JP4690483B2 - シリコーン材料が被覆されたブラスチック材料を備える物品の処理方法 - Google Patents
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熱可塑性材料、特にポリアミド又はポリエステルを基材とする物品、例えば織物製品、フィルム又は成形部品型の物品であって、所定の特性、特に不透過性及び/又は耐摩耗性を与えることを目的としてシリコーン材料が被覆されたものが多数存在している。これらの物品は、一般に、シリコーンエラストマーの薄膜を形成させるために架橋性シリコーン組成物を付着させることによって製造されている。
本出願人は、シリコーン材料が被覆された少なくとも1種のプラスチックを備える物品を、アルカリ又はアルカリ土類金属の水酸化物と相間移動触媒とを含む水溶液を使用してリサイクルするための方法であって、上記の欠点を有しないものを開発した。特に、アルカリ又はアルカリ土類金属の水酸化物と相間移動触媒とを組み合わせて使用することで、ポリアミドやポリエステルといったプラスチックの構造を変化させることなく、特にそれらの分子量を低下させることなく、シリコーン材料とプラスチックとを効果的に分離させることが可能になる。
・a)該物品をアルカリ又はアルカリ土類金属の水酸化物と相間移動触媒とを含む水溶液で随意に加熱して処理してシリコーン材料の全て又はいくらかを該水溶液中に溶解又は懸濁し;
・b)該プラスチックを該溶液から分離すること
を含む、前記処理方法に関する。
例1:
ナイロン6,6から作られ、重縮合により架橋されたシリコーン樹脂が被覆されたエアバッグの100g片を1重量%の塩化テトラブチルアンモニウムを含む50重量%NaOH水溶液20gに浸漬させた。60℃の温度で3時間接触させた後、この断片を溶液から取り出した。次いで、このものを水で洗浄し、その後5重量%の酢酸を含む水溶液ですすいだ。次いで、このものを水で当該水のpHが中性になるまで再度洗浄した。
蛍光X線による分析から、処理後の断片の表面にいかなる珪素含有誘導体も存在しないことが分かった。DSCによる観察から、ポリアミドの分子量は処理後でも変化しなかったことが実証できた。
ナイロン6,6から作られ、重縮合/重付加により架橋されたシリコーン樹脂が被覆されたエアバッグの100g片を50重量%のNaOH水溶液20gに浸漬させた。60℃の温度で3時間接触させた後、この断片を溶液から取り出した。次いで、このものを水で洗浄し、その後5重量%の酢酸を含む水溶液ですすいだ。次いで、このものを水で当該水のpHが中性になるまで再度洗浄した。
蛍光X線による分析から、処理後の断片の表面に全ての珪素含有誘導体が存在することが分かった。これらのポリアミド片を再度処理し、そして100℃で24時間にわたり反応させた。蛍光X線による分析から、当該断片の表面に珪素誘導体の大部分が存在することが観察できた。
ナイロン6,6から作られ、重縮合/重付加により架橋されたシリコーン樹脂が被覆されたエアバッグの100g片を0.5重量%の塩化テトラブチルホスホニウムを含む50重量%NaOH水溶液20gに浸漬した。100℃の温度で16時間接触させた後に、この断片を溶液から取り出した。次いで、このものを水で洗浄し、その後5重量%の酢酸を含む水溶液ですすいだ。次いで、このものを水で当該水のpHが中性になるまで再度洗浄した。
蛍光X線による分析から、処理後の断片の表面にいかなる珪素含有誘導体も存在しないことが分かった。DSCによる観察から、ポリアミドの分子量は処理後でも変化しなかったことが実証できた。
ナイロン6,6から作られ、重縮合/重付加により架橋されたシリコーン樹脂が被覆されたエアバッグの100g片を、0.5重量%の塩化トリメチルドデシルホスホニウムを含む50重量%NaOH水溶液20gに浸漬させた。100℃の温度で16時間接触させた後に、この断片を溶液から取り出した。次いで、このものを水で洗浄し、その後5重量%の酢酸を含む水溶液ですすいだ。次いで、このものを水で当該水のpHが中性になるまで再度洗浄した。
蛍光X線による分析から、処理後の断片の表面にいかなる珪素含有誘導体も存在しないことが分かった。DSCによる観察から、ポリアミドの分子量は処理後でも変化しなかったことが実証できた。
Claims (13)
- シリコーン材料が被覆された少なくとも1種のプラスチックを備える物品の処理方法であって、少なくとも次の工程:
・a)該物品をアルカリ又はアルカリ土類金属の水酸化物と相間移動触媒とを含む水溶液で随意に加熱して処理してシリコーン材料の全て又はいくらかを該水溶液中に溶解又は懸濁し;そして
・b)該プラスチックを該溶液から分離すること
を含む、前記処理方法。 - 前記相間移動触媒が、オニウム塩であって、そのオニウムイオンが窒素、燐、砒素、硫黄、セレン、酸素、炭素又は沃素から誘導され、炭化水素系残基に配位したものよりなる群から選択されることを特徴とする、請求項1に記載の方法。
- 前記相間移動触媒がアンモニウム、ホスホニウム、ピリジニウム及び/又はスルホニウムの塩よりなる群から選択される、請求項1又は2に記載の方法。
- 前記相間移動触媒がテトラメチルアンモニウム、トリエチルメチルアンモニウム、トリブチルメチルアンモニウム、トリメチルプロピルアンモニウム、テトラエチルアンモニウム、テトラブチルアンモニウム、テトラメチルホスホニウム、テトラブチルホスホニウム、エチルトリメチルホスホニウム、トリメチルペンチルホスホニウム、オクチルトリメチルホスホニウム、テトラフェニルホスホニウム、セチルトリメチルホスホニウム、セチルトリフェニルホスホニウム、アルキルトリス(ヒドロキシメチル)ホスホニウム、n−ブチルトリフェニルホスホニウム、10〜16個の炭素原子を有する炭化水素系鎖を保持するトリフェニルホスホニウム、N−メチルピリジニウム、N−エチルピリジニウム、トリメチルスルホニウム、トリエチルスルホニウム及びトリフェニルスルホニウムの塩よりなる群から選択されることを特徴とする、請求項1〜3のいずれかに記載の方法。
- 前記アルカリ金属水酸化物がLiOH、NaOH及びKOHよりなる群から選択されることを特徴とする、請求項1〜4のいずれかに記載の方法。
- 前記水溶液がヒドロキシルイオンのモル数に対して0.1〜10モル%の相間移動触媒を含むことを特徴とする、請求項1〜5のいずれかに記載の方法。
- 前記プラスチックが糸、繊維、織物製品、成形部品、押出部品又はフィルムの状態で存在することを特徴とする、請求項1〜6のいずれかに記載の方法。
- 前記プラスチックがポリアミド、ポリエステル及び/又はポリオレフィンを基材とすることを特徴とする、請求項1〜7のいずれかに記載の方法。
- 前記プラスチックが、重付加反応、ヒドロシリル化反応、ラジカル反応又は重縮合反応により室温で又は高温で架橋する多成分、2成分又は1成分ポリオルガノシロキサン処方物から得られるシリコーン材料により被覆されていることを特徴とする、請求項1〜8のいずれかに記載の方法。
- 前記プラスチックが、水分の作用下において、触媒の存在下に重縮合反応により架橋するシリコーン材料により被覆されていることを特徴とする、請求項1〜9のいずれかに記載の方法。
- 工程a)において、反応媒体を20〜100℃の温度に加熱することを特徴とする、請求項1〜10のいずれかに記載の方法。
- 工程b)の後に、前記プラスチックを水で洗浄し及び/又は乾燥させることを特徴とする、請求項1〜11のいずれかに記載の方法。
- 前記プラスチックを酸で洗浄し、随意に水で洗浄し及び/又は乾燥させる追加工程c)を含むことを特徴とする、請求項1〜12のいずれかに記載の方法。
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