JP2006224574A - ゴム印字体の刻印形状 - Google Patents

Abstract

【課題】 インクの滲みが少なく、連続捺印した場合にもかすれがなく、更に使用寿命をより向上させたゴム印字体の刻印形状を提供する。
【解決手段】 多孔質の材料によって形成されたゴム印字体の刻印形状であって、印判基底部１と、前記印判基底部１の上面に形成された、断面形状が台形形状であって、側面が傾斜面に形成された印面保持部４と、前記印面保持部４の上面に形成された、断面形状が台形形状であって、側面が傾斜面に形成された印面形成部２と、前記印面形成部２の上面に形成された印面部３とからなり、前記印面部３の幅ａより、前記印面形成部２の底面部の幅ｅが大きく、かつ前記印面形成部２の底面部の幅ｅより、印面保持部４の上面部の幅ｇが大きく、更に前記印面保持部４の上面部の幅ｇより、印面保持部４の底面部の幅ｆが大きく形成されている。
【選択図】 図２

Description

本発明は、ゴム印字体の刻印形状に関し、捺印ムラが少なく、耐久性を有するゴム印字体の刻印形状に関する。

従来から、図３に示すような多孔質のゴム印字体２０にインキを浸透させた浸透印Ａが広く用いられている。この浸透印Ａにあっては、使用者が捺印の際、ゴム印字体２０を加圧圧縮させることにより、多孔質のゴム印字体２０に含有されているインキが押し出され、所定の紋様（図３にあっては「田」）が捺印されるように構成されている。このような浸透印Ａのゴム印字体２０の刻印形状を、図４に示す。尚、この図４に示した刻印形状は図３に示したＩＩＩ−ＩＩＩ断面形状である。
図４において、符号２１は印判基底部であって、前記印判基底部２１の上面には、断面形状が矩形形状に形成された印面形成部２２が形成され、その印面形成部２２の上面に印面部２３が形成される。そして、印面形成部２２を印判基底部２１に対して所定の形状に形成することにより、印面部２３は所定の紋様に形成される。
そして、このゴム印字体２０を加圧圧縮することにより、印面部２３によって形成された紋様を、紙面等に捺印することができる。

また、本願出願人は、特開平６−２３４２６２号公報において新たな刻印形状を提案している。この刻印形状を図５に示すと共に、図に基づいて説明する。
図５に示すように、印判基底部２１の上面に断面形状が台形の印面台形部２４が形成され、その印面台形部２４の上面に印面形成部２２が形成されている。このように、印面形成部２２を印面台形部２４で保持しているため、連続捺印を行なった際、印判基底部２１からのインクの追従性が良く、捺印のかすれを抑制できる。

更に、特開平３−３５８９０号公報には、印判基底部２１と、前記印判基底部２１の上面に形成された断面形状が矩形形状の印面保持部２５と、前記印面保持部２４の上面に形成された断面形状が矩形形状の印面形成部２２と、前記印面形成部２２の上面に形成された印面部２３とからなる刻印形状が示されている。この刻印形状の場合も、印面保持部２５が形成されているため、連続捺印を行なった際、印判基底部２１からのインクの追従性が良く、捺印のかすれを抑制できる。
特開平６−２３４２６２号公報 特開平３−３５８９０号公報

ところで、図４に示したゴム印字体２０の刻印形状の場合、その断面形状が縦に長い矩形形状であるため、ゴム印字体２０を加圧すると印面形成部が大きく変形し、その結果、印面形成部から印面部に対してインキが多量に供給されるため、インクの滲みが大きいという問題があった。また連続捺印を行なうと印判基底部からのインクの追従性が悪く、捺印のかすれが生じるという課題があった。更に、印面形成部の変形量が大きいために、印面形成部が破損し易く、使用寿命が短いという課題があった。
これに対して、図５に示した刻印形状は印面形成部２２を印面台形部２４で保持しているため、連続捺印を行なった際、印判基底部２４からのインクの追従性が良く、捺印のかすれを抑制できる。
しかしながら、この刻印形状であっても、印面形成部２２の変形が大きいため、図４に示した刻印形状の場合と同様にインクの滲みが大きく、また印面形成部２２が破損し易く、使用寿命が短いという課題があった。

また、図６に示した刻印形状も、図５に示した刻印形状と同様に、印面保持部２５が形成されているため、連続捺印を行なった際、印判基底部２１からのインクの追従性が良く、捺印のかすれを抑制できる。
しかしながら、図４、５に示した刻印形状と同様に、印面形成部２２の変形が大きいため、インクの滲みが大きく、また印面形成部２２が破損し易く、使用寿命が短いという課題があった。

本願発明者らは上記課題を解決するため、ゴム印字体の刻印形状の研究開発を行なった。その結果、捺印をかすれることなく行なうことには、図５、図６に示した刻印形状が好ましく、また印面形成部の破損を抑制し、使用寿命が長くする点から図６に示す刻印形状がより好ましいことが判明した。
そこで、本願発明者らは、刻印形状の基本形状を図６に示した凸形状とし、更に、インクの滲みが少なく、連続捺印した場合にもかすれがなく、更に使用寿命をより向上させたゴム印字体の刻印形状の研究を行なった。
その結果、前記刻印形状が特定の断面形状、特定の寸法形状のときに、インクの滲みが少なく、連続捺印した場合にもかすれがなく、使用寿命がより長くなることを知見し、本願発明を完成するに至った。

本発明は、上記技術的課題を解決するためになされたものであり、インクの滲みが少なく、連続捺印した場合にもかすれがなく、更に使用寿命をより向上させたゴム印字体の刻印形状を提供することを目的とするものである。

上記目的を達成するためになされた本発明にかかるゴム印字体の刻印形状は、多孔質の材料によって形成されたゴム印字体の刻印形状であって、印判基底部と、前記印判基底部の上面に形成された、断面形状が台形形状であって、側面が傾斜面に形成された印面保持部と、前記印面保持部の上面に形成された、断面形状が台形形状であって、側面が傾斜面に形成された印面形成部と、前記印面形成部の上面に形成された印面部とからなり、前記印面部の幅より、前記印面形成部の底面部の幅が大きく、かつ前記印面形成部の底面部の幅より、印面保持部の上面部の幅が大きく、更に前記印面保持部の上面部の幅より、印面保持部の底面部の幅が大きく形成されたことを特徴としている。

このように、印面形成部の断面形状が台形形状に形成されているため、断面形状が矩形形状の場合よりも変形が抑制され、印面形成部から印面部に対してインキが過渡に供給されることがなく、インクの滲みを抑制できる。
また、印面形成部の側面が傾斜面になされ、変形が抑制されるため、印面形成部が破損し難く、耐久性を向上させることができる。
更に、印面保持部の上面部の幅を印面形成部の底面部の幅より大きく形成すると共に、前記印面保持部の上面部の幅より、印面保持部の底面部の幅が大きく形成されているため、連続捺印した場合にも、インキを印判基底部から前記印面保持部を介して印面形成部に好適に供給でき、捺印のかすれを抑制できる。

ここで、前記印面形成部の底面部の幅は、印面部の幅の１．５倍乃至２．５倍に形成され、前記印面形成部の高さは、印面部の幅の２倍乃至５倍に形成されかつ前記底面部の幅と同じかまたは大きな寸法に形成されていることが望ましい。
このように、印面形成部の底面部の幅を印面部の幅の１．５倍乃至２．５倍に形成し、前記印面形成部の高さを印面部の幅の２倍乃至５倍に形成されかつ前記底面部の幅と同じかまたは大きな寸法で形成したため、印面形成部が倒れこみ等の異常変形を起すことなく変形し、しかもその変形が小さいために、インクの滲みが小さく、また印面形成部が破損し難く、耐久性が向上する。
なお、前記印面形成部の底面部の幅が、印面部の幅の１倍未満の場合には台形形状にならず、機械的強度が弱く、異常変形、インクの滲み、印面形成部の破損等の虞がある。また前記印面形成部の底面部の幅が、印面部の幅の２．５倍を超える場合には、印面形成部が僅かに変形した場合にも、捺印された印面の紋様が太くなるため好ましくない。

具体的には、前記印面保持部の上面の幅は、前記印面形成部の底面部幅よりも大きく、かつ印面部の幅の２倍乃至３倍に形成され、かつ前記印面保持部の高さは、前記印面形成面の高さと同じかまたは低く、かつ印面部の幅の２倍乃至５倍に形成されていることが望ましい。
また、ゴム印字体は、ゴム硬度は２０〜３５°、かつ全体積中における空隙率は４０〜６０％の多孔質ゴムにより形成されていることが望ましい。

以上のように本発明にかかるゴム印字体の刻印形状によれば、インクの滲みが少なく、連続捺印した場合にもかすれがなく、更に使用寿命をより向上させることができる。

本発明の一実施形態を図１及び図２に基づいて説明する。尚、図１は、本発明にかかる多孔質のゴム印字体にインキを浸透させた浸透印を示す斜視図である。また、図２は図１に示したＩ−Ｉ断面図であり、ゴム印字体の刻印形状を示す図である。
この浸透印Ａにあっては、使用者が捺印の際、ゴム印字体１０を加圧圧縮させることにより、多孔質のゴム印字体１０に含有されているインキが押し出され、所定の紋様（図１にあっては「田」）が捺印されるように構成されている。このような浸透印Ａのゴム印字体１０の刻印形状（断面形状）は、図２に示す形状に形成されている。

即ち、このゴム印字体の刻印形状は、印判基底部１と、前記印判基底部１の上面に形成された、断面形状が台形形状であって、側面４ａが傾斜面に形成された印面保持部４と、前記印面保持部４の上面に形成された、断面形状が台形形状であって、側面２ａが傾斜面に形成された印面形成部２と、前記印面形成部２の上面に形成された印面部３とから構成されている。
そして、前記印面部３の幅ａより、前記印面形成部２の底面部の幅ｅが大きく、かつ前記印面形成部２の底面部の幅ｅより、印面保持部４の上面部の幅ｇが大きく、更に前記印面保持部４の上面部の幅ｇより、印面保持部３の底面部の幅ｆが大きく形成されている。

また、前記印面形成部２の底面部の幅ｅは、印面部３の幅ａの１．５倍乃至２倍に形成されている。また、前記印面形成部２の高さｂは、印面部３の幅の２倍乃至５倍に形成され、前記底面部の幅ｅと同じか又は大きな寸法に形成されている。
したがって、前記印面形成部２はその断面形状が横長の台形形状に形成されるため、断面形状が矩形形状の場合よりも変形が抑制され、インクの滲みが抑制される。また、印面形成部２の側面２ａが傾斜面になされているため、印面形成部２は破損し難く、耐久性を向上させることができる。

なお、前記印面形成部２の底面部の幅ｅが、印面部３の幅ａの１倍未満の場合には台形形状にならず、機械的強度が弱く、異常変形、インクの滲み、印面形成部２の破損等の虞がある。また前記印面形成部２の底面部の幅ｅが、印面部３の幅ａの２．５倍を超える場合には、印面形成部２がわずかに変形した際にも、捺印した紋様が太くなるという問題が生じる。
また、また、前記印面形成部２の高さｂが、印面部３の幅の５倍を超える寸法に形成されている場合には、印面形成部２の倒れこみ等の異常変形、破損等の原因になる。一方、前記印面形成部２の高さｂが、印面部３の幅の２倍未満の寸法に形成されている場合には、捺印した紋様が太くなるという問題が生じる。

また、印面保持部４の上面部の幅ｇは、印面形成部２の底面部の幅ｅより大きく，かつ印面部３の幅ａの２倍乃至３倍に形成される。また前記印面保持部４の上面部の幅ｇより、印面保持部の底面部の幅ｆが大きく形成されている。
したがって、印面保持部４は、印面形成部２の底面を覆うように形成されているため、連続捺印した場合にも、印判基底部１から前記印面保持部４を介して，インキを印面形成部２に好適に供給でき、捺印のかすれを抑制できる。

また、前記印面保持部４の高さｃは、前記印面形成面２の高さｂと同じか又は低く、かつ印面部３の幅ａの２倍乃至５倍に形成されていることが望ましい。
このように、前記印面保持部４の高さｃが前記印面形成面２の高さｂよりも低く形成されているため、印面保持部４が屈曲することなく、印面形成面２を安定して保持することができる。

更に、具体的に数値の一例を挙げれば、印面部の幅ａを１とすると、印面形成面２の高さｂは、２倍〜５倍、印面保持部４の高さｃは２倍〜５倍、印判基底部厚さｄは、５倍〜８倍、印面形成部２の底面部の幅ｅは、１．５倍〜２．５倍、印面保持部４の底面部の幅ｆは、４倍〜８倍、印面形成部２の上面部の幅ｇは、２倍〜３倍となる。
そして、夫々の関係は、
３ａ≦ｂ、ｂ≧ｃ、ｂ＋ｃ≧ｄ、ａ＜ｅ＜ｆ、ｂ≧ｅ
を満たすように設定される。

また、ゴム印字体の材料としては、多孔質ゴムであれば特に限定させるものではないが、シリコンゴム等の多孔質ゴム等を好適に用いることができる。また、ゴム硬度が２０〜３５°のものが好適に用いられる。また、全体積中における空隙率が４０〜６０％のものが好適に用いられる。

本発明にかかるゴム印字体の刻印形状は、従来から行なわれているレーザー加工法によって形成することができる。
即ち、まず、印字パターンの原稿を作製し、つぎにこのデーター処理し、そのデーターに基づきゴム印材（ゴム印字体）に直接レーザー光を照射してパターンを彫刻する。所定のゴム印材幅（ｂ＋ｃ＋ｄ）に加工されたゴム印材を平面に静置し、平面に沿って前記レーザー光を走査し、図２に示した刻印形状を形成する。操作はコンピュータにより行われる。通常レーザー光は炭酸ガスレーザーが使用され、強度は２５〜６０Ｗ、スポットの平均径は０．０７ｍｍ〜０．３ｍｍである。

なお、本発明にかかる印面部３はレーザー光が照射されず未加工である。そのため表面が素材そのまま安定している。インキを含有する多孔質ゴム製の浸透印はその素材の特性を生かした加工ができ、後のインキ流出量を制御し易いという大きな利点がある。

多孔質のゴム印字体として、メチルビニルシリコンゴム（平均ゴム硬度２５°、平均ポーラス径１５μ、平均気孔率６０％）のものを使用し、レーザー加工により、図４に示す刻印形状（比較例１）、図５に示す刻印形状（比較例２）、図２に示す刻印形状（実施例）の３つの印面形状を彫刻し、等荷重、等間隔で捺印できる機械捺印機にて１０００回機械捺印を行い、インク消費曲線より、断面形状の相違による効果を確認した。前記捺印は連続１００回行い、１００回毎にインキの消費量の平均値を求めた。したがって、インキ量測定のため、１００回目と１０１回目との間には捺印の小休止する時間が存在する。
なお、実施例、比較例１について、各例、４つのサンプルを用い、１回目、１００回目、１０１回目、２００回目、２０１回目、…１０００回目の捺印状態を確認した。

図７に示すように、インク消費量の点からは実施例、比較例２がインキ消費量が少なく、好ましいことが確認された。
また図８に比較例１の捺印状態を示すが、サンプルＮｏ．１〜４に示すように、第１回捺印においていずれの印影も滲みが認められた。その後、連続機械捺印を行うと、印面形成面の先端部は、捺印時、荷重により圧縮され、荷重解放後、伸び、基底部よりポンピング作用と毛細管現象により、インクを導くがインクの供給が追いつかず、印影が薄くなる。
しかしながら、小休止させた１０１回目，２０１回目，３０１回目…では、印影の濃度が再び濃くなり、滲むことが判明した。

また、図９に実施例の捺印状態を示すが、初期捺印の滲みと連続捺印及び小休止後の印影の濃淡差解消と滲みを解消することが確認できた。
これは、初期捺印時の荷重に対して印面形成部が大きく変形し、同様に印面保持部も変形し、荷重が分散された結果と推察される。また、連続捺印時には、印面形成部が圧縮され、その後、伸びる過程で印面保持部よりポンピング作用と毛細管現象により、インクが供給され、印面保持部部には、基底部よりポンピングと毛細管現象により、インク供給が行われ、その結果、常に、濃淡差の無い綺麗な印影が確保されるものと推察される。

本発明にかかるゴム印字体の刻印形状は、浸透印に好適に用いることができる。

図１は、本発明にかかる一実施形態を示す図であって、多孔質のゴム印字体にインキを浸透させた浸透印を示す斜視図である。 図２は図１に示したＩ−Ｉ断面図であり、ゴム印字体の刻印形状を示す図である。 図３は従来の浸透印を示す斜視図である。 図４は従来のゴム印字体の刻印形状の一例を示すＩＩＩ−ＩＩＩ断面図である。 図５は従来のゴム印字体の刻印形状の一例を示す断面図である。 図６は従来のゴム印字体の刻印形状の一例を示す断面図である。 連続捺印におけるインキの消費量を求めたグラフである。 比較例１の捺印状態を示す図である。 実施例の捺印状態を示す図である。

符号の説明

１ 印判基底部
２ 印面形成部
３ 印面部
４ 印面保持部
１０ ゴム印字体
Ａ 浸透印
ａ 印面部の幅
ｂ 印面形成面の高さ
ｃ 印面保持部の高さ
ｄ 印判基底部厚さ
ｅ 印面形成部の底面部の幅
ｆ 印面保持部の底面部の幅
ｇ 印面形成部の上面部の幅

Claims (4)

1. 多孔質の材料によって形成されたゴム印字体の刻印形状であって、
   印判基底部と、前記印判基底部の上面に形成された、断面形状が台形形状であって、側面が傾斜面に形成された印面保持部と、前記印面保持部の上面に形成された、断面形状が台形形状であって、側面が傾斜面に形成された印面形成部と、前記印面形成部の上面に形成された印面部とからなり、
   前記印面部の幅より、前記印面形成部の底面部の幅が大きく、かつ前記印面形成部の底面部の幅より、印面保持部の上面部の幅が大きく、更に前記印面保持部の上面部の幅より、印面保持部の底面部の幅が大きく形成されたことを特徴とするゴム印字体の刻印形状。
2. 前記印面形成部の底面部の幅は、印面部の幅の１．５倍乃至２．５倍に形成され、前記印面形成部の高さは、印面部の幅の２倍乃至５倍に形成されかつ前記底面部の幅と同じかまたは大きな寸法に形成されていることを特徴とする請求項１に記載されたゴム印字体の刻印形状。
3. 前記印面保持部の上面の幅は、前記印面形成部の底面部幅よりも大きく、かつ印面部の幅の２倍乃至３倍に形成され、かつ前記印面保持部の高さは、前記印面形成面の高さと同じかまたは低く、かつ印面部の幅の２倍乃至５倍に形成されていることを特徴とする請求項１または請求項２に記載されたゴム印字体の刻印形状。
4. 前記ゴム印字体は、ゴム硬度が２０〜３５°、かつ全体積中における空隙率が４０〜６０％の多孔質ゴムにより形成されていることを特徴とする請求項１乃至請求項３のいずれかに記載されたゴム印字体の刻印形状。

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