JPH11500070A - 凹刻印刷版の彫刻方法および彫刻装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 本発明は、ウェブ材料に凹刻印刷パターンを印刷するために、シリンダを彫刻するための彫刻方法および彫刻装置に関する。この彫刻装置は、シリンダを回転駆動するための駆動装置と、彫刻装置の動作を制御するとともに、所定の凹刻印刷パターンに対応した凹刻印刷パターン彫刻信号を生成するコンピュータとを有して構成されている。また、彫刻装置は、平坦な切削エッジあるいは切削面を有するスタイラスを備えた彫刻ヘッドを有して構成されている。そして、彫刻ヘッドは、200-300マイクロ秒以下の応答時間で彫刻することが可能であり、これにより、この彫刻ヘッドを用いて、凹刻印刷パターン彫刻信号に応じて、シリンダが回転する間において、シリンダ上に凹刻印刷パターンを彫刻することが可能となる。また、本発明による装置および方法は、凹刻印刷パターンにおける細い領域あるいは細いラインの彫刻を容易とするために、細いラインの拡張ルーチンを有して構成されている。さらに、大きな彫刻領域あるいは凹刻印刷トレンチ内のインキの流れを制御する装置および方法が与えられる。この装置および方法を用いることで、コンピュータにより発生され、パルス幅が変調された凹刻印刷パターン彫刻信号に応じて彫刻されるとともに、通常長方形の断面を有する凹刻印刷溝あるいはトレンチを彫刻することが容易となる。

Description

【発明の詳細な説明】 凹刻印刷版の彫刻方法および彫刻装置 発明の背景 本発明は、印刷版の彫刻に係り、特に、凹刻印刷版に対しての周知でない彫刻 方法および装置に関する。 印刷産業界のある分野においては、高い精度を有する印刷両像を生成すること に対する必要性、およびこのような印刷画像に対する要求が存在する。このよう な画像は、通常、凹刻印刷版を用いて、１つあるいは複数の非常に精細なライン を有して印刷される。例えば、ほとんどの国の紙幣、多くの有価証券、および他 の重要なドキュメントは、凹刻印刷版を用いて印刷される。 過去においては、通常、凹刻印刷版による印刷は、平坦な凹刻印刷版を用いて 実施されていた。凹刻印刷版は、版面下に凹状に形成されたラインあるいはドッ トを有して構成されていた。そして、凹刻印刷版は、通常、手作業で彫刻されて いたので、その結果、彫刻するのに非常に時間を要していた。さらに、凹刻印刷 版が手作業により彫刻されていたことで、複数カラー印刷プロセス用に同一の印 刷版を生成することは、非常に困難であるとともに、時間を要していた。 過去において、シリンダ上に凹刻印刷画像を彫刻することによる凹刻印刷版の 製造の自動化が既に試みられている。例えば、輪転グラビア彫刻装置を用いて、 シリンダ上に凹刻印刷画像を彫刻する試みがなされている。このような輪転グラ ビア装置は、例えばにかわのような粘性流体を受容する大きなセルエリアを有す るシリンダを彫刻するために用いられていた。しかし、このような過去の輪転グ ラビア彫刻機は、印刷に用いられるシリンダ上に、１つあるいは複数の精細なあ るいは細いラインを有する凹刻印刷パターンを彫刻するのには適してはいなかっ た。この理由の１つとしては、通常、輪転グラビア装置を用いることで、図６Ａ に示される彫刻セルと同様の長斜方形形状を有するカップあるいはセルが彫刻さ れることが上げられる。また、通常、輪転グラビア装置により生成されるセルは 、 長方形あるいは正方形の断面を有しておらず、図６Ｂに示されるような凹形状を 有していた。これにより、鮮鋭なコントラストおよびプリント濃度を得るのが困 難となっていた。通常、これらのセルを彫刻する彫刻ヘッドは、ホワイトに対応 する位置からフルブラック(full black)に対応する位置（深さ）へ彫刻するのに 必要とされる時間として定義される立上り時間を有している。従来の彫刻装置に おける立上り時間は、約300マイクロ秒のオーダーであった。 セルの形状は、一部には、セルを彫刻するのに使用されるスタイラスの形状、 およびセルが彫刻される速度により決定される。過去のグラビア輪転彫刻機で使 用された典型的なスタイラスが、図５に示されている。このようなスタイラスを 使用する彫刻ヘッドに対する立上り時間は、通常、約300から400マイクロ秒のオ ーダーを有する。このように過去の彫刻装置の立上り時間は非常に遅いので、比 較的細くかつ深い水平方向のライン（すなわち、シリンダの軸に平行なライン） 、あるいは垂直方向（すなわち、シリンダの軸に垂直な方向）でない任意の細い 凹刻印刷ラインを彫刻することは非常に困難であった。 彫刻されるキャラクタ(character)の列方向（すなわち、キャラクタにおいて 、彫刻されるシリンダの回転軸に平行である部分の列方向）の高さが、彫刻装置 の応答時間、および（図６Ｂに示されるように）彫刻装置がホワイトエリアＸか ら最大深さのブラックエリアＹまで進行するのに要する時間Ｔにより制限される から、凹刻印刷彫刻を行ううえで、上記のような立上り時間を有することは適切 なものではなかった。このようなラインの高さおよび時間Ｔに関する制限は、シ リンダの回転速度に対して反比例的な関係を有する。すなわち、応答性能を高め るためには、シリンダの回転速度を減速させる必要がある。しかし、これを実施 した場合、彫刻に要する全体的な時間が増加することとなった。 また、シリンダ上に大きな彫刻エリアを有する凹刻印刷パターンに関しては、 彫刻エリア内へのあるいは彫刻エリアからのインキの流れを充分に制御できない ために、うまく印刷することができなかった。 上記のように、過去の輪転グラビア彫刻装置は、細いラインの凹刻印刷パター ンを彫刻するのに際して、デザインおよび能力のうえで制限されていた。 それゆえ、適切な彫刻速度で凹刻印刷パターンを彫刻することができる方法お よび装置が必要とされている。 発明の概要 本発明は、シリンダが回転する間においてシリンダ上に凹刻印刷パターンを彫 刻するための彫刻方法および彫刻装置を提供することを主要な目的とする。 また、本発明の他の目的は、細いラインを彫刻するための手段を備えた凹刻印 刷彫刻装置を提供することにある。 また、本発明の他の目的は、凹刻印刷に対するソース画像を乱すことなく、部 分的あるいはすべての凹刻印刷ソースデータを、彫刻装置により彫刻可能である 解像度まで拡張する手段を備えた凹刻印刷彫刻装置を提供することにある。 また、本発明の他の目的は、彫刻される凹刻印刷パターン内におけるインキの 流れを制御するための方法および装置を提供することにある。 さらに、本発明の他の目的は、100マイクロ秒以下の応答時間を実現すること を可能とするとともに、所定のあるいは特別の形態を有するスタイラスを備えた 彫刻ヘッドを使用する方法および装置を提供することにある。 本発明の１つの特徴によれば、所定の凹刻印刷パターンを印刷するために、印 刷機において使用されるシリンダ上に所定の凹刻印刷パターンを彫刻する方法は 、シリンダを回転駆動する工程と、所定の凹刻印刷パターンに対応する凹刻印刷 パターン彫刻信号を発生する工程と、凹刻印刷パターン彫刻信号に応じてシリン ダ上に所定の凹刻印刷パターンを彫刻する工程とを有する。 本発明の他の特徴によれば、印刷機において使用されるシリンダ上に所定の凹 刻印刷パターンを彫刻する方法は、彫刻機上にシリンダを回転可能に設置する工 程と、シリンダが回転している間においてシリンダ上に所定の凹刻印刷パターン を彫刻する工程とを有する。 さらに、本発明の他の特徴によれば、所定の凹刻印刷パターンを印刷するため にシリンダを彫刻する彫刻装置は、シリンダを回転駆動する駆動装置と、彫刻装 置の動作を制御するとともに所定の凹刻印刷パターンに対応した凹刻印刷パター ン彫刻信号を発生するコンピュータと、凹刻印刷パターン彫刻信号に応じてシリ ンダが回転する間に所定の凹刻印刷パターンをシリンダに彫刻する彫刻ヘッドと を有して構成されている。 本発明の方法および装置に関する他の特徴、目的、および利点は、以下の図面 、発明の詳細な説明、およびこれらに付随する請求の範囲および要約から、より 明らかになるであろう。 図面の簡単な説明 図１は、本発明の実施の形態に基づいた彫刻ヘッドを有する凹刻印刷彫刻装置 を示す斜視図である。 図２は、駆動アーム、スタイラス支持部、およびスタイラスの詳細を示すため の図１の彫刻ヘッドの部分断面図である。 図３は、シリンダと動作関係にある彫刻シューおよびスタイラスを示す部分断 面図である。 図４は、スタイラスアームとスタイラスの詳細を示す部分斜視図である。 図５は、図６と同じ紙面上にあり、従来技術によるスタイラスを示す部分斜視 図である。 図６Ａは、図５に示されたスタイラスにより彫刻された従来技術による複数の セルを示す平面図である。 図６Ｂは、従来技術による典型的なセル形状を示す図６Ａの６Ｂ−６Ｂ線矢視 の部分断面図である。 図７は、図３と同じ紙面上にあり、本発明の１つの実施の形態によるブルノー ズ型スタイラス(bull nosed stylus)を示す部分斜視図である。 図８Ａは、複数の凹刻印刷トレンチを示す部分平面図である。 図８Ｂは、凹刻印刷トレンチ内への急峻な侵入角およびトレンチからの急峻な 離脱角、および関連する立上り時間Ｔ₂を示すための、図８Ａの１つの凹刻印刷 トレンチを示す部分断面図である。 図８Ｃは、彫刻された複数の凹刻印刷トレンチを示す彫刻パターンの部分図で ある。 図８Ｄは、図８Ｃに示されたパターンと同じパターンに対する輪転グラビア彫 刻されたセルのパターンを示す図である。 図９Ａは、シリンダが矢印８１方向に回転される際に、複数の彫刻工程を用い てシリンダ上に彫刻された文字ＬおよびＡを示す部分図である。 図９Ｂは、文字Ｌを形成する凹刻印刷トレンチの詳細を示すための、図９Ａの ９Ｂ−９Ｂ線矢視部分断面図である。 図９Ｃは、文字Ａの一部を形成する凹刻印刷トレンチの詳細を示すための、図 ９Ａの９Ｃ−９Ｃ線矢視部分断面図である。 図１０Ａは、対応する凹刻印刷パターン彫刻信号に基づいて彫刻されたシリン ダの一部を示す部分断面図である。 図１０Ｂは、図１０Ａに示された凹刻印刷パターン彫刻信号に応じた一対の通 常は長方形である凹刻印刷彫刻画像を示す部分平面図である。 図１１は、本発明の１つの実施の形態による方法を示す概略的なブロック図で ある。 図１２は、細いラインの拡張あるいは信号拡張ルーチンを示す概略的なブロッ ク図である。 図１３Ａ、および図１３Ｂは、本発明の１つの実施の形態に基づいたインキ流 れコントローラ生成ルーチンを示す一般的なブロック図である。 図１４Ａは、彫刻された凹刻印刷トレンチ内に配置された複数のインキ流れコ ントローラあるいはポストを有する凹刻印刷彫刻部分を示す平面図である。 図１４Ｂは、シリンダが矢印１０７の方向に回転される際に彫刻される複数の 凹刻印刷トレンチ列を示すとともに、幾つかの列に選択的に配置され交互の配列 を有する複数のインキ流れコントローラを示す部分図である。 図１４Ｃは、図１４Ｂの１４Ｃ−１４Ｃ線矢視の断面図である。 図１５Ａは、例示を目的としたソース文字”Ｏ”の画像を示す図である。 図１５Ｂは、図１５Ａに示された文字に応じたデータファイルによる画像であ り、細いラインの拡張ルーチンにより分析された高さＨを例示する図である。 図１５Ｃは、通常長く延びるとともに連結された複数の凹刻印刷トレンチを用 いてシリンダ上に彫刻された後の図１５Ａのソース画像を示す図である。 図１６Ａは、図１２の細いラインの拡張ルーチンを用いないで彫刻された複数 の凹刻印刷トレンチを示す部分平面図である。 図１６Ｂは、図１２の細いラインの拡張ルーチンを用いた後に彫刻された複数 の凹刻印刷トレンチを示す、図１６Ａの彫刻された凹刻印刷画像と同様の部分平 面図である。 図１７は、本発明の１つの実施の形態に基づいた補間ルーチンを示す図である 。 好適な実施の形態に関する詳細な説明 図１には、符号１０で示される彫刻装置の斜視図が示されている。彫刻装置１ ０は、以下の記載に示されるように、所定の凹刻印刷パターンを印刷するために 連続的に使用されるシリンダ１２を彫刻するための凹刻印刷彫刻装置として与え られる。シリンダ１２は、輪転グラビア彫刻で使用されていたのと同様の例えば 銅のような彫刻可能なコーティング層を有する表面１３を備えている。 彫刻装置１０は、基台１４を有して構成され、基台１４上に設けられたベッド ２０上には、主軸台１６および心押し台１８がスライド移動可能に設置されてい る。主軸台１６および心押し台１８は、（図示されない）適切なベアリングおよ び駆動トレイン(drive train)を用いてベッド２０上にスライド移動可能および 調整可能に設置され、これにより、主軸台１６および心押し台１８が、それらの 間においてシリンダ１２を回転可能に支持することが可能となる。また、彫刻装 置 １０は、（図示されない）適切なベアリングおよび駆動トレインを用いてベッド ２０上にスライド移動可能に設置されたキャリッジ２２を有して構成されている 。キャリッジ２２は、以下に記載するように、彫刻を実施するために、２重矢印 ２４の方向において移動可能となっている。また、彫刻装置１０は、キャリッジ ２２にスライド移動可能に設置された彫刻ヘッド２６を有して構成されており、 彫刻ヘッド２６は、図１の２重矢印２８の方向においてシリンダ１２に対して接 近および離間が自在となっている。 彫刻装置１０は、複数のアクチュエータから構成され、シリンダ１２を回転駆 動可能とする駆動手段である駆動装置３０を有して構成されている。駆動装置３ ０は、キャリッジ２２および彫刻ヘッド２６を選択的に駆動するための（図示さ れない）適切なモータおよび駆動機構を有して構成されている。さらに、必要と される場合には、駆動装置３０は、主軸台１６および心押し台１８をシリンダ１ ２に係合させるか、あるいは係合を解除するために、（図示されない）少なくと も１つの適切な駆動モータおよび駆動トレインを有して構成され、これにより手 動による調整が必要なくなる。例えば、駆動装置３０により、主軸台１６および 心押し台１８が駆動されて、これらが（図示されない）完全に後退された位置、 あるいは図１に示されるようなシリンダ支持位置へ移動される。また、主軸台１ ６および心押し台１８をそれぞれ独立的に、あるいは同時に駆動するために、駆 動装置に選択的に動力が供給される。 図示されてはいないが、両端部において逆方向のねじが切られた単一のリード スクリューを有する単一の駆動モータを用いることが可能である。この場合、リ ードスクリューが駆動されると、主軸台１６と心押し台１８とが同時に接近ある いは離間される。主軸台１６および心押し台１８をともに移動することで、長さ の異なるシリンダ１２を天井クレーンで搬送することが可能となる。この天井ク レーンは、例えば、彫刻装置１０の回転軸に垂直な方向の搬送経路を有する。し かし、例えば、（図示されない）シリンダ搬送機構により、シリンダ１２が彫刻 装置の回転軸に平行な方向に移動される場合には、静止された主軸台１６あるい は心押し台１８に対して、主軸台１６あるいは心押し台１８の一方を移動する形 態が有効となる。 さらに、駆動装置３０により、２重矢印２４の方向にキャリッジ２２を移動さ せるために、キャリッジ２２に連結された（図示されない）リードスクリューが 駆動される。同様に、キャリッジ２２上で彫刻ヘッド２６を２重矢印２８の方向 においてシリンダ１２に対して接近あるいは離間させるために、駆動装置３０に より、駆動トレインあるいはリードスクリューが駆動される。彫刻ヘッド２６、 キャリッジ２２、およびこれらの移動形態に関しては、以下の文献に同様のもの が記載されている。このような文献としては、アメリカ合衆国特許出願、出願番 号08/038.679；08/022,127；08/023,060および08/057,327、本特許出願と同じ譲 受人に対して1984年５月22日に付与されたアメリカ合衆国特許4,450,586号；本 特許出願と同じ譲受人に対して1984年3月20日に付与されたアメリカ合衆国特許4 ,438,460号；本特許出願と同じ譲受人に対して1982年11月2日に付与されたアメ リカ合衆国特許4,357,633号；および本特許出願と同じ譲受人に対して1994年7月 12日に付与されたアメリカ合衆国特許5,329,215号が上げられる。参照すること で、これらすべての明細書は本特許出願に組み込まれ、本特許出願の一部をなす ものとする。 彫刻装置１０は、彫刻装置１０および彫刻ヘッド２６の動作を制御するととも に、選択された所定の凹刻印刷パターンに応じた凹刻印刷パターン彫刻信号３８ （図１０Ａ）を発生させるための制御手段であるコントローラあるいはコンピュ ータ３４を有して構成されている。また、彫刻装置１０においては、コンピュー タ３４により、上述された駆動装置３０をはじめとしてすべての駆動モータが選 択的に制御される。 図２に最もよく例示されるように、彫刻ヘッド２６は、１つあるいは複数の上 記特許において開示された輪転グラビア彫刻ヘッドと比較して、同様の構造およ び動作を有している。そして、彫刻ヘッド２６は、直径が小さくされたトーショ ンバネ部分４８により、反対方向の端部４４と端部４６との間においてシャフト ４２に強固に固定されたアーマチュア４０を有して構成されている。ここに記載 される実施の形態においては、シャフト４２は約0.625インチの直径を有し、そ れぞれのトーションバネ部分は約0.060インチの直径を有している。トーション バネ部分４８およびシャフト部分４２は、約100マイクロ秒以下の所定の立上り 時間を実現するように選定された厚さ、直径、および重量を有していることに留 意する必要がある。また、ここに記載される実施の形態においては、凹刻印刷パ ターンを彫刻するための彫刻装置１０に関する所定の立上り時間は、約75から20 0マイクロ秒の範囲にある。 シャフト部分４２には、ノッチ５０が形成され、このノッチ５０により、（図 示されない）一組のネジによりシャフト部分４２に強固に固定された駆動アーム ５２が支持される。そして、駆動アーム５２には円筒状の横断孔部５４（図４） が形成され、この横断孔部５４内に、細長いロッド状のホルダー５６が設置され ている。ダイヤモンドで形成されるのが好適である切削スタイラス５８は、平坦 面６０を有するホルダー５６の一方の端部に、一体に形成されるか、あるいは（ セメント）接合されている。面６０は、シャフト４２から駆動アーム５２を通し て外方へ延び、孔部５４と交差する孔部６４内に配設された止めネジ６２に係合 される。 駆動アーム５２は、シャフト４２に強固に固定されるとともに、彫刻ヘッド２ ６の基体部内に配置された（図示されない）対向する一対の電磁石間において外 方へ突出している。（図示されない）電磁石が通電された場合には、駆動アーム ５２は、約0.25度の円弧を描いて振動する。 図２に示されるように、ガイドシュー６６は、ダイヤモンドから形成されるの が好適であり、彫刻されるシリンダ１２の面と接触する面６８（図３）を有して いる。ガイドシュー６６の構造および動作は、１つあるいは複数の上記参照され た特許に開示されたものと同様である。 ここで、過去の彫刻ヘッドと異なり、シャフト４２（図２）、端部４４、端部 ４６、およびトーションバネ部分４８まわりに緩衝材料が全く配設されていない か、あるいは少ししか配設されていないことに留意する必要がある。これは、彫 刻ヘッド２６の応答時間を減少させるのに効果を有している。 図７に最もよく示されるように、ここで記載される実施の形態におけるホルダ ー５６には、ホルダー５６に対して一体に形成されるかあるいは接合され、通常 Ｕ型あるいは図示されるようなブルノーズ型の形状を有するスタイラス５８が設 けられている。１つの実施の形態においては、スタイラス５８は、図７において θ₁で示される５度以上の逃げ角を有しており、この逃げ角θ₁は、必要に応じて ０度から６０度の範囲で変化する。そして、約２０度の逃げ角θ₁が好適である ことが判明している。 スタイラス５８は、約６０度のルーフ角(roof angle)θ₂（図７）を有するこ とに留意する必要がある。また、シリンダ１２と係合するために、スタイラス５ ８の先端部には、線形係合するエッジあるいは面５８ａが形成されていることに 留意する必要がある。ここで記載される実施の形態においては、幅Ｗは約２０ミ クロンとなっている。ここでは、図７に示された形状のスタイラスを有する実施 の形態を基にして、本発明が説明されているが、彫刻される凹刻印刷トレンチの 断面形状に応じて、他の適切な形態を選択することが可能である。 彫刻ヘッド２６は、キャリッジ２２上にスライド移動可能に設置されていると ともに、駆動装置３０およびコンピュータ３４に接続されている。過去の輪転グ ラビア彫刻機で使用された彫刻ヘッドで採用されていたのと同様の方法により、 シリンダ１２と動作関係を有するように彫刻ヘッド２６が位置決めされる。そし て、以下に記載される方法を用いて、予め定められた望ましい凹刻印刷パターン 、あるいは図８Ｃに示された実際の凹刻印刷パターン７０の部分画像のような部 分的凹刻印刷パターンを彫刻するために、適切な時期に、コンピュータ３４によ り、彫刻ヘッド２６が駆動される。ここで、凹刻印刷パターン７０により実質的 に連続で非線形の凹刻印刷キャラクタ７３が形成され、図８Ｃに示されるキャラ クタの一部が複数の凹刻印刷トレンチあるいは溝７２から構成されていることに 留意する必要がある。図８Ａに示されるように、キャラクタあるいは部分７７は 、複 数の細長い凹刻印刷トレンチ７７ａから構成されている。これらのトレンチ７７ ａは、これらのトレンチが連続するように彫刻される場合もあれば、あるいはト レンチ間に１つあるいは複数のトレンチ壁部７７ｂが形成されるように彫刻され る場合もある。 図８Ｂに示されるように、それぞれの凹刻印刷トレンチ７７ａは、平坦な底部 ７９を備えた溝あるいはチャネルを形成するように彫刻される。ここで、トレン チ７７ａが、非常に急峻な前壁部８１および後壁部８３を有することに留意する 必要がある。ここで記載される実施の形態においては、前壁部８１は、約100マ イクロ秒のオーダーの（図８Ｂにおいては、２重矢印Ｔ₂で示される）応答時間 を有する彫刻ヘッド２６を用いて彫刻される。ここで、図８Ａおよび図８Ｃに示 される凹刻印刷トレンチあるいはチャネルの幾つかは、例えばトレンチ７２ａの ように細長く、一方他のトレンチは、例えばトレンチ７２ｂのようにかなり短く て高さが低いことに留意する必要がある。ここで記載される実施の形態において は、彫刻装置１０により、図８Ｂに示されるような断面形状および望ましい長さ Ｘ（図８Ｂ）を有する凹刻印刷トレンチを彫刻することが可能となるとともに、 彫刻が約500dpiの速度で実施される場合には、彫刻ヘッド２６に関して1/500す なわち0.002インチまでの短かさの凹刻印刷トレンチを彫刻することが可能とな る。 上記とは対照的に、図８Ｄには、上記参照された従来型の輪転グラビア彫刻装 置を用いて彫刻された他のキャラクタ８９が示されている。ここで、キャラクタ の上部にある矢印９１，９３で示されるグラビアセルは、非常に小さくかつ浅い ことに留意する必要がある。これらのセルが実際の印刷において使用された場合 には、印刷画像は、図８Ｄに示された彫刻セルのように、不連続でドットの集合 体のように見える。 本発明の１つの実施の形態に基づいた凹刻印刷彫刻エリアあるいはトレンチの 他の例が、図９Ａから図９Ｃに示されている。この例においては、文字Ｌおよび 文字Ａに対する凹刻印刷彫刻が示されている。ここで、シリンダ１２が図９Ａの 矢印８１の方向に回転される際に、スタイラス５８により、トレンチ７４，７６ ， ７８のような連続したトレンチが彫刻あるいは切削されることに留意する必要が ある。また、図９Ｂの部分断面図に示されるように、トレンチ７４，７６，７８ により連続した凹刻印刷トレンチ部が形成され、これにより、図９Ａに示される 凹刻印刷文字が構成される。例示を容易とするために、図９Ａから図９Ｃにおい ては、想像線８０により、それぞれの連続する彫刻パスが区画されている。既に 述べたように、コンピュータ３４は、文字”Ｌ”および”Ａ”に対する所定の凹 刻印刷パターンに対応した凹刻印刷パターン彫刻信号を発生させるための手段を 有して構成されている。この凹刻印刷パターン彫刻信号を用いて彫刻ヘッド２６ を駆動することで、図８に示された望ましい所定の凹刻印刷パターン７０の彫刻 が実現可能となる。以下においては、凹刻印刷パターン彫刻信号生成に関して記 載がなされる。 図１０Ａおよび図１０Ｂには、シリンダ１２が矢印８２方向に回転する際に、 凹刻印刷パターン彫刻信号３８に応じて彫刻ヘッド２６により彫刻される複数の チャネルあるいはトレンチから形成される２つの長方形状の凹刻印刷キャラクタ あるいはキャラクタ部分８６，８８を例示する部分断面図が示されている。この 波形信号は、以下に記載されるように修正された後の凹刻印刷画像データを表す パルス幅変調信号、あるいは画像データに対応したパルス幅変調信号として与え られる。図１０Ｂには、シリンダ１２が回転される際に、信号３８（図１０Ａ） を用いた複数のパス間で彫刻されたトレンチ８６，８８を示す部分平面図が示さ れている。図１０Ｂにおいては、再び、２重矢印Ｔ₂で示される短い立上り時間 あるいは応答時間が示されている。ここで記載される実施の形態においては、彫 刻応答時間Ｔ₂は、200マイクロ秒のオーダーであるか、あるいは約75から300マ イクロ秒の範囲にある。 図１１には、凹刻印刷パターンを彫刻するために適した凹刻印刷パターン彫刻 信号をコンピュータ３４により生成するプロセスあるいは方法が図式的に示され ている。第１に、彫刻されるキャラクタに対する画像データのソースファイルあ るいはデータセットがコンピュータ３４へ送られる（ブロック９０）。コンピュ ータ３４には、メモリからこのデータが送られる場合もあれば、ユーザにより （図示されない）ワークステーションあるいは他の入力装置を介してこのデータ が入力される。例えば、図１５Ａに示される文字”Ｏ”を表現するデータに関し ては、このデータがコンピュータ３４により生成されることもあれば、このデー タがコンピュータ３４に入力されることもある。 そして、以下に記載される印刷解像度ルーチン（図１７）が、ブロック９２で 実行される。この工程では、凹刻印刷パターンを彫刻する彫刻装置１０の解像度 を決定するために、画像データのソースファイルが解析される。 通常、画像データのソースファイルは、彫刻装置１０において使用可能である 彫刻解像度以上の解像度を有して、コンピュータ３４により供給される。画像デ ータのソースファイルがこのような高い解像度で与えられるのは、画像データに 応じた画像細部を最大限に復元することを保証するためである。例えば、図１５ Ａに示されるソース画像は、コンピュータ３４により2000dpi(dot per inch)の 解像度で与えられるが、一方で、ここで記載される実施の形態における彫刻装置 １０は、約500dpiの彫刻解像度能力しか有していない。結果的に、画像を修正す る際に、修正されたソース画像における最大コントラストを維持する一方で、彫 刻装置１０で使用可能な解像度に適合するように、画像データのソースファイル を修正する必要がある。 彫刻解像度が決定されれば、画像データのソースファイルの全部あるいは一部 を望ましい最小長さあるいは所定の最小長さへと拡張するのが望ましい。例えば 、図１５Ｂに示されるように、文字”Ｏ”は、関連する望ましい最小彫刻高さＨ を有している。ここに記載される実施の形態においては、この高さＨが所定の長 さより小さな場合には、このデータ高さＨに対応した画像データのソースファイ ルを、所定の彫刻解像度を得るための適切な高さに拡張するのが望ましい。これ により、例えば、ここに記載される実施の形態においては、彫刻装置１０は、約 500dpiの所定の彫刻解像度を有することになる。結果的に、凹刻印刷パターンの 一部分が彫刻解像度として得られる500dpiでは許容できない高さＨを有して構成 される場合には、ソースファールの拡張ルーチン（図１１のブロック９４）に基 づ いて、画像データのソースファイルの該当部分を拡張することが望ましい。ソー スファイルの拡張ルーチンに関しては、後に記載される。 そして、ブロック９８においては、従来的な双線形(bi-linear)補間あるいは 画像リクリプティング(image recrypting)を用いて、拡張された画像データソー スファイルあるいは拡張されない画像データソースファイルを補間して、彫刻解 像度に適合させる。このような補間に関する適切なアプローチの１つが、デジタ ル画像処理のセクション１４．５(Section 14.5，Digital Image Processing，2 nd. Ed.，authored by William K．Pratt and published by John Wiley & Sons ,Inc.，1991)に記載されている。 次に、（ブロック１００において、）所定のしきい値に基づいて、凹刻印刷パ ターンにおけるコントラストを調整するために、修正された彫刻ソース画像デー タが、さらに修正あるいはしきい値処理される。ここで記載される実施の形態に おいては、所定のしきい値により、ブラックの５０パーセント未満の濃度を表す データ点あるいは画素がゼロあるいはホワイトに設定され、ブラックの５０パー セント以上の濃度を有する画素はブラックに設定される。この際、他の値を有す るしきい値を用いることが可能であるのが解されるであろう。 コントラストを調整するために前処理された彫刻データソースファイルが修正 あるいはしきい値処理された後に、（判定ブロック１０２において、）シリンダ １２上に彫刻される凹刻印刷パターンへ、図１４Ａに示されるインキ流れコント ローラ１４４のような１つあるいは複数のコントローラを配置するか否かが決定 される。このインキ流れコントローラに関しては、所定の凹刻印刷パターンの領 域内へ１つあるいは複数のインキ流れコントローラを配置することで、印刷プロ セスにおけるインキの流れの制御が容易となることが分かっている。このインキ 流れコントローラを配置することで、凹刻印刷パターンが印刷された際に、望ま しくないインキの流れに関する問題あるいは毛管作用による吸引に関する問題が 低減あるいは削除される。さらに、インキ流れコントローラにより、（図示され ない）印刷機内の（図示されない）ドクターブレードに対して支持を与えること が容易となる。 図１４Ａには、複数のインキ流れコントローラ１４４が配置された凹刻印刷パ ターン１４２の一部分が示されている。また、図１４Ｂには、トレンチ１４９， １５１内にそれぞれ配置された複数のインキ流れコントローラ１４５，１４７が 示されている。ここで、トレンチ１４９に隣接するトレンチ１５３には、インキ 流れコントローラが設けられていないことに留意する必要がある。また、インキ 流れコントローラ生成ルーチンにより、交互に配列された、インキ流れコントロ ーラ１４４（図１４Ａ）およびインキ流れコントローラ１４５，１４７（図１４ Ｂ）のような、インキ流れコントローラが生成されることに留意する必要がある 。これにより、図１４Ｂに示されたインキ流れコントローラ１４５のようなイン キ流れコントローラが、トレンチ１５１およびトレンチ１５３のような２つの彫 刻されたコラムあるいはトレンチ間に配置される。 インキ流れコントローラ生成ルーチン（図１１のブロック１０４）が完了した 際、あるいは判定ブロック１０２で否定の判定がなされると、コンピュータ３４ により、（図１１のブロック１０６において、）拡張され、そしてしきい値処理 された後の彫刻データソースファイルに応じた最終的な凹刻印刷パターン彫刻信 号が生成される。 そして、ブロック１０８において、最終的な凹刻印刷パターン彫刻信号に応じ て、図１５Ｃに示される文字”Ｏ”１９１のような所定の凹刻印刷パターンを彫 刻するために、コンピュータ３４により、彫刻装置１０の彫刻ヘッド２６が駆動 され、凹刻印刷パターンの彫刻が終了すれば、処理がブロック１０８から離れる 。 彫刻装置１０により凹刻印刷パターンを彫刻する際に、実際の凹刻印刷彫刻解 像度の決定を容易とするために、解像度ルーチンが用いられている。本発明の１ つの実施の形態に基づいた解像度ルーチンが、図１７に図式的に示されている。 第１に、ブロック２００において、コンピュータ３４により、INDEXがゼロに設 定される。ブロック２０２では、彫刻装置１０に関連する最も細かい解像度がコ ン ピュータ３４に入力される。最も細かい解像度は、（以下に記載される）彫刻さ れるブラック画素の最小ランレングス(run length)に対応する。このランレング スは、インキ、彫刻ヘッド２６の応答特性、印刷状態、印刷基体等の要因に基づ いて決定される。ここで記載される実施の形態においては、印刷解像度は約500d piのオーダーを有する。次に、ブロック２０４において、画像データソースファ イルの解像度をINDEXで割った値に等しい、FINAL解像度が設定される。そして、 判定ブロック２０６において、FINAL解像度がブロック２０２で既に決定された 印刷解像度未満であるかどうかが判定される。FINAL解像度が印刷解像度未満で ない場合には、（ブロック２０８において、）INDEXが、例えば２であるような 所定数だけ増分される。そして、図に示されるように、処理はブロック２０４に 復帰する。 判定ブロック２０６でFINAL解像度が印刷解像度未満と判定されると、次の工 程に進み、コンピュータ３４により、FINAL解像度が使用される。そして、処理 は、（図１１の）ブロック９４へ復帰する。 ソースファイルの拡張ルーチン（図１１のブロック９４）に関して、図１６Ａ には、ソースファイル拡張ルーチンを用いないで彫刻された所定の凹刻印刷パタ ーンが示され、図１６Ｂには、同じパターンに対してソースファイル拡張ルーチ ンが適用された後の凹刻印刷パターンが示されている。図１６Ａに示されるよう に、ここに記載される例においては、高さＹが彫刻ヘッド１０の解像度（1/500 インチ）より短かいので、スタイラス５８が完全なブラック深さに到達できてい ない。結果的に、彫刻されるパターンの高解像度と、パターンを彫刻するのに要 求される短かい作用時間とにより、破線５９で示されるように、彫刻装置１０は 、スタイラスを５０パーセントのブラック深さだけ振動させることができるにす ぎなかった。他の言い方をすれば、彫刻される凹刻印刷パターンの解像度が、彫 刻装置の応答能力以上に細かいのである。すなわち、彫刻装置１０は、細いライ ンあるいは細い凹刻印刷パターンの領域を彫刻するために、充分な速度でシリン ダ１２の面１３に対して侵入および離脱することができない。上述したように、 彫刻装置１０は、完全なブラック深さの約５０パーセントまでしか彫刻すること が できない。これにより、ここに記載した例においては、凹刻印刷トレンチ１９１ は、望ましい形態よりも浅く、細く、そして、短かい。これにより、彫刻装置１ ０は、例えば、細いライン、あるいは凹刻印刷パターンを構成する連続的な凹刻 印刷トレンチを彫刻する能力を有することができなくなる。 本発明では、彫刻装置１０により、（図１６Ｂの破線６１で示される１００パ ーセントのブラック深さのような）適切な幅、高さ、および深さを有する凹刻印 刷トレンチを彫刻することを保証するために、画像データのソースファイルの拡 張が可能となっている。これにより、画像データのソースファイルを彫刻装置の 解像度能力以下の解像度に設定するのを保証することが容易となる。 図１２を参照して、１つの実施の形態に基づいたソースファイルの拡張ルーチ ンを以下に記載する。ソースファイル拡張ルーチンが開始されると、ブロック１ １０において、画像データのソースファイルがバッファ内へロードされる。そし て、処理がブロック１１４へ進み、ここでは、コンピュータ３４により、１つあ るいは複数のブラック画素のデータラン(data run)に関するデータ長さを判別す る。コンピュータ３４により、データ長さが得られると、判定ブロック１１６に おいて、この長さが所定の長さ未満であるか否かがチェックされる。データ長さ が所定の長さ未満である場合には、処理はブロック１１８へ進み、ここで、デー タの中心が算出される。 そして、ブロック１２０において、ルーチンにより、所定の長さに対応する画 素のおおよそ半分がバックアップされ、そして、画像データのソースファイルが 、最小のブラック画素対応のランレングスを有するように修正される。ここで記 載される実施の形態においては、最小のブラック画素ランレングスは、彫刻ヘッ ド２６の応答特性、印刷状態、インキ、印刷基体等の種々の要因に基づいて決定 される。 上記工程が終了した後、あるいは判定ブロック１１６において否定の判定がな された際に、処理は判定ブロック１２４へ進み、ここでは、凹刻印刷画像に関し てすべての画素列に対する分析が完了したか否かが判定される。完了していない 場合には、図示されるように、処理がブロック１１４へ復帰する。 すべての画素列に対する分析が完了した際には、ループを出て、（ブロック１ ２６において、）修正されたデータファイルあるいは修正されないデータファイ ルが、コンピュータ３４により、適切なメモリ内に記憶される。これにより、処 理が図１１のブロック９８へ進む。 （図１１のブロック１０４の）インキ流れコントローラ生成ルーチンに関して 、図１４Ｂおよび図１４Ｃには、サブトレンチ１４６ａ，１４６ｂ，１４６ｃか ら構成される彫刻されたトレンチ１４６内に設けられた複数のインキ流れコント ローラ１４７ａ，１４７ｂの断面図が示されている。ここで、図１４Ｃのインキ 流れコントローラ１４７ｂのようなインキ流れコントローラが、所定の凹刻印刷 パターンが印刷された際にホワイト領域を形成する高さを有していることに留意 する必要がある。これに代えて、凹刻印刷パターンが印刷される際に望ましくな い乱流およびインキ流れを制御するのを容易とするために、インキ流れコントロ ーラとして、適当な任意の高さ、幅、あるいは形状を有するポストあるいはコン トローラを用いることが可能である。ここで記載される実施の形態においては、 図１４Ａから図１４Ｃに示されるインキ流れコントローラが、以下に記載される インキ流れコントローラ生成ルーチンにより生成される１画素として与えられて いることに留意する必要がある。図示されてはいないが、プログラムであるイン キ流れコントローラ生成ルーチンにより、望ましい任意のサイズ、高さ、あるい は幅を有するインキ流れコントローラ１４４（図１４Ａ）の生成が可能となる。 １つあるいは複数のインキ流れコントローラ１４４が必要とされる場合には、 コンピュータ３４により、図１３Ａおよび図１３Ｂで図式的に示されるインキ流 れコントローラ生成ルーチン（図１１のブロック１０４）へ処理が進められる。 図１３Ａに示されるように、第１に、ブロック１２８において、コンピュータ３ ４により、画素に関する垂直方向のオフセット値がOFFSETとして設定され、また トグル(toggle)がTRUEに設定される。垂直方向のオフセット値は、隣接するイン キ流れコントローラ間の距離に対応する。この例においては、垂直方向のオフセ ット値は、インキ流れコントローラ間において一定となっている。しかし、イン キ流れコントローラを非対称形態あるいは対称形態で配置するために、他のアル ゴリズムを使用可能であることが解されるであろう。 そして、コンピュータ３４により、ブロック１３０において第１の画素列およ び第２の画素列が読み込まれ、サブルーチンＡ（図１３Ｂ）に処理が進む前に、 ブロック１３２において第３の画素列が読み込まれる。第１の画素列、第２の画 素列、および第３の画素列は、彫刻される凹刻印刷キャラクタ部分に対応する隣 接する画素データの列として与えられる。例えば、図１４Ｂにおいて、第１の画 素列、第２の画素列、および第３の画素列は、通常、彫刻領域１４１ａ，１４１ ｂ，１４１ｃとして示される隣接する彫刻領域に対応する。そして、ブロック１ ４２で示されるように、トグルがTRUEである（ルーチンの第１のパスを通して設 定）場合には、INDEXがOFFSETの半分に設定され、そうでない場合には、INDEXが ゼロに設定される。そして、処理が判定ブロック１４４へ進み、ここでは第２の 画素列のINDEX位置における両素がホワイトであるかブラックであるかが判定さ れる。ブラックである場合には、処理が判定ブロック１４６へ進み、ここでは第 １の画素列の同じINDEX位置における画素がブラックであるか否かが判定される 。第１の画素列のINDEX位置における画素がホワイトである場合には、処理が判 定ブロック１４８へ進み、ここでは第３の固素列のINDEX位置における画素がブ ラックであるか否かが判定される。判定ブロック１４６において、第１の画素列 のINDEX位置における画素がブラックである場合には、処理は判定ブロック１５ ０へ進み、ここでは第３の画素列のINDEX位置における画素がブラックであるか 否かが判定される。判定ブロック１５０において画素がブラックである場合、あ るいは判定ブロック１４８において否定の判定がなされた場合には、第２の画素 列のINDEX位置における画素がホワイトに設定される。 判定ブロック１４８において肯定の判定がなされた場合、あるいは判定ブロッ ク１４４あるいは判定ブロック１５０において否定の判定がなされた場合には、 図に示されるように、処理は判定ブロック１５４へ進む。そして、判定ブロック １５４において、サブルーチンＡが完了されたか否かが判定され、完了されてい ない場合には、図１３Ｂに示されるように、ブロック１５６においてINDEXにOFF SETが加えられるとともに、処理がブロック１４４へ復帰する。凹刻印刷画像あ るいは凹刻印刷パターンの領域に関して、画素列すべてのデータに関するチェッ クの処理が終了した際に、このルーチンが完了する。 判定ブロック１５４において肯定の判定がなされた場合には、処理がブロック １３４（図１３Ａ）へ進み、ここでは画素がコンピュータ３４の（図示されない ）メモリ内に書込まれるかあるいは記憶される。インキ流れコントローラ生成ル ーチンにより、すべてのデータ列が処理された際（図１３Ａの判定ブロック１３ ６）には、処理がこのルーチンから離れる。例えば図１５Ａの文字”Ｏ”のよう な所定の凹刻印刷画像あるいはパターンに対するすべての画素列の処理が終了し た場合に、ブロック１３６（図１３Ａ）において処理が終了する。また、処理が 完了しない場合には、処理がブロック１３８へ進み、ここではトグルが切り換え られる。次に、処理はブロック１４０へ進み、ここでは第２の画素列が第１の画 素列として設定されるとともに第３の画素列が第２の画素列として設定され、そ の後新しい第３の画素データ列が読み込まれる（ブロック１３２）。 インキ流れコントローラ生成ルーチンが終了した際、あるいはインキ流れコン トローラを必要としない決定（図１１の判定ブロック１０２）がなされた際には 、既に述べたように、ブロック１０６において、最終的な凹刻印刷パターン彫刻 信号が生成される。そして、シリンダ１２上への所定の凹刻印刷パターンの彫刻 を実現するように彫刻ヘッド２６を駆動するために、最終的な凹刻印刷パターン 彫刻信号がコンピュータ３４により使用される。これにより、彫刻プロセスが完 了する。 次に、所定の凹刻印刷パターンを印刷するために、（図示されない）印刷機に おいて使用される、シリンダ１２上に所定の凹刻印刷パターンを彫刻する装置お よび方法の例に関して記載する。第１に、シリンダ１２は、主軸台１６と心押し 台１８との間において、彫刻装置１０に回転可能に設置される。そして、駆動装 置３０によりシリンダが回転駆動されるとともに、コンピュータ３４から出力さ れる信号に応じて彫刻ヘッドキャリッジ２２が駆動される。また、所定の凹刻印 刷パターンの彫刻を開始するために、コンピュータ３４の命令により駆動装置３ ０が駆動されて、彫刻ヘッド２６が開始位置へ移動される。 通常、所定の凹刻印刷パターンに対応する凹刻印刷パターン彫刻信号は、上記 の方法を用いて生成される。そして、彫刻装置１０のコンピュータ３４により彫 刻ヘッド２６が駆動され、これにより、所定の凹刻印刷パターンに対応した凹刻 印刷パターン彫刻信号３８に応じて、駆動アーム５２がシリンダ１２に対して接 近および離間するように振動する。駆動アーム５２およびスタイラス５８（図４ ）がシリンダ１２の表面に係合する際には、少なくとも１本の凹刻印刷トレンチ が生成される。既に記載したように、彫刻が実施される際には、凹刻印刷パター ン内に少なくとも１つのインキ流れコントローラあるいはポスト１４４を設ける ように、凹刻印刷パターン彫刻信号を修正するのが望ましく、この際、インキ流 れコントローラ生成ルーチン（図１１のブロック１０２およびブロック１０４） が用いられる。また、既に述べたように、画像データのソースファイルの一部あ るいは全部を拡張するのが望ましい。 既に述べたように、（図１５Ｂに例示されるような）画像データのソースファ イルは、コンピュータ３４のメモリ内に記憶されるか、例えば（図示されない） 独立した入力ターミナルあるいはワークステーションを用いてコンピュータ３４ へ入力される。既に記載されたように、画像データのソースファイルが分析され 、彫刻解像度が判定（図１１のブロック９０）される。そして、既に記載された ように、画像データのソースファイルが再び修正あるいはしきい値処理され、前 処理された凹刻印刷パターン彫刻信号が生成される（図１１のブロック９４）。 そして、図１５Ｃに示された彫刻される”Ｏ”のような凹刻印刷パターンが、凹 刻印刷パターン彫刻信号に応じて彫刻される。 シリンダ１２が彫刻装置１０に回転可能に設置された後に、凹刻印刷プロセス が開始される。そして、１つあるいは複数の凹刻印刷キャラクタを有するこのよ うな１つあるいは複数の所定の凹刻印刷パターンが、シリンダ１２の表面１３上 に彫刻される。彫刻が完了すると、シリンダ１２は彫刻装置１０から取り外し可 能となる。 その後、シリンダ１２が（図示されない）印刷機に回転可能に設置される。そ して、紙、プラスチック等のウェブ材料が印刷機を通して供給され、所定のパタ ーンがウェブ上に印刷される。 本発明の利点として、この方法および装置を用いることで、シリンダが回転す る際において、連続する溝あるいはトレンチを有する所定の凹刻印刷パターンを シリンダ上に彫刻することが容易となることが上げられる。また、本発明による 凹刻印刷彫刻方法は、例えば従来の輪転グラビア彫刻で使用されていたような型 のシリンダ型彫刻装置あるいは螺旋型彫刻装置に対して使用することが可能であ る。さらに、本発明の特徴は、例えばレーザ彫刻装置のような他の型の彫刻装置 に対して適用することが可能である。 本発明による装置および方法を用いることで、従来型の輪転グラビア彫刻装置 と同等あるいはより速い速度で、シリンダ上に凹刻印刷パターンあるいは画像を 彫刻あるいはさらに浮き彫りすることが容易となる。また、例えばプレートの手 動による彫刻と比較して、凹刻印刷彫刻をかなり高速で実施することが可能とな る。また、本発明による方法および装置に基づいた凹刻印刷彫刻は、過去の彫刻 システムおよび方法と比較すると、より高い精度を有している。 最後に、本発明により、印刷機で使用されるシリンダ上に凹刻印刷パターンを 彫刻する彫刻装置において、これまでは使用されなかった実質的あるいは完全に 連続な方形の彫刻信号を用いることが容易となる。 上記の方法およびこの方法を実施するための装置の形態に関して、本発明によ る好適な実施の形態が説明されているが、本発明がこの方法および装置の形態に 限定されるものではないことが解されるであろう。例えば、ここに記載される装 置および方法は、従来の輪転グラビア彫刻とともに用いることが可能であり、こ れにより、本発明による方法および装置に基づいて彫刻される凹刻印刷トレンチ のパターンは、それのみが彫刻されることもあれば、過去に使用された型のグラ ビアセルとともに彫刻されることもある。したがって、付随する請求の範囲によ り定義される本発明の範囲から離れることなく、変更を加えることが可能である 。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 セイツ，デイビッド アール アメリカ合衆国 オハイオ 45377 ヴァ ンデイリア バーチトン プレイス 1115 【要約の続き】 ンピュータにより発生され、パルス幅が変調された凹刻 印刷パターン彫刻信号に応じて彫刻されるとともに、通 常長方形の断面を有する凹刻印刷溝あるいはトレンチを 彫刻することが容易となる。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １． 凹刻印刷パターンを印刷するためにシリンダを彫刻する彫刻装置であって 、 前記シリンダを回転駆動するための駆動装置と、 前記彫刻装置の動作を制御するとともに、前記凹刻印刷パターンに応じた凹刻 印刷パターン彫刻信号を生成するためのコンピュータと、 前記シリンダが回転する間において、前記凹刻印刷パターン彫刻信号に応じて 、前記凹刻印刷パターンを前記シリンダ上に彫刻するための彫刻ヘッドとを有し て構成されていることを特徴とする彫刻装置。 ２． 請求項１記載の彫刻装置において、 前記彫刻ヘッドが約200マイクロ秒の立上り時間を有することを特徴とする彫 刻装置。 ３． 請求項１記載の彫刻装置において、 前記彫刻ヘッドが200マイクロ秒未満の立上り時間を有することを特徴とする 彫刻装置。 ４． 請求項１記載の彫刻装置において、 前記コンピュータが、凹刻印刷パターンが彫刻される際に、前記凹刻印刷パタ ーンが少なくとも１つのインキ流れコントローラを有するように、前記凹刻印刷 パターン彫刻信号を修正するためのインキ流れコントローラ生成部を有して構成 されていることを特徴とする彫刻装置。 ５． 請求項４記載の彫刻装置において、 前記インキ流れコントローラが、前記凹刻印刷パターン内に配置されたポスト を有して構成されていることを特徴とする彫刻装置。 ６． 請求項４記載の彫刻装置において、 前記凹刻印刷パターン彫刻信号が、第１の画素データ、第２の画素データ、お よび第３の画素データに対応し、 前記インキ流れコントローラ生成部が、前記第１の画素データ、第２の画素デ ータ、および第３の画素データを評価するとともに、前記第１の画素データ、第 ２の画素データ、および第３の画素データがブラック領域である場合には、前記 インキ流れコントローラを生成する手段を有して構成されていることを特徴とす る彫刻装置。 ７． 請求項１記載の彫刻装置において、 前記凹刻印刷データソースファイルが、前記凹刻印刷パターンに少なくとも部 分的に対応し、 前記コンピュータが、前記凹刻印刷データソースファイルを修正するとともに 、この修正に応じて修正された凹刻印刷データソースファイルを生成するライン 拡張部を有して構成されていることを特徴とする彫刻装置。 ８． 請求項７記載の彫刻装置において、 前記コンピュータにより、修正された凹刻印刷データソースファイルに対応し た凹刻印刷パターン彫刻信号が生成されることを特徴とする彫刻装置。 ９． 請求項１記載の彫刻装置において、 前記凹刻印刷パターン彫刻信号が、パルス幅変調された波形を有することを特 徴とする彫刻装置。 １０． 請求項１記載の彫刻装置において、 スタイラスが、通常のＵ字型の先端部を有して構成されていることを特徴とす る彫刻装置。 １１． 請求項１記載の彫刻装置において、 スタイラスが、５度以上の逃げ角を有することを特徴とする彫刻装置。 １２． 請求項１１記載の彫刻装置において、 前記逃げ角が、１０度から２０度の範囲にあることを特徴とする彫刻装置。 １３． 請求項１記載の彫刻装置において、 前記凹刻印刷パターンが、少なくとも１つの領域において、0.002インチ未満 の高さを有することを特徴とする彫刻装置。 １４． 凹刻印刷パターンを印刷するために、印刷機において使用されるシリン ダ上に凹刻印刷パターンを彫刻するための方法であって、 前記シリンダを回転駆動する工程と、 前記凹刻印刷パターンに対応する凹刻印刷パターン彫刻信号を生成する工程と 、 前記凹刻印刷パターン彫刻信号に応じて、シリンダ上に前記凹刻印刷パターン を彫刻する工程とを有する彫刻方法。 １５． 請求項１４記載の彫刻方法において、 前記凹刻印刷パターンを彫刻する工程が、約200マイクロ秒の応答時間を有す る彫刻ヘッドを用いて前記シリンダを彫刻する工程を有することを特徴とする彫 刻方法。 １６． 請求項１５記載の彫刻方法において、 前記応答時間が、200マイクロ秒未満であることを特徴とする彫刻方法。 １７． 請求項１５記載の彫刻方法において、 前記凹刻印刷パターンが彫刻される際に、前記凹刻印刷パターン内に少なくと も１つのインキ流れコントローラが配置されるように、前記凹刻印刷パターン彫 刻信号を修正する工程をさらに有することを特徴とする彫刻方法。 １８． 請求項１７記載の彫刻方法において、 前記少なくとも１つのインキ流れコントローラが、彫刻領域を有して構成され ていることを特徴とする彫刻方法。 １９． 請求項１７記載の彫刻方法において、 前記少なくとも１つのインキ流れコントローラが、最大深さ未満の深さのトレ ンチを有して構成されていることを特徴とする彫刻方法。 ２０． 請求項１４記載の彫刻方法において、 前記凹刻印刷パターン彫刻信号は、複数の画素列に関連する画素データに対応 し、 前記複数の画素列のなかの１つの画素列の少なくとも１つの画素データに関し て、少なくとも１つの隣接する画素がブラックである場合には、前記対象とする 画素を非ブラック画素として設定する工程をさらに有することを特徴とする彫刻 方法。 ２１． 請求項２０記載の彫刻方法において、 前記複数の画素列が、第１の画素列、第２の画素列、および第３の画素列を有 して構成され、 前記凹刻印刷パターン彫刻信号の生成工程が、前記第１の画素列、第２の画素 列、および第３の画素列を評価する工程と、 前記第１の画素列および前記第３の画素列がブラックである場合には、前記第 ２の画素列を非ブラック画素に設定する工程とを有することを特徴とする彫刻方 法。 ２２． 請求項１４記載の彫刻方法において、 前記凹刻印刷パターン内に、インキ流れコントローラを配置する工程をさらに 有することを特徴とする彫刻方法。 ２３． 請求項２２記載の彫刻方法において、 前記配置工程が、前記インキ流れコントローラが交互に配置される所定のパタ ーンを有するように、前記凹刻印刷パターン内に、複数の前記インキ流れコント ローラを配置する工程を有することを特徴とする彫刻方法。 ２４． 請求項２２記載の彫刻方法において、 前記インキ流れコントローラが、彫刻されない領域として与えられることを特 徴とする彫刻方法。 ２５． 請求項２２記載の彫刻方法において、 前記配置工程が、最大深さ未満の深さを有するインキ流れコントローラを、前 記凹刻印刷パターン内に配置する工程を有することを特徴とする彫刻方法。 ２６． 請求項１４記載の彫刻方法において、 前記凹刻印刷データソースファイルを所定の長さに拡張する工程をさらに有す ることを特徴とする彫刻方法。 ２７． 請求項１４記載の彫刻方法において、 前記凹刻印刷パターン彫刻信号生成工程が、前記彫刻ヘッドを駆動するために 、連続的であるとともにパルス幅が変調された信号を生成する工程を有している ことを特徴とする彫刻方法。 ２８． 請求項１４記載の彫刻方法において、 複数の凹刻印刷トレンチから構成される連続的な凹刻印刷キャラクタを彫刻す る工程を有することを特徴とする彫刻方法。 ２９． 請求項２８記載の彫刻方法において、 複数の前記凹刻印刷トレンチのなかの少なくとも１つのトレンチが、通常のＵ 字型の断面を有することを特徴とする彫刻方法。 ３０． 請求項１４記載の彫刻方法において、 前記彫刻工程が、平坦な切削面を有するスタイラスを使用する工程を有するこ とを特徴とする彫刻方法。 ３１． 請求項１４記載の彫刻方法において、 前記彫刻工程が、５度以上の逃げ角を有するスタイラスを使用する工程を有す ることを特徴とする彫刻方法。 ３２． 請求項１４記載の彫刻方法において、 前記彫刻工程が、１０度から２０度の範囲の逃げ角を有するスタイラスを使用 する工程を有することを特徴とする彫刻方法。 ３３． 印刷機で使用されるシリンダ上に凹刻印刷パターンを彫刻する方法であ って、 彫刻装置上にシリンダを回転可能に設置する工程と、 前記シリンダが回転する間において、前記シリンダ上に凹刻印刷パターンを彫 刻する工程とを有することを特徴とする彫刻方法。 ３４． 請求項３３記載の彫刻方法において、 前記彫刻工程は、通常のＵ字型の断面を有する実質的に連続なトレンチを彫刻 する工程を有することを特徴とする彫刻方法。 ３５． 請求項３３記載の彫刻方法において、 前記凹刻印刷パターンに対応する凹刻印刷パターン彫刻信号を生成する工程と 、 前記凹刻印刷パターン彫刻信号に基づいて彫刻ヘッドを駆動する工程とをさら に有することを特徴とする彫刻方法。 ３６． 請求項３５記載の彫刻方法において、 約200マイクロ秒未満の応答時間を有する彫刻ヘッドを使用して前記凹刻印刷 パターンを彫刻する工程を有することを特徴とする彫刻方法。 ３７． 請求項３３記載の彫刻方法において、 複数の凹刻印刷トレンチから構成される凹刻印刷キャラクタを彫刻する工程を 有することを特徴とする彫刻方法。 ３８． 請求項３５記載の彫刻方法において、 前記凹刻印刷パターン彫刻信号は、パルス幅変調されていることを特徴とする 彫刻方法。 ３９． 請求項３３記載の彫刻方法において、 前記彫刻装置が、スタイラスを備えた彫刻ヘッドを有して構成され、 前記彫刻工程が、実質的に平坦な切削エッジを備えたスタイラスを使用する工 程を有することを特徴とする彫刻ヘッド。 ４０． 請求項３３記載の彫刻方法において、 前記シリンダ上に輪転グラビアパターンを彫刻する工程を有することを特徴と する彫刻ヘッド。 ４１． 凹刻印刷パターンが彫刻されたシリンダを用いて凹刻印刷パターンを印 刷する方法であって、 印刷機に、凹刻印刷パターンが彫刻されたシリンダを回転可能に設置する工程 と、 ウェブ材料を印刷機を通して供給する工程と、 ウェブ材料が印刷機を通して供給される際に、ウェブ材料上に凹刻印刷パター ンを印刷する工程とを有することを特徴とする印刷方法。 ４２． 請求項４１記載の印刷方法において、 シリンダが回転される間に凹刻印刷パターンが彫刻されたシリンダを使用する 工程をさらに有することを特徴とする印刷方法。 ４３． 請求項４１記載の印刷方法において、 前記印刷機は、少なくとも１つのドクターブレードを有して構成され、 前記シリンダ上に彫刻される前記凹刻印刷パターン内に１つあるいは複数のド クターブレード支持部を配置する工程を有することを特徴とする印刷方法。 ４４． シリンダ上に凹刻印刷パターンを彫刻するために、彫刻装置を改善する 方法であって、 前記凹刻印刷パターンを彫刻するのに適した応答時間を有する彫刻ヘッドを用 意する工程と、 前記凹刻印刷パターンに基づいて凹刻印刷パターン彫刻信号を生成する工程と 、 前記凹刻印刷パターン彫刻信号に応じて前記彫刻ヘッドを駆動し、これにより 、前記凹刻印刷パターンを彫刻する工程とを有することを特徴とする改善方法。 ４５． 請求項４４記載の改善方法において、 前記凹刻印刷パターン彫刻信号が、パルス幅を変調された波形を有しているこ とを特徴とする改善方法。 ４６． 請求項４４記載の改善方法において、 前記凹刻印刷トレンチが、通常のＵ字型の断面を有することを特徴とする改善 方法。 ４７． 請求項４４記載の改善方法において、 前記彫刻ヘッドを用意する工程が、前記彫刻ヘッドを約200マイクロ秒のオー ダーの応答時間を有するように改善する工程を有することを特徴とする改善方法 。 ４８． 請求項４７記載の改善方法において、 前記応答時間が200マイクロ秒未満であることを特徴とする改善方法。 ４９． 請求項４４記載の改善方法において、 前記彫刻ヘッド駆動工程が、前記凹刻印刷パターンを螺旋状に彫刻する工程を 有することを特徴とする改善方法。 ５０． 請求項４４記載の改善方法において、 前記凹刻印刷パターン彫刻信号発生工程は、前記凹刻印刷パターン内に少なく とも１つのインキ流れコントローラを彫刻するように前記彫刻ヘッドを駆動する のに適した凹刻印刷パターン彫刻信号を生成する工程を有することを特徴とする 改善方法。 ５１． 請求項４４記載の改善方法において、 前記凹刻印刷パターン彫刻信号発生工程は、前記凹刻印刷パターンに対応する 少なくとも１組の画素データ集合を生成する工程と、 前記画素データ集合を分析し、この分析に応じてインキ制御領域を設定する工 程と、 前記インキ制御領域内に少なくとも１つのインキ流れコントローラを配置する 工程とを有することを特徴とする改善方法。 ５２． 請求項４４記載の改善方法において、 前記凹刻印刷パターン彫刻信号発生工程は、前記凹刻印刷パターン彫刻信号を 、少なくとも部分的に拡張することを特徴とする改善方法。 ５３． 請求項５２記載の改善方法において、 乗数を選択する工程と、 前記凹刻印刷パターン彫刻信号の生成を容易とするために、画像データセット のソースファイルに対して選択された乗数を適用する工程とを有することを特徴 とする改善方法。 ５４． 凹刻印刷パターンを印刷するためのシリンダを彫刻する彫刻装置であっ て、 シリンダを回転駆動する駆動手段と、 前記駆動手段に接続され、前記彫刻装置の動作を制御するとともに、前記凹刻 印刷パターンに対応する凹刻印刷パターン彫刻信号を生成する制御手段と、 前記制御手段に接続され、前記シリンダが回転する間において前記凹刻印刷パ ターン彫刻信号に応じて前記シリンダ上に前記凹刻印刷パターンを彫刻する彫刻 手段とを有する彫刻装置。 ５５． 請求項５４記載の彫刻装置において、 前記彫刻手段が、彫刻スタイラスを備えた彫刻ヘッドを有して構成され、 前記彫刻ヘッドが、約200マイクロ秒の応答時間を有することを特徴とする彫 刻装置。 ５６． 請求項５５記載の彫刻装置において、 前記応答時間が、200マイクロ秒未満であることを特徴とする彫刻装置。 ５７． 請求項５４記載の彫刻装置において、 前記制御手段が、前記凹刻印刷パターンが彫刻される際に、前記凹刻印刷パタ ーンが少なくとも１つのインキ流れコントローラを有するように、前記凹刻印刷 パターン彫刻信号を修正するインキ流れコントローラ発生部を有して構成されて いることを特徴とする彫刻装置。 ５８． 請求項５７記載の彫刻装置において、 前記インキ流れコントローラが、前記凹刻印刷パターン内に配置される彫刻さ れない領域を有して構成されていることを特徴とする彫刻装置。 ５９． 請求項５７記載の彫刻装置において、 前記インキ流れコントローラが、最大彫刻深さ未満の深さの彫刻領域を有して 構成されていることを特徴とする彫刻装置。 ６０． 請求項５９記載の彫刻装置において、 前記最大彫刻深さが、約５０ミクロン未満の値をとることを特徴とする彫刻装 置。 ６１． 請求項５７記載の彫刻装置において、 前記凹刻印刷彫刻データが、第１の画素データ、第２の画素データ、および第 ３の画素データを有して構成され、 前記インキ流れコントローラ発生部が、前記第１の画素データ、第２の画素デ ータ、および第３の画素データを評価するとともに、前記第１の画素データ、第 ２の画素データ、および第３の画素データがブラックである場合に、前記インキ 流れコントローラを生成する評価部を有して構成されていることを特徴とする彫 刻装置。 ６２． 請求項５４記載の彫刻装置において、 前記制御手段が、修正された凹刻印刷データソースファイルを生成するために 、前記凹刻印刷データソースファイルを修正する拡張手段を有して構成されてい ることを特徴とする彫刻装置。 ６３． 請求項６２記載の彫刻装置において、 前記彫刻装置が、前記修正された凹刻印刷データソースファイルに対応した彫 刻信号を生成するための生成部を有して構成されていることを特徴とする彫刻装 置。 ６４． 請求項５４記載の彫刻装置において、 前記凹刻印刷パターン彫刻信号が、パルス幅変調されていることを特徴とする 彫刻装置。 ６５． 請求項５４記載の彫刻装置において、 前記彫刻装置が、Ｕ字型の先端部を有するスタイラスを備えた彫刻ヘッドを有 して構成されていることを特徴とする彫刻装置。 ６６． 請求項６５記載の彫刻装置において、 前記スタイラスが、５度以上の逃げ角を有することを特徴とする彫刻装置。 ６７． 請求項５４記載の彫刻装置において、 前記彫刻装置により、前記シリンダ上に前記凹刻印刷パターンが螺旋状に彫刻 されることを特徴とする彫刻装置。