JP4711634B2 - ダイヤモンドの合成方法と装置並びにダイヤモンド合成用電極とその製造方法 - Google Patents

ダイヤモンドの合成方法と装置並びにダイヤモンド合成用電極とその製造方法 Download PDF

Info

Publication number
JP4711634B2
JP4711634B2 JP2004042760A JP2004042760A JP4711634B2 JP 4711634 B2 JP4711634 B2 JP 4711634B2 JP 2004042760 A JP2004042760 A JP 2004042760A JP 2004042760 A JP2004042760 A JP 2004042760A JP 4711634 B2 JP4711634 B2 JP 4711634B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
carbon
diamond
diamond synthesis
electrode
graphite powder
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP2004042760A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2005231940A (ja
Inventor
喜樹 高木
吉久 須田
修 清水
邦生 山田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Pencil Co Ltd
Original Assignee
Mitsubishi Pencil Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Pencil Co Ltd filed Critical Mitsubishi Pencil Co Ltd
Priority to JP2004042760A priority Critical patent/JP4711634B2/ja
Priority to US11/059,334 priority patent/US20050186344A1/en
Publication of JP2005231940A publication Critical patent/JP2005231940A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4711634B2 publication Critical patent/JP4711634B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/24Vacuum evaporation
    • C23C14/32Vacuum evaporation by explosion; by evaporation and subsequent ionisation of the vapours, e.g. ion-plating
    • C23C14/325Electric arc evaporation
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B82NANOTECHNOLOGY
    • B82YSPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
    • B82Y30/00Nanotechnology for materials or surface science, e.g. nanocomposites
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/06Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
    • C23C14/0605Carbon
    • C23C14/0611Diamond

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Nanotechnology (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Composite Materials (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Carbon And Carbon Compounds (AREA)
  • Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)

Description

本発明はダイヤモンドの合成方法と装置並びにダイヤモンド合成用電極とその製造方法に関し、例えばガラス基板等の非晶質基板上にも合成ダイヤモンド薄膜や、粒状ダイヤモンドを形成する事ができるダイヤモンドの合成に関する。
ダイヤモンドは、優れた耐磨耗性、高硬度、高熱伝導性を有するので、各種の機能性材料として用いられている。例えば、耐磨耗性と高硬度を生かして工作工具、切削工具として利用されている。また、ダイヤモンドの高い熱伝導性を生かしてヒートシンクへ応用され、半導体特性を生かして電子デバイスへ利用される。
基板上に合成ダイヤモンド薄膜を形成する気相合成法が知られている。従来の合成ダイヤモンド薄膜の気相合成法は、反応容器内に原料気体を導入し、同時に反応気体を排出する、いわゆる「フロー系」であった。この方法では合成中における強い気体流が、安定なダイヤモンドの合成を阻害するので、非常にダイヤモンドを形成しやすい基板の上にしか合成ダイヤモンド薄膜を合成できなかった。また従来の合成ダイヤモンド薄膜の合成法により合成ダイヤモンド薄膜を形成可能な基板材料は、シリコン等の半導体、モリブデン、タングステン等の金属、サファイヤ等の単結晶である。従来の方法では、ガラス等の非晶質体やセラミック基板上に合成ダイヤモンド薄膜が形成されない。光学材料として応用範囲が広いガラス基板上にダイヤモンド薄膜が合成できれば、その耐磨耗性により、著しく保護効果に優れた保護膜として機能し、レンズ等の応用範囲が大幅に拡大する。また、高い集積度が求められる液晶表示板等への用途における障害となっている放熱性を、ガラス基板上に材料中で最も熱伝導性に優れた人工ダイヤモンドの被服膜を形成することで解決できる可能性も高い。
本発明は、ガラス等の非晶質基板など各種の材料よりなる基板上に合成ダイヤモンド薄膜を形成することができるダイヤモンドの合成方法及びそのための合成装置並びにダイヤモンド合成用電極とその製造方法を提供することを目的とする。
本発明によれば、1対の電極であって、その少なくとも一方に複合炭素材料を用いたものを互いに近接して配置し、両電極間でスパークさせて、炭素を昇華し堆積させてなるダイヤモンドの合成方法が提供される。
前述の電極間のスパークは、希薄な水素雰囲気内で行われることが望ましい。
本発明によれば、一対の電極であって、その少なくとも一方に複合炭素材料が用いられ互いに近接して配置されたものと、両電極間でスパークさせるための電流を発生する電源とを具備するダイヤモンドの合成装置もまた提供される。
本発明によれば、アモルファス炭素および該アモルファス炭素中に均一に分散した炭素粉末を含むダイヤモンドの合成用電極もまた提供される。
本発明によれば、炭素含有樹脂に炭素粉末を混合し、混合物を炭素化してなるダイヤモンド合成用電極の製造方法もまた提供される。
前述の電極の形状は例えば、円柱状、円錐台状、円柱の先端の所定の長さの部分の径を小さくした二段円柱状、マイナスドライバー形状、板状、コイル状である。
前述の複合炭素材料は例えばアモルファス炭素および該アモルファス炭素中に均一に分散した炭素粉末を含む。
前述の炭素粉末は、好ましくは黒鉛などの非アモルファスまたは結晶性の炭素粉末であり、例えば、カーボンブラック、黒鉛、フラーレン、カーボンナノチューブ、カーボンナノファイバおよびコークスからより成る群より選ばれた少なくとも一種である。
前述の炭素含有樹脂は例えば、三次元架橋を持つ有機樹脂材料や、固相炭化する天然有機材料等であり具体的には、有機高分子物質及び、そのモノマー・オリゴマー類、タール・ピッチ類、乾留ピッチ類、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂の初期重合体類、等の一種または、二種以上の混合物である。
ここで、有機高分子物質としては、後記する熱可塑性樹脂および熱硬化性樹脂以外の物質で、リグニン、セルロース、トラガントガム、アラビアガム、天然ガム及びその誘導体、糖類、キチン、キトサン等のごとき縮合多環芳香族を分子の基本構造内に持つ化合物及び、ナフタレンスルフォン酸のホルマリン縮合物、ジニトロナフタレン、ピレン、ピラントロン、ビオラントロン、ベンゾアントロン等から誘導されるインダンスレン系建染染料及びその中間体である。
熱可塑性樹脂類としては、ポリ塩化ビニル、ポリアクリロニトリル、ポリ塩化ビニリデン、後塩素化ポリ塩化ビニル、ポリ酢酸ビニル、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、エチルセルロース、カルボキシメチルセルロース、ポリ塩化ビニル・酢酸ビニル共重合体、等の通常の熱可塑性樹脂及びポリフェニレンオキサイド、ポリパラキシレン、ポリスルフォン、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリベンツイミダゾール、ポリオキサジアゾール、等が挙げられる。
熱硬化性樹脂としては、フェノール樹脂、フラン樹脂、エポキシ樹脂、キシレン樹脂、コプナ樹脂、等が挙げられる。
次に本発明を実施例により、さらに具体的に説明するが、本発明はこの実施例によって何ら限定されるものではない。
(実施例1)
組成物として、乾留ピッチ(呉羽化学工業製KH−1P)20部、フラン樹脂(日立化成製VF303)55部に、天然黒鉛微粉末(日本黒鉛工業製 平均粒径3μm)25部を分散、混合し、押し出し成形で棒形状に成形し、その後窒素ガス雰囲気中1000℃、さらにアルゴンガス雰囲気中1400℃で焼成し、円柱状及びマイナスドライバー形状の複合炭素材料を得た。
図1に示す如く、密閉された耐熱性ガラス製のチャンバ10内で、電極12として円柱状の複合炭素からなる電極材料、電極14としてマイナスドライバー形状の円柱状の複合炭素材料からなる電極を置く。シリコン基板16を電極の方向と交差する方向に設置する。
チャンバ10内を真空にした後、水素ガスを100Torr導入し、交流50Hz、電流50Aで10秒間通電・スパークさせると、電極の温度が2300〜2500℃となり、基板温度は300〜400℃であり、シリコン基板16上に粒径5μmの粒状物からなる堆積物を得た。
堆積物をSEM(走査型電子顕微鏡)で観察した結果、図2に示す粒状の物質を観察し、ラマン分光により図3に示すようなダイヤモンドに特有のスペクトルが得られ、ダイヤモンドであると同定された。
(実施例2)
組成物として、塩素化塩化ビニル樹脂(日本カーバイト製T−741)50部、天然黒鉛微粉末(日本黒鉛製 平均粒度5μm)50部に対し、可塑材としてジアリルフタレートモノマー20部を添加して、分散、混合し、押し出し成形にて板状及び円錐台状に成形し、その後窒素ガス雰囲気中1000℃、さらに真空中1500℃で焼成し、板状及び円錐台状の炭素系複合材料を得た。
電極に該板状及び円錐台状の炭素系複合材料を用い、あとは実施例1と同様にしてシリコン基板上に堆積物を得た。
堆積物をSEMで観察した結果、図4に示す粒状の物質を観察し、ラマン分光により図5に示すようなダイヤモンドに特有のスペクトルが得られ、ダイヤモンドであると同定された。
比較例
電極に一般的な炭素材料の丸棒状加工品を用い、あとは実施例1と同様にしてシリコン基板上に堆積物を得たが、ラマン分光により図6に示すようなグラファイトに特有のスペクトルが得られ、グラファイトであると同定された。
本発明のダイヤモンド合成装置の概略を示す図である。 実施例1において得られたダイヤモンドのSEMによる写真である。 ダイヤモンドのラマンスペクトルである。 実施例2において得られたダイヤモンドのSEMによる写真である。 ダイヤモンドのラマンスペクトルである。 グラファイトのラマンスペクトルである。

Claims (4)

  1. 水素雰囲気内に、1対の電極であって、その少なくとも一方に複合炭素材料を用いたものを互いに近接して配置し、両電極間でスパークさせて、炭素を昇華し堆積させてなり、
    前記複合炭素材料は炭素含有樹脂に黒鉛粉末を混合し混合物を炭素化して得られ、アモルファス炭素および該アモルファス炭素中に均一に分散した黒鉛粉末を含むダイヤモンドの合成方法。
  2. 1対の電極であって、その少なくとも一方に複合炭素材料が用いられ互いに近接して配置されたものと、両電極間でスパークさせるための電流を発生する電源とを具備し、
    前記複合炭素材料は炭素含有樹脂に黒鉛粉末を混合し混合物を炭素化して得られ、アモルファス炭素および該アモルファス炭素中に均一に分散した黒鉛粉末を含むダイヤモンドの合成装置。
  3. 炭素含有樹脂に黒鉛粉末を混合し混合物を炭素化して得られ、アモルファス炭素および該アモルファス炭素中に均一に分散した黒鉛粉末を含むダイヤモンド合成用電極。
  4. マイナスドライバーの形状である請求項3記載のダイヤモンド合成用電極。
JP2004042760A 2004-02-19 2004-02-19 ダイヤモンドの合成方法と装置並びにダイヤモンド合成用電極とその製造方法 Expired - Fee Related JP4711634B2 (ja)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2004042760A JP4711634B2 (ja) 2004-02-19 2004-02-19 ダイヤモンドの合成方法と装置並びにダイヤモンド合成用電極とその製造方法
US11/059,334 US20050186344A1 (en) 2004-02-19 2005-02-17 Method and apparatus for synthesizing diamond, electrode for diamond synthesis, and method for manufacturing the electrode

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2004042760A JP4711634B2 (ja) 2004-02-19 2004-02-19 ダイヤモンドの合成方法と装置並びにダイヤモンド合成用電極とその製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2005231940A JP2005231940A (ja) 2005-09-02
JP4711634B2 true JP4711634B2 (ja) 2011-06-29

Family

ID=34857987

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2004042760A Expired - Fee Related JP4711634B2 (ja) 2004-02-19 2004-02-19 ダイヤモンドの合成方法と装置並びにダイヤモンド合成用電極とその製造方法

Country Status (2)

Country Link
US (1) US20050186344A1 (ja)
JP (1) JP4711634B2 (ja)

Families Citing this family (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100886943B1 (ko) 2007-08-13 2009-03-09 울산대학교 산학협력단 다이아몬드-금속 복합분말 제조방법
US8647512B2 (en) 2008-06-18 2014-02-11 Board Of Trustees Of The University Of Arkansas Use of magnetic carbon composites from renewable resource materials for oil spill clean up and recovery
US9095837B2 (en) 2008-06-18 2015-08-04 Broad of Trustees of the University of Arkansas Renewable resource-based metal oxide-containing materials and applications of the same
WO2009155417A1 (en) * 2008-06-18 2009-12-23 Board Of Trustees Of The University Of Arkansas Microwave-assisted synthesis of carbon and carbon-metal composites from lignin, tannin and asphalt derivatives and applications of same
US9643165B2 (en) 2008-06-18 2017-05-09 Board Of Trustees Of The University Of Arkansas Doped-carbon composites, synthesizing methods and applications of the same
US8790615B2 (en) * 2008-06-18 2014-07-29 Board Of Trustees Of The University Of Arkansas Methods of synthesizing carbon-magnetite nanocomposites from renewable resource materials and application of same
US8753603B2 (en) * 2008-06-18 2014-06-17 Board Of Trustees Of The University Of Arkansas Microwave-assisted synthesis of carbon nanotubes from tannin, lignin, and derivatives
US8574337B2 (en) 2008-06-18 2013-11-05 Board Of Trustees Of The University Of Arkansas Renewable resource-based metal-containing materials and applications of the same
US8920688B2 (en) * 2008-06-18 2014-12-30 Board Of Trustees Of The University Of Arkansas Microwave-assisted synthesis of transition metal phosphide
US20110171108A1 (en) * 2008-06-18 2011-07-14 Board Of Trustees Of The University Of Arkansas Microwave-assisted synthesis of nanodiamonds from tannin, lignin, asphalt, and derivatives
US20160161991A1 (en) * 2014-12-08 2016-06-09 Rubicon Technology, Inc. Ultra-Thin, Passively Cooled Sapphire Windows
CN106119796A (zh) * 2016-08-03 2016-11-16 广东工业大学 一种非晶金刚石涂层的制备方法
CN110592534A (zh) * 2019-10-12 2019-12-20 九江职业技术学院 一种超纳米金刚石薄膜的制备方法及装置

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4640744A (en) * 1984-01-23 1987-02-03 Standard Oil Company (Indiana) Amorphous carbon electrodes and their use in electrochemical cells
US5110516A (en) * 1989-05-04 1992-05-05 Mitsubishi Pencil Co., Ltd. Process of making a lead wire of hard carbon
US5227038A (en) * 1991-10-04 1993-07-13 William Marsh Rice University Electric arc process for making fullerenes
US5370855A (en) * 1991-11-25 1994-12-06 Gruen; Dieter M. Conversion of fullerenes to diamond
US5858511A (en) * 1997-03-11 1999-01-12 Eaton Corporation Grooved friction material, method of making same, and wet friction member using grooved friction material
US6350520B1 (en) * 1998-08-26 2002-02-26 Reticle, Inc. Consolidated amorphous carbon materials, their manufacture and use

Also Published As

Publication number Publication date
US20050186344A1 (en) 2005-08-25
JP2005231940A (ja) 2005-09-02

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US20050186344A1 (en) Method and apparatus for synthesizing diamond, electrode for diamond synthesis, and method for manufacturing the electrode
Yu et al. Synthesis of boron nitride nanotubes by means of excimer laser ablation at high temperature
TWI485105B (zh) 碳奈米管及其製造方法
US6346023B1 (en) Method of preparing film of carbon nano-tube and film of carbon nano-tube prepared thereby
KR101427818B1 (ko) 열 증착을 이용한 유기나노필름 기반 탄소재료 및 그 제조방법
EP2431325A1 (en) Carbon nanotubes and process for producing same
CN1883807A (zh) 用于制造碳纳米管的催化剂的制备方法
CN1915805A (zh) 碳纳米管阵列制备装置及方法
KR20020024580A (ko) 다층 탄소 나노튜브 막
JP2006015342A (ja) カーボンナノチューブ製造用の触媒ベースの製造方法及びそれを利用したカーボンナノチューブの製造方法
JPH0931757A (ja) グラファイトファイバーの作成方法
JPWO2004106234A1 (ja) 直径のそろった単層カーボンナノチューブの製造方法
JP4817103B2 (ja) 窒化ホウ素ナノチューブの製造方法
TW201420499A (zh) 保形塗覆鑽石奈米晶體或碳化矽的奈米碳管,及其製造方法與使用方法
KR101571404B1 (ko) 다환식 화합물을 이용한 탄소 구조체 및 그 제조방법
CN1707731A (zh) 一种用复合纳米碳膜制备大面积场发射冷阴极的方法
US20240062984A1 (en) Carbon nanotube based cold cathodes for x-ray generation
KR20170046537A (ko) 탄소 복합체 및 이를 포함하는 전기 저장 장치
KR20050095828A (ko) 나노구조물
JP2013216552A (ja) 炭素原子から構成されるフィルムおよびその製造方法
US6902457B2 (en) Electrode for electron gun and electron gun using same
US7641884B2 (en) Method for fabricating carbon nanotubes and carbon nano particles
JP3922572B2 (ja) カーボンナノチューブを製造するためのアーク放電用炭素材料および製造方法
Quinton Aligned Carbon Nanotube Carpets on Carbon Substrates for High Power Electronic Applications
CN1237648A (zh) 一种生长高定向bcn纳米管材料的方法

Legal Events

Date Code Title Description
A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20061116

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20070821

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20071019

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20071204

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20080104

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20080131

A911 Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911

Effective date: 20080409

A912 Re-examination (zenchi) completed and case transferred to appeal board

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A912

Effective date: 20080627

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20110201

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20110322

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees