層は、プラスチック基材上に、活性エネルギー線に感応する樹脂又は光硬化性樹脂を、溶解又は分散させたハードコート液をを塗布し、加熱および/または活性エネルギー線を照射し硬化させて形成させる。活性エネルギー線としては、紫外線、赤外線、可視光線、X線、放射線などが使用されるが、一般には紫外線がよく用いられる。
紫外線硬化樹脂の具体例としては、(メタ)アクリル系樹脂、ウレタンアクリレート樹脂、エポキシアクリレート樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ホスファゼン樹脂、メラミン樹脂、アクリルシラン樹脂などがあげられる。
ハードコート形成成分としては、公知の熱硬化性樹脂や光硬化性樹脂などが使用可能である。
熱硬化性樹脂の具体例としては、メラミン系樹脂、シリコーン系樹脂、ウレタン系樹脂、アクリル系樹脂等をもちいたハードコート層が挙げられるが、シリコーン系樹脂をもちいたハードコートが最も好ましい。具体的例としては金属酸化物微粒子、シラン化合物からなるコーティング組成物を塗布し硬化させてハードコート層をもうける。このコーティング組成物にはコロイダルシリカ、および多官能性エポキシ化合物等の成分を含んでいてもよい。金属酸化物微粒子の具体的例としてはSiO、Al、SnO、Sb、Ta、CeO、La、Fe、ZnO、WO、ZrO、In、TiO等の金属酸化物からなる微粒子または2種以上の金属の金属酸化物からなる複合微粒子を、分散媒たとえば水、アルコール系もしくはその他の有機溶媒にコロイド状に分散させたものがあげられる。シラン化合物の具体例として、ビニルトリアルコキシシラン、ビニルトリクロロシラン、ビニルトリ(β−メトキシーエトキシ)シラン、アリルトリアルコキシシラン、アクリルオキシプロピルトリアルコキシシラン、メタクリルオキシプロピルトリアルコキシシラン、メタクリルオキシプロピルジアルコキシメチルシラン、γ−グリシドオキシプロピルトリアルコキシシラン、β−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリアルコキシシラン、メルカプトプロピルトリアルコキシシラン、γ一アミノプロピルトリアルコキシシラン、N−β−(アミノエチル)−γ−アミノプロピルメチルジアルコキシシラン、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラプロポキシシラン、テトライソプロポキシシラン、テトラブトキシシラン、テトラフェノキシシラン、テトラアセトキシシラン、テトラアリロキシシラン、テトラキス(2−メトキシエトキシ)シラン、テトラキス(2−エチルブトキシ)シラン、テトラキス(2−エチルヘキシロキシ)シラン等があげられる。コロイダルシリカは粒径1〜100ミクロンのシリカ微粒子をアルコール、水等の溶剤に分散させたものがあげられる。多官能性エポキシ化合物の具体例としては、1,6−6一ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、エチレングリコールジグリシジルエーテル、ジエチレングリコールジグリシジルエーテル、トリエチレングリコールジグリシジルエーテル、テトラエチレングリコールジグリシジルエーテル、ノナエチレングリコールジグリシジルエーテル、プロピレングリコールジグリシジルエーテル、ジプロピレングリコールジグリシジルエーテル、トリプロピレングリコールジグリシジルエーテル、テトラプロピレングリコールジグリシジルエーテル、ノナプロピレングリコールジグリシジルエーテル、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、ネオペンチルグリコールヒドロキシヒバリン酸エステルのジグリシジルエーテル、トリメチロールプロパンジグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、グリセロールジグリシジルエーテル、グリセロールトリグリシジルエーテル、ジグリセロールジグリシジルエーテル、ジグリセロールトリグリシジルエーテル、ジグリセロールテトラグリシジルエーテル、ペンタエリスリトールジグリシジルエーテル、ペンタエリスリトールトリグリシジルエーテル、ペンタエリスリトールテトラグリシジルエーテル、ジペンタエリスリトールテトラグリシジルエーテル、ソルビトールテトラグリシジルエーテル、トリス(2−ヒドロキシエチル)イソシアヌレートのジグリシジルエーテル、トリス(2−ヒドロキシエチル)イソシアヌレートのトリグリシジルエーテル、等の脂肪族エポキシ化合物、イソホロンジオールジグリシジルエーテル、ビス−2,2−ヒドロキシシクロヘキシルプロパンジグリシジルエーテル等の脂環族エポキシ化合物、レゾルシンジグリシジルエーテル、ビスフェノールAジグリシジルエーテル、ビスフェノールFジグリシジルエーテル、ビスフェノールSジグリシジルエーテル、オルトフタル酸ジグリシジルエステル、フェノールノボラックポリグリシジルエーテル、クレゾールノボラックポリグリシジルエーテル等の芳香族エポキシ化合物等が挙げられる。さらに本発明に使用するハードコート層は従来公知の各種添加剤を含むことが可能である。塗布性の向上を目的とした各種レベリング剤、耐侯性の向上を目的とした紫外線吸収剤や酸化防止剤、さらに染料や顔料等の添加剤を含むことが可能である。
光硬化性樹脂の具体例としては、(メタ)アクリル系樹脂、ウレタンアクリレート樹脂、エポキシアクリレート樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ホスファゼン樹脂、メラミン樹脂、アクリルシラン系樹脂などがあげられる。
ハードコート形成成分の硬化を促進するために、必要に応じて、公知の熱および/または活性エネルギー線重合開始剤を添加することができる。使用量は、通常用いるハードコート形成成分100重量部に対して0.001〜10重量部を添加するが、好ましくは0.01〜5重量を添加することが好ましい。
ハードコート液に、干渉縞の抑制のための屈折率の調整や表面硬度の向上を目的として、微粒子を添加することも可能である。微粒子としては、主に金属酸化物微粒子が好適に用いられ、具体的には、酸化亜鉛、酸化アルミニウム、ニ酸化ケイ素、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化スズ、酸化ベリリウム、酸化ゲルマニウム、酸化アンチモン、酸化タングステン、酸化セリウムなどが使用可能である。これらの金属酸化物微粒子は単独あるいは2種類以上の混合状態で使用可能であり、2種類以上の場合は複合状態や固溶体状態のものも使用可能である。
ハードコート液の塗布は、ディッピングや必要に応じて、ハンドコーター、バーコーター、ロールコーター、スピンコーター、噴霧機などの塗布装置を用いて行ってもよい。ハードコート液の取り扱いは、ゴミや異物など混入を避けるためにクリーンルームなどの清浄な環境で行うのが好ましく、あらかじめPTFEやPETなどのフィルターを通過させてろ過処理を行うことは、得られるハードコートされた光学材料の高度な透明性を達成する面から好ましい。また、硬化は、雰囲気を窒素やヘリウムなどの不活性ガス気流下、適宜フィルムなどで覆って行っても構わない。ハードコート液の硬化温度は、熱硬化あるいは活性エネルギー線硬化に加熱を併用する場合、通常室温以上200℃以下が好ましく、さらに好ましくは室温以上150℃以下である。上記範囲であると、十分な効果が得られ、コートクラックやプラスチック基材およびハードコートの黄変などをさけることができ、好ましい。
本発明のハードコートされた光学材料は、必要に応じて反射防止膜、撥水膜、親水膜を設けることができる。反射防止膜は、ニ酸化ケイ素、酸化チタン、酸化ジルコニウムなどの無機酸化物からなる単層または多層の膜として形成され、反射防止性能が向上した光学材料となる。反射防止膜の形成方法は、通常の真空蒸着法、イオンアシスト法などを用いることができる。撥水膜は、フッ素原子を含有した多官能炭化水素化合物やケイ素化合物などを用いて形成されるが、官能基としてはアルコキシ基、アミノ基、メルカプト基などが好ましい。撥水膜により、水やけ防止や防汚効果などが向上したプラスチックとなる。親水膜は、界面活性剤塗布膜や酸化チタンなどの光触媒物質を含む材料などで形成される。親水膜により、防曇性や防汚効果が向上したプラスチックとなる。撥水膜および/または親水膜は、通常、反射防止膜の上層に形成される。
本発明のプラスチック基材は、下記(1)式で表されるβ―エピチオプロピルチオ構造を1個以上有するエピスルフィド化合物を含む組成物を重合硬化して得られる樹脂である。


好ましくは、下記(2)式で表されるエピスルフィド化合物を少なくとも一種類以上を含む組成物を重合硬化して得られる樹脂であり、本発明の効果が非常に顕著に表れた。
(mは0〜4の整数、nは0〜2の整数を表す)
これらのエピスルフィド化合物の具体例としては、ビス(β−エピチオプロピル)スルフィド、ビス(β−エピチオプロピル)ジスルフィド、ビス(β−エピチオプロピル)トリスルフィド、ビス(β−エピチオプロピルチオ)メタン、1,2−ビス(β−エピチオプロピルチオ)エタン、1,3−ビス(β−エピチオプロピルチオ)プロパン、1,2−ビス(β−エピチオプロピルチオ)プロパン、1,4−ビス(β−エピチオプロピルチオ)ブタン、1,5−ビス(β−エピチオプロピルチオ)ペンタン、1,6−ビス(β−エピチオプロピルチオ)ヘキサン、ビス(β−エピチオプロピルチオエチル)スルフィド、テトラキス(β−エピチオプロピルチオメチル)メタン、1,1,1−トリス(β−エピチオプロピルチオメチル)プロパン、1,5−ビス(β−エピチオプロピルチオ)−2−(β−エピチオプロピルチオメチル)−3−チアペンタン、1,5−ビス(β−エピチオプロピルチオ)−2,4−ビス(β−エピチオプロピルチオメチル)−3−チアペンタン、1,8−ビス(β−エピチオプロピルチオ)−4−(β−エピチオプロピルチオメチル)−3,6−ジチアオクタン、1,8−ビス(β−エピチオプロピルチオ)−4,5−ビス(β−エピチオプロピルチオメチル)−3,6−ジチアオクタン、1,8−ビス(β−エピチオプロピルチオ)−4,4−ビス(β−エピチオプロピルチオメチル)−3,6−ジチアオクタン、1,8−ビス(β−エピチオプロピルチオ)−2,4,5−トリス(β−エピチオプロピルチオメチル)−3,6−ジチアオクタン、1,8−ビス(β−エピチオプロピルチオ)−2,5−ビス(β−エピチオプロピルチオメチル)−3,6−ジチアオクタン、1,9−ビス(β−エピチオプロピルチオ)−5−(β−エピチオプロピルチオメチル)−5−〔(2−β−エピチオプロピルチオエチル)チオメチル〕−3,7−ジチアノナン、1,10−ビス(β−エピチオプロピルチオ)−5,6−ビス〔(2−β−エピチオプロピルチオエチル)チオ〕−3,6,9−トリチアデカン、1,11−ビス(β−エピチオプロピルチオ)−4,8−ビス(β−エピチオプロピルチオメチル)−3,6,9−トリチアウンデカン、1,11−ビス(β−エピチオプロピルチオ)−5,7−ビス(β−エピチオプロピルチオメチル)−3,6,9−トリチアウンデカン、1,11−ビス(β−エピチオプロピルチオ)−5,7−〔(2−β−エピチオプロピルチオエチル)チオメチル〕−3,6,9−トリチアウンデカン、1,11−ビス(β−エピチオプロピルチオ)−4,7−ビス(β−エピチオプロピルチオメチル)−3,6,9−トリチアウンデカン、2,5−ビス(エピチオプロピルチオメチル)−1,4−ジチアン、2,4,6−トリス(エピチオプロピルチオメチル)−1,3,5−ジチアン、(1,3または1,4)−ビス(β−エピチオプロピルチオ)ベンゼン、(1,3または1,4)−ビス(β−エピチオプロピルチオメチル)ベンゼン、ビス〔4−(β−エピチオプロピルチオ)フェニル〕メタン、2,2−ビス〔4−(β−エピチオプロピルチオ)フェニル〕プロパン、ビス〔4−(β−エピチオプロピルチオ)フェニル〕スルフィド、ビス〔4−(β−エピチオプロピルチオ)フェニル〕スルフォン、4,4’−ビス(β−エピチオプロピルチオ)ビフェニルなどがあげられる。特に好ましい具体例は、ビス(β―エピチオプロピル)スルフィドおよびビス(β―エピチオプロピル)ジスルフィドである。
エピスルフィド化合物と少なくともSH基を1個以上有する化合物を含む組成物を重合硬化すると、黄色度が小さく透過率も高い高性能の光学材料が得られる。
中でも、SH基を2個以上有する化合物を含む組成物を重合硬化して得られる樹脂は、耐熱性が高く、特に好ましい。
SH基を1個以上有する化合物としては、メルカプタン類、チオフェノール類、および、ビニル、芳香族ビニル、メタクリル、アクリル、アリル等の不飽和基を有するメルカプタン類、チオフェノール類等があげられる。具体例としては、特開2003−26753公報に記載したものがあげられる。
SH基を1個以上有する化合物の総使用量は、エピスルフィド化合物の合計量100重量部に対して、1〜50重量部が好ましく、3〜40重量部がより好ましく、特に好ましくは5〜30重量部である。
光学性能的には本発明の効果が顕著に表れるという面から、好ましくはプラスチック基材の屈折率(nd)が1.57以上であり、さらに好ましくは1.65以上、最も好ましくは、1.70以上である。
以下、実施例により本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
得られたハードコートされた光学材料の初期の外観と密着性、耐湿性試験後の外観と密着性および屈折率は以下の方法で評価した。
(a)外観:ハードコート形成前の外観とハードコートされた光学材料の外観を目視で観察し、変化のないものをA、ほとんど変化のないものをB、明らかに変化の見られたものをCとした。
(b)密着性:JISD−0202に準拠してクロスカットテープ試験によって行った。すなわち、カッターナイフを用いてコーティングされたプラスチックに1mm間隔で縦横に切れ目を入れ、1平方mmのマス目を100個作り、この上に粘着テープ(商品名「セロテープ」。ニチバン株式会社製)を強く押し付けて貼り、90度方向へ勢いよく引っ張り、剥離後のハードコート層の残存状況を確認した。剥離がほとんどないものをA、若干の剥離があるものをB、剥離が著しいものをCとした。
(c)耐湿性試験後の外観と密着性:ハードコートされた光学材料を60℃下湿度99%の条件で7日間放置後、前記と(a)および(b)と同一の方法で外観と密着性を評価した。
(d)屈折率(nd):アッベ屈折率計を用い、25℃で測定した。
プラスチック基材(A)〜(C)は、以下の手順で作成した。
プラスチック基材(A)
ビス(2,3−エピチオプロピル)スルフィド100重量部、ジ(メルカプトエチル)スルフィド5重量部、2−(2‘−ヒドロキシ−5’−t−オクチルフェニル)ベンゾトリアゾール0.5重量部、N,N−ジエチルアミノエタノール0.5重量部を混合し均一とした後、真空下で脱気処理し、0.5μmのPTFE製のメンブランフィルターでろ過した。次いで、この組成物を2枚のガラス板とガスケットから構成される厚さ2.5mmの平板モールドに注入し、30℃で10時間加熱し、次いで30℃から100℃まで10時間かけて昇温した後、最後に100℃で2時間加熱し、重合硬化させた。室温まで放冷した後、モールドから離型した後、110℃で1時間アニールしてプラスチック基材とした。
プラスチック基材(B)
ビス(2,3−エピチオプロピル)ジスルフィド100重量部、ジ(メルカプトメチル)−3,6,9−トリチアウンデカン−1,11−ジチオール10重量部、2−(2‘−ヒドロキシ−5’−t−オクチルフェニル)ベンゾトリアゾール1.0重量部、N,N−ジメチルシクロヘキシルアミン0.1重量部を混合し均一とした後、真空下で脱気処理し、0.5μmのPTFE製のメンブランフィルターでろ過した。次いで、この組成物を2枚のガラス板とガスケットから構成される厚さ2.5mmの平板モールドに注入し、30℃から130℃まで22時間かけて徐々に昇温させて、重合硬化させた。モールドから離型した後、130℃で1時間アニールしてプラスチック基材とした。
プラスチック基材(C)
ビス(2,3−エピチオプロピル)スルフィド77重量部、硫黄23重量部、2−(2‘−ヒドロキシ−5’−t−オクチルフェニル)ベンゾトリアゾール1.0重量部を反応フラスコ中60℃でよく混合し均一とし、次いで2−メルカプト−N−メチルイミダゾール1.0重量部を加え、1torrの減圧下、60℃で5時間、攪拌した。その後20℃に冷却し、ジ(メルカプトエチル)スルフィド5重量部、テトラブチルホスホニウムブロマイド0.1重量部、ジブチルスズジクロライド0.2重量部を加え、よく混合し均一とし、1torr、20℃の条件下で脱気処理した後、0.5μmのPTFE製のメンブランフィルターでろ過した。次いで、この組成物を2枚のガラス板とガスケットから構成される厚さ2.5mmの平板モールドに注入し30℃で10時間加熱し、次いで30℃から100℃まで10時間かけて100℃まで一定速度昇温させ、最後に100℃で2時間加熱し、重合硬化させた。モールドから離型した後、110℃で1時間アニールしてプラスチック基材とした。
プラスチック基材の酸性物質による浸漬処理(1)〜(5)および比較の浸漬処理(6)は、以下の手順で行った。
浸漬処理(1)
プラスチック基材を20℃で98%硫酸水溶液に2分間浸漬させ、その後よく水で洗浄し乾燥させた。
浸漬処理(2)
プラスチック基材を20℃で35%過酸化水素水溶液に60分間浸漬させ、その後水でよく洗浄し乾燥させた。
浸漬処理(3)
プラスチック基材を20℃で硫酸25%と過酸化水素10%を含む水溶液に60分間浸漬させ、その後水でよく洗浄し乾燥させた。
浸漬処理(4)
プラスチック基材を20℃で硫酸25%と過酸化水素10%を含む水溶液に60分間浸漬させ、その後10%水酸化ナトリウム水溶液で洗浄し次いで水でよく洗浄し乾燥させた。
浸漬処理(5)
プラスチック基材を90℃でベンゼンスルホン酸に60分間浸漬させ、その後アセトンで洗浄し次いで水でよく洗浄し乾燥させた。
浸漬処理(6)
プラスチック基材を20℃で10%水酸化ナトリウム水溶液に60分間浸漬させ、その後水でよく洗浄し乾燥させた。
ハードコート層の形成は、以下の手順で行った。
γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン120重量部、γ−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン60重量部、メタノール50重量部を混合し均一とした後、攪拌しながら0.01N塩酸45重量部を滴下し、十分な加水分解を行った。次いでそこへチタニア系複合微粒子(商品名「オプトレイク1120Z(S−7,G)」、触媒化成工業株式会社製)670重量部、アセチルアセトンアンモニウム1.5重量部、シリコン系界面活性剤(商品名「SILWETL−7001」、日本ユニカー株式会社製)1重量部を混合し、一晩攪拌しハードコート液とした。このハードコート液にプラスチック基材を浸漬塗布し、100℃で2時間加熱し、ハードコート層を形成した。
実施例1〜7
表1に示すプラスチック基材に酸性物質による浸漬処理をした後にハードコートを行った。得られたハードコートされたプラスチックの初期の外観と密着性、耐湿性試験後の外観と密着性および屈折率の評価結果を表1に示した。
比較例1、比較例2および比較例3
プラスチック基材に酸性物質による浸漬処理をしないでハードコートする以外は、それぞれ実施例1〜5、実施例6および実施例7を繰り返した。得られたハードコートされたプラスチックの初期の外観と密着性、耐湿性試験後の外観と密着性および屈折率の評価結果を表1に示した。
比較例4
プラスチック基材に酸性物質ではなくアルカリによる浸漬処理した後にハードコートする以外は、実施例1〜5を繰り返した。得られたハードコートされたプラスチックの初期の外観と密着性、耐湿性試験後の外観と密着性および屈折率の評価結果を表1に示した。

Claims (6)

  1. 下記(1)式で表されるβ―エピチオプロピルチオ構造を1個以上有するエピスルフィド化合物を少なくとも1種類含む組成物の重合硬化物からなるプラスチック基材を、酸性物質に浸漬させた後、中間層を形成せずに直接ハードコートを行うことを特徴とするハードコートされた光学材料の製造方法。
  2. 前記エピスルフィド化合物が、下記(2)式で表されることを特徴とする請求項1記載の製造方法。
    (mは0〜4の整数、nは0〜2の整数を表す)
  3. 前記組成物が、少なくともSH基を1個以上有する化合物をさらに少なくとも1種類含む請求項1又は2に記載の製造方法。
  4. 前記酸性物質が、過酸化水素および無機酸からなる群より選ばれた少なくとも1種の化合物である請求項1〜3のいずれか1項に記載の製造方法。
  5. 前記酸性物質が、硫酸及び/または過酸化水素である請求項4記載の製造方法。
  6. 請求項1〜5いずれかに記載の方法により製造されたハードコートされた光学材料。
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