JP4725273B2 - 予備吐出部を有するスピンレスコート装置及びそれを用いたカラーフィルタの製造方法 - Google Patents
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Description
レジスト吐出ノズル1の移動及び金属ロール上へのレジスト吐出とレジスト掻き取り機能部による掻き取りを繰り返し実行しながら、ガラス基板にレジストを形成する方法である。
二段に設置したことにより、金属ロールからのレジストの掻き取りが完全となり、溶解液のレジスト汚染が低減され、金属ロールの清浄度が向上したため、溶解液の使用量とその費用が低減した。
ルディップ洗浄ユニット4では、投入の金属ロール表面のレジスト量が減少されたこと、及び常時清浄な溶解液で溶解されることにより、金属ロールの清浄度が向上した状態で、次の溶解液掻き取りブレードユニット5へ回転し、移動する。金属ロールの清浄度の向上により、溶解液槽の溶解液が汚染されず、長時間清浄度が維持される。
セス(図上、Mと記す)であり、以下d〜fは、レッド顔料のR画素のカラーフィルタの形成プロセス(図上、Rと記す)であり、g〜iは、グリーン顔料のG画素のカラーフィルタの形成プロセス(図上、Gと記す)であり、j〜lは、ブルー顔料のB画素のカラーフィルタの形成プロセス(図上、Bと記す)である。
2…金属ロール
3…レジスト掻き取りブレードユニット
63…レジスト掻き取りブレードユニット
4…ロールディップ洗浄ユニット
5…溶解液掻き取りブレードユニット
6…レジスト
7…二流体ノズル
10…ガラス基板
11…ブラックレジスト
12…格子パターンマスク
13…露光処理ブラックレジスト
14…格子画素
21…R画素レジスト
22…R画素パターンマスク
23…露光処理R画素レジスト
24…R画素
31…G画素レジスト
32…G画素パターンマスク
33…露光処理G画素レジスト
34…G画素
41…B画素レジスト
42…B画素パターンマスク
43…露光処理B画素レジスト
44…B画素
70…予備吐出部
80…基板塗布部
90…掻き取り機能部
Claims (2)
- レジスト吐出ノズルが予備吐出部の金属ロール上と基板塗布部のガラス基板上とを交互に移動し、該ノズル内の洗浄及び前準備のための金属ロール上へのレジスト吐出と、ガラス基板上へのレジスト吐出とを行い、ガラス基板上に均一な膜厚のレジストを形成するカラーフィルタ製造用、予備吐出部の金属ロール表面のレジストを除去するスピンレスコート装置において、レジスト掻き取り機能部が、既設のレジスト掻き取りブレードユニットの直後の位置に、追加してレジスト掻き取りブレードユニットを配置してなり、前記掻き取りブレードユニットを二段に配置したレジスト掻き取り機能部と、ロールディップ洗浄ユニットと、溶解液掻き取りブレードユニットと、二流体ノズルと、エアーナイフとを用いて、この順番に前記金属ロール表面のレジストを除去する予備吐出部を有することを特徴とするスピンレスコート装置。
- ガラス基板上に、均一な膜厚のカラーレジストを塗布形成し、パターン露光・現像する工程を各色毎に行うカラーフィルタの製造方法において、請求項1記載の予備吐出部を有するスピンレスコート装置を用いたことを特徴とするカラーフィルタの製造方法。
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