JP4716489B2 - ゴム印字体の刻印形状 - Google Patents

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Description

本発明は、ゴム印字体の刻印形状に関し、捺印ムラが少なく、耐久性を有するゴム印字体の刻印形状に関する。
従来から、図3に示すような多孔質のゴム印字体20にインキを浸透させた浸透印Aが広く用いられている。この浸透印Aにあっては、使用者が捺印の際、ゴム印字体20を加圧圧縮させることにより、多孔質のゴム印字体20に含有されているインキが押し出され、所定の紋様(図3にあっては「田」)が捺印されるように構成されている。このような浸透印Aのゴム印字体20の刻印形状を、図4に示す。尚、この図4に示した刻印形状は図3に示したIII−III断面形状である。
図4において、符号21は印判基底部であって、前記印判基底部21の上面には、断面形状が矩形形状に形成された印面形成部22が形成され、その印面形成部22の上面に印面部23が形成される。そして、印面形成部22を印判基底部21に対して所定の形状に形成することにより、印面部23は所定の紋様に形成される。
そして、このゴム印字体20を加圧圧縮することにより、印面部23によって形成された紋様を、紙面等に捺印することができる。
また、本願出願人は、特開平6−234262号公報において新たな刻印形状を提案している。この刻印形状を図5に示すと共に、図に基づいて説明する。
図5に示すように、印判基底部21の上面に断面形状が台形の印面台形部24が形成され、その印面台形部24の上面に印面形成部22が形成されている。このように、印面形成部22を印面台形部24で保持しているため、連続捺印を行なった際、印判基底部21からのインクの追従性が良く、捺印のかすれを抑制できる。
更に、特開平3−35890号公報には、印判基底部21と、前記印判基底部21の上面に形成された断面形状が矩形形状の印面保持部25と、前記印面保持部24の上面に形成された断面形状が矩形形状の印面形成部22と、前記印面形成部22の上面に形成された印面部23とからなる刻印形状が示されている。この刻印形状の場合も、印面保持部25が形成されているため、連続捺印を行なった際、印判基底部21からのインクの追従性が良く、捺印のかすれを抑制できる。
特開平6−234262号公報 特開平3−35890号公報
ところで、図4に示したゴム印字体20の刻印形状の場合、その断面形状が縦に長い矩形形状であるため、ゴム印字体20を加圧すると印面形成部が大きく変形し、その結果、印面形成部から印面部に対してインキが多量に供給されるため、インクの滲みが大きいという問題があった。また連続捺印を行なうと印判基底部からのインクの追従性が悪く、捺印のかすれが生じるという課題があった。更に、印面形成部の変形量が大きいために、印面形成部が破損し易く、使用寿命が短いという課題があった。
これに対して、図5に示した刻印形状は印面形成部22を印面台形部24で保持しているため、連続捺印を行なった際、印判基底部24からのインクの追従性が良く、捺印のかすれを抑制できる。
しかしながら、この刻印形状であっても、印面形成部22の変形が大きいため、図4に示した刻印形状の場合と同様にインクの滲みが大きく、また印面形成部22が破損し易く、使用寿命が短いという課題があった。
また、図6に示した刻印形状も、図5に示した刻印形状と同様に、印面保持部25が形成されているため、連続捺印を行なった際、印判基底部21からのインクの追従性が良く、捺印のかすれを抑制できる。
しかしながら、図4、5に示した刻印形状と同様に、印面形成部22の変形が大きいため、インクの滲みが大きく、また印面形成部22が破損し易く、使用寿命が短いという課題があった。
本願発明者らは上記課題を解決するため、ゴム印字体の刻印形状の研究開発を行なった。その結果、捺印をかすれることなく行なうことには、図5、図6に示した刻印形状が好ましく、また印面形成部の破損を抑制し、使用寿命が長くする点から図6に示す刻印形状がより好ましいことが判明した。
そこで、本願発明者らは、刻印形状の基本形状を図6に示した凸形状とし、更に、インクの滲みが少なく、連続捺印した場合にもかすれがなく、更に使用寿命をより向上させたゴム印字体の刻印形状の研究を行なった。
その結果、前記刻印形状が特定の断面形状、特定の寸法形状のときに、インクの滲みが少なく、連続捺印した場合にもかすれがなく、使用寿命がより長くなることを知見し、本願発明を完成するに至った。
本発明は、上記技術的課題を解決するためになされたものであり、インクの滲みが少なく、連続捺印した場合にもかすれがなく、更に使用寿命をより向上させたゴム印字体の刻印形状を提供することを目的とするものである。
上記目的を達成するためになされた本発明にかかるゴム印字体の刻印形状は、ゴム硬度が20〜35°、かつ全体積中における空隙率が40〜60%の多孔質ゴムによって形成されたゴム印字体の刻印形状であって、印判基底部と、前記印判基底部の上面に形成された、断面形状が台形形状であって、側面が傾斜面に形成された印面保持部と、前記印面保持部の上面に形成された、断面形状が台形形状であって、側面が傾斜面に形成された印面形成部と、前記印面形成部の上面に形成された印面部とからなり、前記印面部の幅より、前記印面形成部の底面部の幅が大きく、かつ前記印面形成部の底面部の幅より、印面保持部の上面部の幅が大きく、更に前記印面保持部の上面部の幅より、印面保持部の底面部の幅が大きく形成され、前記印面形成部の底面部の幅は、印面部の幅の1.5倍乃至2.5倍に形成され、前記印面形成部の高さは、印面部の幅の2倍乃至5倍に形成されかつ前記底面部の幅と同じかまたは大きな寸法に形成され、前記印面保持部の上面の幅は、前記印面形成部の底面部幅よりも大きく、かつ印面部の幅の2倍乃至3倍に形成され、かつ前記印面保持部の高さは、前記印面形成面の高さと同じかまたは低く、かつ印面部の幅の2倍乃至5倍に形成されたことを特徴としている。
このように、印面形成部の断面形状が台形形状に形成されているため、断面形状が矩形形状の場合よりも変形が抑制され、印面形成部から印面部に対してインキが過渡に供給されることがなく、インクの滲みを抑制できる。
また、印面形成部の側面が傾斜面になされ、変形が抑制されるため、印面形成部が破損し難く、耐久性を向上させることができる。
更に、印面保持部の上面部の幅を印面形成部の底面部の幅より大きく形成すると共に、前記印面保持部の上面部の幅より、印面保持部の底面部の幅が大きく形成されているため、連続捺印した場合にも、インキを印判基底部から前記印面保持部を介して印面形成部に好適に供給でき、捺印のかすれを抑制できる。
ここで、前記印面形成部の底面部の幅は、印面部の幅の1.5倍乃至2.5倍に形成され、前記印面形成部の高さは、印面部の幅の2倍乃至5倍に形成されかつ前記底面部の幅と同じかまたは大きな寸法に形成されていることが望ましい。
このように、印面形成部の底面部の幅を印面部の幅の1.5倍乃至2.5倍に形成し、前記印面形成部の高さを印面部の幅の2倍乃至5倍に形成されかつ前記底面部の幅と同じかまたは大きな寸法で形成したため、印面形成部が倒れこみ等の異常変形を起すことなく変形し、しかもその変形が小さいために、インクの滲みが小さく、また印面形成部が破損し難く、耐久性が向上する。
なお、前記印面形成部の底面部の幅が、印面部の幅の1倍未満の場合には台形形状にならず、機械的強度が弱く、異常変形、インクの滲み、印面形成部の破損等の虞がある。また前記印面形成部の底面部の幅が、印面部の幅の2.5倍を超える場合には、印面形成部が僅かに変形した場合にも、捺印された印面の紋様が太くなるため好ましくない。
具体的には、前記印面保持部の上面の幅は、前記印面形成部の底面部幅よりも大きく、かつ印面部の幅の2倍乃至3倍に形成され、かつ前記印面保持部の高さは、前記印面形成面の高さと同じかまたは低く、かつ印面部の幅の2倍乃至5倍に形成されていることが望ましい。
また、ゴム印字体は、ゴム硬度は20〜35°、かつ全体積中における空隙率は40〜60%の多孔質ゴムにより形成されていることが望ましい。
以上のように本発明にかかるゴム印字体の刻印形状によれば、インクの滲みが少なく、連続捺印した場合にもかすれがなく、更に使用寿命をより向上させることができる。
本発明の一実施形態を図1及び図2に基づいて説明する。尚、図1は、本発明にかかる多孔質のゴム印字体にインキを浸透させた浸透印を示す斜視図である。また、図2は図1に示したI−I断面図であり、ゴム印字体の刻印形状を示す図である。
この浸透印Aにあっては、使用者が捺印の際、ゴム印字体10を加圧圧縮させることにより、多孔質のゴム印字体10に含有されているインキが押し出され、所定の紋様(図1にあっては「田」)が捺印されるように構成されている。このような浸透印Aのゴム印字体10の刻印形状(断面形状)は、図2に示す形状に形成されている。
即ち、このゴム印字体の刻印形状は、印判基底部1と、前記印判基底部1の上面に形成された、断面形状が台形形状であって、側面4aが傾斜面に形成された印面保持部4と、前記印面保持部4の上面に形成された、断面形状が台形形状であって、側面2aが傾斜面に形成された印面形成部2と、前記印面形成部2の上面に形成された印面部3とから構成されている。
そして、前記印面部3の幅aより、前記印面形成部2の底面部の幅eが大きく、かつ前記印面形成部2の底面部の幅eより、印面保持部4の上面部の幅gが大きく、更に前記印面保持部4の上面部の幅gより、印面保持部3の底面部の幅fが大きく形成されている。
また、前記印面形成部2の底面部の幅eは、印面部3の幅aの1.5倍乃至2倍に形成されている。また、前記印面形成部2の高さbは、印面部3の幅の2倍乃至5倍に形成され、前記底面部の幅eと同じか又は大きな寸法に形成されている。
したがって、前記印面形成部2はその断面形状が横長の台形形状に形成されるため、断面形状が矩形形状の場合よりも変形が抑制され、インクの滲みが抑制される。また、印面形成部2の側面2aが傾斜面になされているため、印面形成部2は破損し難く、耐久性を向上させることができる。
なお、前記印面形成部2の底面部の幅eが、印面部3の幅aの1倍未満の場合には台形形状にならず、機械的強度が弱く、異常変形、インクの滲み、印面形成部2の破損等の虞がある。また前記印面形成部2の底面部の幅eが、印面部3の幅aの2.5倍を超える場合には、印面形成部2がわずかに変形した際にも、捺印した紋様が太くなるという問題が生じる。
また、また、前記印面形成部2の高さbが、印面部3の幅の5倍を超える寸法に形成されている場合には、印面形成部2の倒れこみ等の異常変形、破損等の原因になる。一方、前記印面形成部2の高さbが、印面部3の幅の2倍未満の寸法に形成されている場合には、捺印した紋様が太くなるという問題が生じる。
また、印面保持部4の上面部の幅gは、印面形成部2の底面部の幅eより大きく,かつ印面部3の幅aの2倍乃至3倍に形成される。また前記印面保持部4の上面部の幅gより、印面保持部の底面部の幅fが大きく形成されている。
したがって、印面保持部4は、印面形成部2の底面を覆うように形成されているため、連続捺印した場合にも、印判基底部1から前記印面保持部4を介して,インキを印面形成部2に好適に供給でき、捺印のかすれを抑制できる。
また、前記印面保持部4の高さcは、前記印面形成面2の高さbと同じか又は低く、かつ印面部3の幅aの2倍乃至5倍に形成されていることが望ましい。
このように、前記印面保持部4の高さcが前記印面形成面2の高さbよりも低く形成されているため、印面保持部4が屈曲することなく、印面形成面2を安定して保持することができる。
更に、具体的に数値の一例を挙げれば、印面部の幅aを1とすると、印面形成面2の高さbは、2倍〜5倍、印面保持部4の高さcは2倍〜5倍、印判基底部厚さdは、5倍〜8倍、印面形成部2の底面部の幅eは、1.5倍〜2.5倍、印面保持部4の底面部の幅fは、4倍〜8倍、印面形成部2の上面部の幅gは、2倍〜3倍となる。
そして、夫々の関係は、
3a≦b、b≧c、b+c≧d、a<e<f、b≧e
を満たすように設定される。
また、ゴム印字体の材料としては、多孔質ゴムであれば特に限定させるものではないが、シリコンゴム等の多孔質ゴム等を好適に用いることができる。また、ゴム硬度が20〜35°のものが好適に用いられる。また、全体積中における空隙率が40〜60%のものが好適に用いられる。
本発明にかかるゴム印字体の刻印形状は、従来から行なわれているレーザー加工法によって形成することができる。
即ち、まず、印字パターンの原稿を作製し、つぎにこのデーター処理し、そのデーターに基づきゴム印材(ゴム印字体)に直接レーザー光を照射してパターンを彫刻する。所定のゴム印材幅(b+c+d)に加工されたゴム印材を平面に静置し、平面に沿って前記レーザー光を走査し、図2に示した刻印形状を形成する。操作はコンピュータにより行われる。通常レーザー光は炭酸ガスレーザーが使用され、強度は25〜60W、スポットの平均径は0.07mm〜0.3mmである。
なお、本発明にかかる印面部3はレーザー光が照射されず未加工である。そのため表面が素材そのまま安定している。インキを含有する多孔質ゴム製の浸透印はその素材の特性を生かした加工ができ、後のインキ流出量を制御し易いという大きな利点がある。
多孔質のゴム印字体として、メチルビニルシリコンゴム(平均ゴム硬度25°、平均ポーラス径15μ、平均気孔率60%)のものを使用し、レーザー加工により、図4に示す刻印形状(比較例1)、図5に示す刻印形状(比較例2)、図2に示す刻印形状(実施例)の3つの印面形状を彫刻し、等荷重、等間隔で捺印できる機械捺印機にて1000回機械捺印を行い、インク消費曲線より、断面形状の相違による効果を確認した。前記捺印は連続100回行い、100回毎にインキの消費量の平均値を求めた。したがって、インキ量測定のため、100回目と101回目との間には捺印の小休止する時間が存在する。
なお、実施例、比較例1について、各例、4つのサンプルを用い、1回目、100回目、101回目、200回目、201回目、…1000回目の捺印状態を確認した。
図7に示すように、インク消費量の点からは実施例、比較例2がインキ消費量が少なく、好ましいことが確認された。
また図8に比較例1の捺印状態を示すが、サンプルNo.1〜4に示すように、第1回捺印においていずれの印影も滲みが認められた。その後、連続機械捺印を行うと、印面形成面の先端部は、捺印時、荷重により圧縮され、荷重解放後、伸び、基底部よりポンピング作用と毛細管現象により、インクを導くがインクの供給が追いつかず、印影が薄くなる。
しかしながら、小休止させた101回目,201回目,301回目…では、印影の濃度が再び濃くなり、滲むことが判明した。
また、図9に実施例の捺印状態を示すが、初期捺印の滲みと連続捺印及び小休止後の印影の濃淡差解消と滲みを解消することが確認できた。
これは、初期捺印時の荷重に対して印面形成部が大きく変形し、同様に印面保持部も変形し、荷重が分散された結果と推察される。また、連続捺印時には、印面形成部が圧縮され、その後、伸びる過程で印面保持部よりポンピング作用と毛細管現象により、インクが供給され、印面保持部部には、基底部よりポンピングと毛細管現象により、インク供給が行われ、その結果、常に、濃淡差の無い綺麗な印影が確保されるものと推察される。
本発明にかかるゴム印字体の刻印形状は、浸透印に好適に用いることができる。
図1は、本発明にかかる一実施形態を示す図であって、多孔質のゴム印字体にインキを浸透させた浸透印を示す斜視図である。 図2は図1に示したI−I断面図であり、ゴム印字体の刻印形状を示す図である。 図3は従来の浸透印を示す斜視図である。 図4は従来のゴム印字体の刻印形状の一例を示すIII−III断面図である。 図5は従来のゴム印字体の刻印形状の一例を示す断面図である。 図6は従来のゴム印字体の刻印形状の一例を示す断面図である。 連続捺印におけるインキの消費量を求めたグラフである。 比較例1の捺印状態を示す図である。 実施例の捺印状態を示す図である。
符号の説明
1 印判基底部
2 印面形成部
3 印面部
4 印面保持部
10 ゴム印字体
A 浸透印
a 印面部の幅
b 印面形成面の高さ
c 印面保持部の高さ
d 印判基底部厚さ
e 印面形成部の底面部の幅
f 印面保持部の底面部の幅
g 印面形成部の上面部の幅

Claims (1)

  1. ゴム硬度が20〜35°、かつ全体積中における空隙率が40〜60%の多孔質ゴムによって形成されたゴム印字体の刻印形状であって、
    印判基底部と、前記印判基底部の上面に形成された、断面形状が台形形状であって、側面が傾斜面に形成された印面保持部と、
    前記印面保持部の上面に形成された、断面形状が台形形状であって、側面が傾斜面に形成された印面形成部と、
    前記印面形成部の上面に形成された印面部とからなり、
    前記印面部の幅より、前記印面形成部の底面部の幅が大きく、かつ前記印面形成部の底面部の幅より、印面保持部の上面部の幅が大きく、更に前記印面保持部の上面部の幅より、印面保持部の底面部の幅が大きく形成され、
    前記印面形成部の底面部の幅は、印面部の幅の1.5倍乃至2.5倍に形成され、
    前記印面形成部の高さは、印面部の幅の2倍乃至5倍に形成されかつ前記底面部の幅と同じかまたは大きな寸法に形成され、
    前記印面保持部の上面の幅は、前記印面形成部の底面部幅よりも大きく、かつ印面部の幅の2倍乃至3倍に形成され、かつ前記印面保持部の高さは、前記印面形成面の高さと同じかまたは低く、かつ印面部の幅の2倍乃至5倍に形成されたことを特徴とするゴム印字体の刻印形状。
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