JP4711744B2 - チタン酸バリウム粉末の製法およびチタン酸バリウム粉末 - Google Patents
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日本セラミック協会学術論文誌 98[8]794−800(1990))
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- 金属バリウムおよびチタンアルコキシドのアルコール溶液を、噴霧熱分解を行う反応炉への導入管中に設置したマイクロフィルタを通過させた後に、圧力を大気圧よりも低い圧力とし、温度を1100℃〜1400℃に設定した前記反応炉の雰囲気中に噴霧することを特徴とするチタン酸バリウム粉末の製法。
- 前記金属バリウムと前記チタンアルコキシド中のチタンとのモル比が等しいことを特徴とする請求項1に記載のチタン酸バリウム粉末の製法。
- 前記アルコール溶液中における前記金属バリウムおよび前記チタンアルコキシドの濃度が、0.5モル/L以下であることを特徴とする請求項1または2に記載のチタン酸バリウム粉末の製法。
- 請求項1乃至3のうちいずれかに記載のチタン酸バリウム粉末の製法により得られ、粒度分布において50体積%の粒径であるD50が100nm以下、かつ、90体積%の粒径であるD90とD50との比であるD90/D50が10以下であるとともに、X線回折分析による六方晶であるチタン酸バリウムの最大ピーク強度が、正方晶であるチタン酸バリウムの最大ピーク強度の20%以下であることを特徴とするチタン酸バリウム粉末。
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Citations (8)
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---|---|---|---|---|
JPS62167206A (ja) * | 1986-01-21 | 1987-07-23 | Mitsubishi Chem Ind Ltd | 球状金属酸化物粒子の製造法 |
JPS63237390A (ja) * | 1987-03-26 | 1988-10-03 | 鐘淵化学工業株式会社 | 耐電圧の改良された強誘電体薄膜 |
JPH0737422A (ja) * | 1993-07-22 | 1995-02-07 | Mitsubishi Materials Corp | チタン酸系強誘電体膜形成用組成物と形成法 |
JP2002294311A (ja) * | 2001-03-29 | 2002-10-09 | Toda Kogyo Corp | 金属粒子粉末の製造法 |
JP2003019427A (ja) * | 2001-07-09 | 2003-01-21 | Japan Science & Technology Corp | 噴霧熱分解法による微粒子の製造方法 |
JP2004161533A (ja) * | 2002-11-13 | 2004-06-10 | Toda Kogyo Corp | チタン酸バリウム粒子粉末の製造法 |
JP2005170760A (ja) * | 2003-12-12 | 2005-06-30 | Nisshin Seifun Group Inc | 微粒子及びその製造方法 |
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JPS62167206A (ja) * | 1986-01-21 | 1987-07-23 | Mitsubishi Chem Ind Ltd | 球状金属酸化物粒子の製造法 |
JPS63237390A (ja) * | 1987-03-26 | 1988-10-03 | 鐘淵化学工業株式会社 | 耐電圧の改良された強誘電体薄膜 |
JPH0737422A (ja) * | 1993-07-22 | 1995-02-07 | Mitsubishi Materials Corp | チタン酸系強誘電体膜形成用組成物と形成法 |
JP2002294311A (ja) * | 2001-03-29 | 2002-10-09 | Toda Kogyo Corp | 金属粒子粉末の製造法 |
JP2003019427A (ja) * | 2001-07-09 | 2003-01-21 | Japan Science & Technology Corp | 噴霧熱分解法による微粒子の製造方法 |
JP2004161533A (ja) * | 2002-11-13 | 2004-06-10 | Toda Kogyo Corp | チタン酸バリウム粒子粉末の製造法 |
JP2005170760A (ja) * | 2003-12-12 | 2005-06-30 | Nisshin Seifun Group Inc | 微粒子及びその製造方法 |
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