JP4718893B2 - パターン形成方法 - Google Patents
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Description
本発明に係る実施形態のパターン形成方法および半導体装置の製造方法の概要を以下に列挙する。
被加工膜上に第1の膜材を含む感光性樹脂膜(第1の膜)を形成する第1の成膜工程と、
前記感光性樹脂膜上に第2の膜材を含む溶液を塗布して(塗布法により)第2の膜(前記感光性樹脂膜を保護するための保護膜)を形成する第2の成膜工程と、
前記第2の膜が形成された状態で前記感光性樹脂膜に液浸液を介して選択的に液浸露光する液浸露光工程と、
前記第2の膜を除去する工程と、
前記感光性樹脂膜の露光領域あるいは非露光領域を選択的に除去する現像工程とを含み、
さらに、前記第2の成膜工程から前記液浸露光工程前において、前記第2の膜から前記液浸露光工程で用いる液浸液に対する親和性部位を有する残留物質を除去する工程とを含む。
前記残留物質を除去する工程は、前記第2の膜に残留する第1の溶媒よりも沸点が低い第2の溶媒を作用させた後にベークを行う、もしくは、前記第2の膜に前記第1の溶媒よりも沸点が低い第2の溶媒を作用させつつベークを行う工程である。
前記第2の溶媒は、前記液浸液が親和性を持たない第1の雰囲気に前記第2の溶媒を含ませて作られた第2の雰囲気として作用させる。
前記ベーク工程は前記第2の溶媒の沸点よりも高い温度で行う。
前記第2の膜材のベーク後に前記第2の膜の表面を前記第1の雰囲気に置換し、その後、前記第2の膜の冷却を行う。
前記残留物質を除去する工程は、前記残留物質を除去する工程前と比べて前記第2の膜の液浸液に対する後退接触角を高める処理である。
前記第1の雰囲気が乾燥空気、乾燥窒素、乾燥ヘリウムのいずれかである。
前記液浸露光工程で用いる光がArFレーザ光(波長193nm)またはKrFレーザ光(波長248nm)であって、かつ、前記液浸液が水であり、かつ、前記第1の溶媒と第2の溶媒はアルコール性OH基を有する。
前記第1の溶媒が1−ブタノールまたは炭素数が5以上のアルコールである。
前記第2の溶媒がメタノール、エタノールまたは2-プロパノールである。
前記液浸露光工程で用いる光がArFレーザ光(波長193nm)またはKrFレーザ光(波長248nm)またはフッ素レーザ光(波長157nm)であって、かつ、前記液浸液が有機物である。
被加工膜上に感光性樹脂膜材を含む溶液を塗布して(塗布法により)感光性樹脂膜を形成する成膜工程と、
前記感光性樹脂膜に液浸液を介して選択的に液浸露光する液浸露光工程と、
前記感光性樹脂膜の露光領域あるいは非露光領域を選択的に除去する現像工程とを含み、
さらに、前記第1の成膜工程から前記液浸露光工程前において、前記感光性樹脂膜から前記液浸露光工程で用いる液浸液に対する親和性部位を有する残留溶剤を除去する工程とを含む。
前記残留溶剤を除去する工程は、前記感光性樹脂膜に残留する前記第1の溶媒よりも沸点が低い第2の溶媒を作用させた後にベークを行う、もしくは、前記感光性樹脂膜に前記第1の溶媒よりも沸点が低い第2の溶媒を作用させつつベークを行う工程である。
前記第2の溶媒は、前記液浸液が親和性を持たない第1の雰囲気に前記第2の溶媒を含ませて作られた第2の雰囲気として作用させる。
前記ベーク工程は前記第2の溶媒の沸点よりも高い温度で行う。
前記第2の膜材のベーク後に前記第2の膜の表面を前記第1の雰囲気に置換し、その後、前記第2の膜の冷却を行う。
前記残留物質を除去する工程は、前記残留物質を除去する工程前と比べて前記第2の膜の液浸液に対する後退接触角を高める処理である。
前記第1の雰囲気が乾燥空気、乾燥窒素、乾燥ヘリウムのいずれかである。
前記液浸露光工程で用いる光がArFレーザ光(波長193nm)またはKrFレーザ光(波長248nm)であって、かつ、前記液浸液が水であり、かつ、前記第1の溶媒と第2の溶媒はアルコール性OH基を有する。
前記第1の溶媒が1−ブタノールまたは乳酸エチルまたは炭素数が5以上のアルコールである。
前記第2の溶媒がメタノール、エタノールまたは2−プロパノールである。
前記液浸露光工程で用いる光がArFレーザ光(波長193nm)またはKrFレーザ光(波長248nm)またはフッ素レーザ光(波長157nm)であって、かつ、前記液浸液が有機物である。
被加工膜上に感光性樹脂膜(第1の膜)を形成する第1の成膜工程と、
前記感光性樹脂膜上に第2の膜材を含む溶液を塗布して(塗布法により)第2の膜(前記感光性樹脂膜を保護するための保護膜)を形成する第2の成膜工程と、
前記第2の膜が形成された状態で前記感光性樹脂膜に液浸液を介して選択的に液浸露光する液浸露光工程と、
前記第2の膜を除去する工程と、
前記感光性樹脂膜の露光領域あるいは非露光領域を選択的に除去する現像工程とを含み、
さらに、前記第2の成膜工程から前記液浸露光工程前において、前記第2の膜の表面を平滑化する工程を含む。
前記平滑化する工程は、前記第2の膜に前記第2の膜が溶解する溶剤を含む雰囲気に晒して行う。
前記平滑化する工程は、前記第2の膜を加熱しながら行う。
前記第2の膜が溶解する溶媒は、前記第2の膜剤に含まれる溶剤である。
前記第2の膜が溶解する溶媒は、アセトン、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、Nメチル2ピロリジノンまたはアルコールである。
前記雰囲気が乾燥空気、乾燥窒素または乾燥ヘリウムを主成分とするものである。
前記液浸露光工程で用いる光がArFレーザ光(波長193nm)またはKrFレーザ光(波長248nm)またはF2 レーザ(波長157nm)光である。
被加工膜上に感光性樹脂膜材を含む溶液を塗布して(塗布法により)感光性樹脂膜を形成する成膜工程と、
前記感光性樹脂膜に液浸液を介して選択的に液浸露光する液浸露光工程と、
前記感光性樹脂膜の露光領域あるいは非露光領域を選択的に除去する現像工程とを含み、
さらに、前記第1の成膜工程から前記液浸露光工程前において、前記感光性樹脂膜の表面の平滑化を行う工程を含む。
前記平滑化する工程は、前記感光性樹脂膜の表面に前記感光性樹脂膜が溶解する溶剤を含む雰囲気に晒して行う。
前記平滑化する工程は、前記感光性樹脂膜を加熱しながら行う。
前記感光性樹脂膜が溶解する溶媒は、前記感光性樹脂膜剤に含まれる溶剤である。
前記感光性樹脂膜が溶解する溶媒は、アセトン、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、Nメチル2ピロリジノンまたはアルコールである。
前記雰囲気が乾燥空気、乾燥窒素または乾燥ヘリウムを主成分とするものである。
前記液浸露光工程で用いる光がArFレーザ光(波長193nm)またはKrFレーザ光(波長248nm)またはF2 レーザ(波長157nm)光である。
被加工膜上に感光性樹脂膜(第1の膜)を形成する第1の成膜工程と、
前記感光性樹脂膜上に第2の膜材を含む溶液を塗布して(塗布法により)第2の膜(前記感光性樹脂膜を保護するための保護膜)を形成する第2の成膜工程と、
前記第2の膜が形成された状態で前記感光性樹脂膜に液浸液を介して選択的に液浸露光する液浸露光工程と、
前記第2の膜を除去する工程と、
前記感光性樹脂膜の露光領域あるいは非露光領域を選択的に除去する現像工程とを含み、
前記第2の膜は現像工程に用いる現像液に対して可溶な膜であり、
前記現像工程は、前記第2の膜の溶解速度が前記感光性樹脂膜よりも速くなる濃度の第1の現像液を用いて前記第2の膜の溶解を選択的に行う第1の現像工程と、前記第1の現像液濃度より高い現像液で前記感光性樹脂膜の現像を行う第2の現像工程を含む。
前記第1の現像工程と第2の現像工程の間で、前記第1の現像工程で溶出した第2の膜の溶解物を除去する工程をさらに含む。
上記(1)−(37)のいずれかのパターン形成方法により、半導体基板を含む基板上にレジストパターンを形成する工程と、
前記レジストパターンをマスクにして前記基板をエッチングして、パターンを形成する工程とを含む。
図3は、本発明に係る第2の実施形態のレジストパターンの形成方法を示すプロセスフローである。本実施形態では、光源としてArFエキシマレーザ(波長193nm)を用い、液浸液として純水を用いたレジストパターンの形成方法について説明する。比較のため、図4に、従来のレジストパターンの形成方法のプロセスフローを示す。
図7は、本発明に係る第3の実施形態のレジストパターンの形成方法を示すプロセスフローである。
図11は、本発明に係る第4の実施形態のレジストパターンの形成方法を示すプロセスフローである。本実施形態では、光源としてKrFエキシマレーザ(波長248nm)を用い、液浸液として純水を用いたレジストパターンの形成方法について説明する。
図12は、本発明に係る第5の実施形態のレジストパターンの形成方法を示すプロセスフローである。本実施形態では、光源としてArFエキシマレーザ(波長193nm)を用い、液浸液として純水を用いたレジストパターンの形成方法について説明する。
図13は、本発明に係る第6の実施形態のレジストパターンの形成方法を示すプロセスフローである。本実施形態では、光源としてArFエキシマレーザ(波長193nm)を用い、液浸液として純水を用いたレジストパターンの形成方法について説明する。
保護膜の剥離は、現像液を希釈しpH=12.5とした第1の現像液(テトラメチルアンモニウムオキシドの水溶液)を用いて基板を回転させながら行う(ステップS72)。
Claims (1)
- 被加工膜上に感光性樹脂膜を形成する工程と、
前記感光性樹脂膜を保護するための保護膜を塗布法により前記感光性樹脂膜上に形成する工程と、
前記保護膜上に液浸液を供給し、該液浸液を介して前記感光性樹脂膜の一部の領域を選択的に液浸露光する工程と、
前記保護膜を形成する工程の後、かつ、前記感光性樹脂膜の一部の領域を選択的に液浸露光する工程の前において、前記保護膜の表面を平滑化し、かつ、前記保護膜から前記液浸液に対する親和性部位を有する残留物質を除去する工程であって、前記保護膜の前記液浸液に対する後退接触角を75°以上にする前記工程と、
前記保護膜を除去する工程と、
前記感光性樹脂膜の露光領域あるいは非露光領域を選択的に除去することにより、前記感光性樹脂膜からなるパターンを形成する工程と
を含むことを特徴とするパターン形成方法。
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