JP4689535B2 - 加熱調理器 - Google Patents

加熱調理器

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Description

この発明は、蒸気を用いて被加熱物を加熱する加熱調理器に関する。
従来、過熱蒸気を用いて食品などの被加熱物の加熱調理を行う加熱調理器として、加熱室外で生成された過熱蒸気を上記加熱室内に送り込むものがある。例えば、特開2001‐263666号公報(特許文献1)に開示された過熱蒸気調理器においては、調理部外の蒸気発生部で発生された蒸気を上記調理部内の裏面側を壁で仕切ってなる蒸気加熱室に送り、上記蒸気加熱室内の庫内加熱手段によって加熱して過熱蒸気を生成する。そして、生成された過熱蒸気は、上記蒸気加熱室内の送風手段によって、上記壁に設けられたスリット状の循環吹出口から上記調理部内に吹き出されるようになっている。
尚、上記特許文献1に開示された過熱蒸気調理器では、上記調理部内の裏面側に設けられた蒸気加熱室から、循環吹出口を介して過熱蒸気を上記調理部内に吹き出すようにしているが、被加熱物が加熱される加熱室に対する蒸気加熱室の位置によって、上吹出方式、横吹出し方式、上・横吹出し方式等の吹き出し方式がある。
ところで、上述のようにして加熱室内に吹き出される100℃以上の過熱蒸気を直接被加熱物の表面に供給し、過熱蒸気の凝縮潜熱と、凝縮で発生した100℃の水(湯)の被加熱物への浸透とによって被加熱物を加熱する場合には、上記加熱室内に吹き出される過熱蒸気の温度が、被加熱物の焼き加減に直接影響を及ぼす。そして、その場合、上記蒸気加熱室内において蒸気を加熱するヒータの形状や位置と、過熱蒸気を加熱室内に吹き出す蒸気吹出口の位置との関係が、各蒸気吹出口から吹き出される過熱蒸気の温度に大きな影響を及ぼすことになる。
しかしながら、上記特許文献1に示す従来の過熱蒸気調理器では、上記庫内加熱手段を立設された矩形のシーズヒータで構成している。したがって、過熱蒸気を直接被加熱物の表面に供給するために、上記蒸気加熱室との間を仕切る壁に蒸気吹出口を均一に設けた場合には、上記シーズヒータの位置に設けられた蒸気吹出口から吹き出される過熱蒸気の温度と上記シーズヒータが無い位置に設けられた蒸気吹出口から吹き出される過熱蒸気の温度とに大きな差が生じ、上記被加熱物に焼き斑が生ずるという問題がある。
特開2001‐263666号公報
そこで、この発明の課題は、過熱蒸気生成用ヒータの形状および配置に起因する被加熱物の焼き斑を防止できる加熱調理器を提供することにある。
上記課題を解決するため、この発明の加熱調理器は、
蒸気を発生する蒸気発生装置と、
被加熱物を収容可能な加熱室と、
蒸気供給口が設けられ、上記蒸気発生装置から上記蒸気供給口を介して供給された蒸気をさらに加熱して過熱蒸気にするヒータを有すると共に、上記過熱蒸気を上記加熱室に吹き出す複数の過熱蒸気吹出穴を有する過熱蒸気生成室と
を備え、
上記過熱蒸気生成室における上記過熱蒸気吹出穴の分布密度および穴径の少なくとも一方は、上記過熱蒸気生成室内の温度分布に応じて変化している
加熱調理器において、
上記過熱蒸気生成室内の温度が高い領域に位置する上記過熱蒸気吹出穴の分布密度は、上記過熱蒸気生成室内の温度が低い領域に位置する上記過熱蒸気吹出穴の分布密度よりも疎である
ことを特徴としている。
上記過熱蒸気生成室内に配置された上記ヒータの形状と位置関係とによって、上記過熱蒸気生成室内には温度分布が発生することになる。その場合、上記過熱蒸気生成室における上記過熱蒸気吹出穴を、その分布密度あるいは穴径が均一になるように設けると、上記過熱蒸気生成室内の温度が高い領域に位置する上記過熱蒸気吹出穴から吹き出される過熱蒸気の温度が、他の領域に位置する上記過熱蒸気吹出穴から吹き出される過熱蒸気よりも高いため、上記加熱室内の被加熱物には焼き斑が生ずることになる。上記構成によれば、上記過熱蒸気生成室内の温度が高い領域に位置する上記過熱蒸気吹出穴の分布密度が、上記過熱蒸気生成室内の温度が低い領域に位置する上記過熱蒸気吹出穴の分布密度よりも疎であるため、上記被加熱物の各部に対する上記過熱蒸気による供給熱量の均一化を図ることができる。したがって、上記被加熱物に生ずる焼き斑を防止することができる。
また、この発明の加熱調理器は
蒸気を発生する蒸気発生装置と、
被加熱物を収容可能な加熱室と、
蒸気供給口が設けられ、上記蒸気発生装置から上記蒸気供給口を介して供給された蒸気をさらに加熱して過熱蒸気にするヒータを有すると共に、上記過熱蒸気を上記加熱室に吹き出す複数の過熱蒸気吹出穴を有する過熱蒸気生成室と
を備え、
上記過熱蒸気生成室における上記過熱蒸気吹出穴の分布密度および穴径の少なくとも一方は、上記過熱蒸気生成室内の温度分布に応じて変化している
加熱調理器において、
上記過熱蒸気生成室内の温度が高い領域に位置する上記過熱蒸気吹出穴の穴径は、上記過熱蒸気生成室内の温度が低い領域に位置する上記過熱蒸気吹出穴の穴径よりも小さい
ことを特徴としている
上記構成によれば、上記過熱蒸気生成室内の温度が高い領域に位置する上記過熱蒸気吹出穴の穴径が、上記過熱蒸気生成室内の温度が低い領域に位置する上記過熱蒸気吹出穴の穴径より小さいため、上記被加熱物の各部に対する上記過熱蒸気による供給熱量の均一化を図ることができる。したがって、上記被加熱物に生ずる焼き斑を防止することができる。
また、1実施の形態の加熱調理器では、
上記過熱蒸気生成室内の上記ヒータは、複数の直線部と各直線部を連結する屈曲部とを有しており、
上記過熱蒸気生成室内の温度が高い領域は、上記過熱蒸気生成室の側壁近傍に位置する上記ヒータの上記屈曲部の近傍領域である。
この実施の形態によれば、上記過熱蒸気生成室の側壁近傍に位置する上記ヒータの上記屈曲部の近傍領域から吹き出される過熱蒸気によって生ずる上記被加熱物の焼き斑を防止することができる。
また、1実施の形態の加熱調理器では、
上記過熱蒸気生成室内の上記ヒータは、複数の直線部と各直線部を連結する屈曲部とを有すると共に、上記直線部の1つは、上記過熱蒸気生成室における上記蒸気供給口に対向する側壁の近傍に、この側壁に略平行して配設されており、
上記過熱蒸気生成室内の温度が高い領域は、上記側壁に略平行して配設された上記ヒータの直線部の内側近傍の領域である。
この実施の形態によれば、上記過熱蒸気生成室における上記蒸気供給口に対向する側壁に略平行して配設された上記ヒータの直線部の内側近傍の領域から吹き出される過熱蒸気によって生ずる上記被加熱物の焼き斑を防止することができる。ここで、上記「ヒータの直線部の内側近傍」とは、「ヒータの直線部における上記過熱蒸気生成室の側壁に対向する面とは反対側の面の近傍」のことである。
また、1実施の形態の加熱調理器では、
上記過熱蒸気生成室内の上記ヒータにおける上記直線部の1つは、上記蒸気供給口に対向する側壁の近傍に、この側壁に略平行して配設されており、
上記過熱蒸気生成室内の温度が高い領域は、上記側壁に略平行して配設された上記ヒータの直線部の内側近傍の領域である。
この実施の形態によれば、上記過熱蒸気生成室の側壁近傍に位置する上記ヒータの上記屈曲部の近傍領域から吹き出される過熱蒸気と、上記過熱蒸気生成室における上記蒸気供給口に対向する側壁に略平行して配設された上記ヒータの直線部の内側近傍の領域から吹き出される過熱蒸気と、によって生ずる上記被加熱物の焼き斑を防止することができる。ここで、上記「ヒータの直線部の内側近傍」とは、「ヒータの直線部における上記過熱蒸気生成室の側壁に対向する面とは反対側の面の近傍」のことである。
以上より明らかなように、この発明の加熱調理器は、蒸気発生装置で発生された蒸気をさらに加熱する過熱蒸気生成室内の温度が高い領域に位置する過熱蒸気吹出穴の分布密度を、上記過熱蒸気生成室内の温度が低い領域に位置する上記過熱蒸気吹出穴の分布密度よりも疎にしているので、上記過熱蒸気生成室内に発生する温度分布に拘わらず、加熱室内の被加熱物における各部に対する供給熱量の均一化を図ることができる。したがって、上記ヒータの形状と配置とに起因して上記被加熱物に生ずる焼き斑を防止することが可能になる。
また、この発明の加熱調理器は、上記過熱蒸気生成室内の温度が高い領域に位置する上記過熱蒸気吹出穴の穴径を、上記過熱蒸気生成室内の温度が低い領域に位置する上記過熱蒸気吹出穴の穴径より小さくしているので、上記過熱蒸気生成室内に発生する温度分布に拘わらず、加熱室内の被加熱物における各部に対する供給熱量の均一化を図ることができる。したがって、上記ヒータの形状と配置とに起因して上記被加熱物に生ずる焼き斑を防止することが可能になる。
以下、この発明を図示の実施の形態により詳細に説明する。
図1は、本実施の形態の加熱調理器における外観斜視図である。本加熱調理器1は、直方体形状のキャビネット10の正面の上部に操作パネル11を設け、キャビネット10の正面における操作パネル11の下側には、下端側の辺を中心に回動する扉12を設けて概略構成されている。そして、扉12の上部にはハンドル13が設けられ、扉12には耐熱ガラス製の窓14が嵌め込まれている。
図2は、上記加熱調理器1の扉12を開いた状態の外観斜視図である。キャビネット10内に、直方体形状の加熱室20が設けられている。加熱室20は、扉12に面する正面側に開口部20aを有し、加熱室20の側面,底面および天面がステンレス鋼板で形成されている。また、扉12は、加熱室20に面する側がステンレス鋼板で形成されている。加熱室20の周囲および扉12の内側に断熱材(図示せず)が載置されており、加熱室20内と外部とが断熱されている。
また、上記加熱室20の底面には、ステンレス製の受皿21が設置され、受皿21上には、被加熱物を載置するためのステンレス鋼線製のラック24(図3参照)が設置される。さらに、加熱室20の両側面下部には、略水平に延在する略長方形の側面蒸気吹出口22(図2では一方のみが見えている)が設けられている。
図3は、上記加熱調理器1の基本構成を示す概略構成図である。図3に示すように、本加熱調理器1は、加熱室20と、蒸気用の水を貯める水タンク30と、水タンク30から供給された水を蒸発させて蒸気を発生させる蒸気発生装置40と、蒸気発生装置40からの蒸気を加熱して過熱蒸気を生成する過熱蒸気生成室50と、蒸気発生装置40や過熱蒸気生成室50等の動作を制御する制御装置80とを備えている。
上記加熱室20内に設置された受皿21上には格子状のラック24が載置され、そのラック24の略中央に被加熱物90が置かれる。
また、上記水タンク30の下側に設けられた接続部30aは、第1給水パイプ31の一端に設けられた漏斗形状の受入口31aに接続可能になっている。そして、第1給水パイプ31から分岐して上方に延びる第2給水パイプ32の端部にはポンプ35の吸込側が接続され、そのポンプ35の吐出側には第3給水パイプ33の一端が接続されている。さらに、第1給水パイプ31から分岐して上方に延びる水位センサ用パイプ38の上端には、水タンク用水位センサ36が配設されている。さらに、第1給水パイプ31から分岐して上方に延びる大気開放用パイプ37の上端には、後述する排気ダクト65に接続されている。
そして、上記第3給水パイプ33は、垂直に配置された部分から略水平に屈曲するL字形状をしており、第3給水パイプ33の他端には補助タンク39が接続されている。さらに、補助タンク39の下端には第4給水パイプ34の一端が接続され、その第4給水パイプ34の他端には蒸気発生装置40の下端が接続されている。また、蒸気発生装置40における第4給水パイプ34の接続点よりも下側には、排水バルブ70の一端が接続されている。そして、排水バルブ70の他端には排水パイプ71の一端が接続され、排水パイプ71の他端には排水タンク72が接続されている。尚、補助タンク39の上部は、大気開放用パイプ37と排気ダクト65を介して大気に連通されている。
上記水タンク30が第1給水パイプ31の受入口31aに接続されると、水タンク30内の水は、水タンク30と同水位になるまで大気開放用パイプ37内に上昇する。その際に、水タンク用水位センサ36につながる水位センサ用パイプ38は先端が密閉されているため水位は上がらないが、水タンク30の水位に応じて水位センサ用パイプ38の密閉された空間の圧力は大気圧から上昇する。この圧力変化を、水タンク用水位センサ36内の圧力検出素子(図示せず)で検出することによって、水タンク30内の水位が検出されるようになっている。ポンプ35が静止中である際の水位測定では、大気開放用パイプ37は不要であるが、ポンプ35の吸引圧力が直接上記圧力検出素子に働いて水タンク30の水位検出の精度が低下するのを防止するために、開放端を有する大気開放用パイプ37を設けている。
また、上記蒸気発生装置40は、下側に第4給水パイプ34の他端が接続されたポット41と、ポット41内の底面近傍に配置された蒸気発生ヒータ42と、ポット41内の蒸気発生ヒータ42の上側近傍に配置された水位センサ43と、ポット41の上側に取り付けられた蒸気吸引エジェクタ44とを有している。また、加熱室20の側面上部に設けられた吸込口25の外側には、ファンケーシング26を配置している。そして、ファンケーシング26に設置された送風ファン28によって、加熱室20内の蒸気は、吸込口25から吸い込まれて、第1パイプ61および第2パイプ62を介して蒸気発生装置40の蒸気吸引エジェクタ44の入口側に送り込まれる。第1パイプ61は、略水平に配置されており、一端がファンケーシング26に接続されている。また、第2パイプ62は、略垂直に配置されており、一端が第1パイプ61の他端に接続される一方、他端が蒸気吸引エジェクタ44のインナーノズル45の入口側に接続されている。
上記蒸気吸引エジェクタ44は、インナーノズル45の外側を包み込むアウターノズル46を備えており、インナーノズル45の吐出側がポット41の内部空間と連通するようになっている。そして、蒸気吸引エジェクタ44のアウターノズル46の吐出側には第3パイプ63の一端が接続され、その第3パイプ63の他端には過熱蒸気生成室50が接続されている。
上記ファンケーシング26,第1パイプ61,第2パイプ62,蒸気吸引エジェクタ44,第3パイプ63および過熱蒸気生成室50で外部循環路60を形成している。また、加熱室20の側面の下側に設けられた放出口27には放出通路64の一端が接続され、放出通路64の他端には排気ダクト65の一端が接続されている。さらに、排気ダクト65の他端には排気口66が設けられている。蒸気放出通路64の排気ダクト65側には、ラジエータ69が外嵌して取り付けられている。そして、外部循環路60を形成する第1パイプ61,第2パイプ62との接続部には、排気通路67を介して排気ダクト65が接続されている。さらに、排気通路67における第1,第2パイプ61,62の接続側には、排気通路67を開閉するダンパ68が配置されている。
また、上記過熱蒸気生成室50は、加熱室20の天井側であって且つ略中央に、開口を下側にして配置された皿型ケース51と、この皿型ケース51内に配置された蒸気加熱ヒータ52を有している。皿型ケース51の底面は、加熱室20の天井面に設けられた金属製の天井パネル54で形成されている。天井パネル54には、上記過熱蒸気吹出穴である複数の天井蒸気吹出口55が形成されている。ここで、天井パネル54は、上下両面が塗装等によって暗色に仕上げられている。尚、使用を重ねることにより暗色に変色する金属素材や暗色のセラミック成型品によって、天井パネル54を形成してもよい。
さらに、上記過熱蒸気生成室50には、上記加熱室20の上部に左右両側に向かって延在する蒸気供給通路23(図3においては一方のみが見えている)の一端が夫々接続されている。そして、蒸気供給通路23は加熱室20の両側面に沿って下方向かって延在しており、その他端には、上記加熱室20の両側面下側に設けられた側面蒸気吹出口22に接続されている。
次に、本加熱調理器1の制御系について説明する。
制御装置80は、マイクロコンピュータおよび入出力回路等から構成され、図4に示すように、送風ファン28と、蒸気加熱ヒータ52と、ダンパ68と、排水バルブ70と、蒸気発生ヒータ42と、操作パネル11と、水タンク用水位センサ36と、水位センサ43と、加熱室20(図3に示す)内の温度を検出する温度センサ81と、加熱室20内の湿度を検出する湿度センサ82と、ポンプ35とが、接続されている。そして、水タンク用水位センサ36,水位センサ43,温度センサ81および湿度センサ82からの検出信号に基づいて、送風ファン28,蒸気加熱ヒータ52,ダンパ68,排水バルブ70,蒸気発生ヒータ42,操作パネル11およびポンプ35を所定のプログラムに従って制御する。
以下、上記構成を有する加熱調理器1の基本動作について、図3および図4に従って説明する。操作パネル11の電源スイッチ(図示せず)が押圧されると電源がオンし、操作パネル11の操作によって加熱調理の運転が開始される。そうすると、先ず、制御装置80は、排水バルブ70を閉鎖し、ダンパ68によって排気通路67を閉じた状態でポンプ35の運転を開始する。そして、ポンプ35によって、水タンク30から蒸気発生装置40のポット41内に第1〜第4給水パイプ31〜34を介して給水される。その後、ポット41内の水位が所定水位に達したことを水位センサ43が検出すると、ポンプ35を停止して給水を止める。
次に、上記蒸気発生ヒータ42に通電し、ポット41内に溜まった所定量の水を蒸気発生ヒータ42によって加熱する。
そして、上記蒸気発生ヒータ42の通電と同時に、または、ポット41内の水の温度が所定温度に達すると、送風ファン28をオンすると共に、過熱蒸気生成室50の蒸気加熱ヒータ52に通電する。そうすると、送風ファン28は、加熱室20内の気体(蒸気を含む)を吸込口25から吸い込み、外部循環路60に気体(蒸気を含む)を送り出す。その際に、送風ファン28に遠心ファンを用いているので、プロペラファンを用いる場合に比べて高圧を発生させることができる。さらに、送風ファン28に用いる遠心ファンを直流モータで高速回転させることによって、循環気流の流速を極めて速くすることができる。
次に、上記蒸気発生装置40のポット41内の水が沸騰すると飽和蒸気が発生し、発生した飽和蒸気は、蒸気吸引エジェクタ44の箇所で外部循環路60を通る循環気流に合流する。そして、蒸気吸引エジェクタ44から出た蒸気は、第3パイプ63を介して高速で過熱蒸気生成室50に流入する。
そして、上記過熱蒸気生成室50に流入した蒸気は、蒸気加熱ヒータ52によって加熱されて、略300℃(調理内容により異なる)の過熱蒸気となる。この過熱蒸気の一部は、下側の天井パネル54に設けられた複数の天井蒸気吹出口55から加熱室20内の下方に向かって噴出される。また、過熱蒸気の他の一部は、過熱蒸気生成室50の左右両側に設けられた蒸気供給通路23を介して、加熱室20の両側面の側面蒸気吹出口22から噴出される。
こうして、上記加熱室20の天井側から噴出した過熱蒸気が中央の被加熱物90側に向かって勢いよく供給されると共に、加熱室20の左右の側面側から噴出した過熱蒸気は、受皿21に衝突した後、被加熱物90の下方から被加熱物90を包むように上昇しながら供給される。その結果、加熱室20内において、中央部では吹き下ろし、その外側では上昇するという形の対流が生じる。そして、対流する蒸気は、順次吸込口25に吸い込まれて、外部循環路60を通って再び加熱室20内に戻るという循環を繰り返す。
このようにして、上記加熱室20内で過熱蒸気の対流を形成することによって、加熱室20内の温度・湿度分布を均一に維持しつつ、過熱蒸気生成室50からの過熱蒸気を天井蒸気吹出口55と側面吹出口22とから噴出して、ラック24上に載置された被加熱物90に効率よく衝突させることが可能になり、過熱蒸気の衝突によって被加熱物90が加熱される。その場合、被加熱物90の表面に接触した過熱蒸気は、被加熱物90の表面で結露する際に潜熱を放出することによっても被加熱物90を加熱する。これにより、過熱蒸気の大量の熱を確実に且つ速やかに被加熱物90全面に均等に与えることができる。したがって、斑がなくて仕上がりのよい加熱調理を実現することができるのである。
また、上記加熱調理運転時において、時間が経過すると、加熱室20内の蒸気量が増加し、量的に余剰となった分の蒸気は、放出口27から放出通路64および排気ダクト65を介して排気口66から外部に放出される。その際に、放出通路64に設けたラジエータ69によって放出通路64を通過する蒸気を冷却して結露させることにより、外部に蒸気がそのまま放出されるのを防止している。尚、ラジエータ69によって放出通路64内で結露した水は、放出通路64内を流れ落ちて受皿21に導かれ、調理によって発生した水と共に調理終了後に処理される。
調理終了後、上記制御装置80によって操作パネル11に調理終了のメッセージが表示され、さらに操作パネル11に設けられたブザー(図示せず)によって合図の音を鳴らす。これらのメッセージやブザーによって調理終了を知った使用者が扉12を開けると、制御装置80は、センサ(図示せず)によって扉12が開いたことを検知して、排気通路67のダンパ68を瞬時に開く。そうすると、外部循環路60の第1パイプ61が排気通路67を介して排気ダクト65に連通し、加熱室20内の蒸気は、送風ファン28によって、吸込口25,第1パイプ61,排気通路67および排気ダクト65を介して排気口66から排出される。このダンパ動作は、調理中に使用者が扉12を開いても同様に機能する。したがって、使用者は、蒸気にさらされることなく、安全に被加熱物90を加熱室20内から取り出すことができるのである。
以下、この実施の形態の特徴である上記過熱蒸気生成室50について、図5に従ってさらに詳細に説明する。図5は過熱蒸気生成室50を下側から見た平面図である。過熱蒸気生成室50は、平面形状が略矩形の凹部51aを有する皿形ケース51内に、大電力(1000W)の大管径のシーズヒータである蒸気加熱ヒータ52を配置している。そして、皿形ケース51の凹部51aの開口は、加熱室20の天井面に設けられた金属製の天井パネル54(図3に示す)に連なる蓋部材54aで覆われている。したがって、本来は、皿形ケース51の内部は蓋部材54aによって見えないのであるが、図5においては、説明の都合上、蓋部材54aは透明であって、皿形ケース51の内部が見えるように表現されている。
上記皿形ケース51の凹部51aにおける側壁91には蒸気供給口92A,92B,92Cが設けられており、蒸気供給口92A,92B,92Cには蒸気供給管93A,93B,93Cが接続されている。尚、皿形ケース51において、蒸気供給管93A,93B,93Cが接続された側壁91側(図5の下側)が本蒸気調理器1の背面側であり、側壁91に対向する側壁94側(図5の上側)が前面側(扉12側)である。また、側壁91に隣接する2つの側壁95,96の夫々には、所定の間隔をあけて4つの蒸気吹出口(図示せず)を設けている。この蒸気吹出口には、図3に示す蒸気供給通路23が接続されている。また、蒸気供給管93A,93B,93Cの入口側に、図3に示す第3パイプ63を介して蒸気発生装置40における蒸気吸引エジェクタ44の吐出側を接続している。
また、上記蒸気加熱ヒータ52は、蒸気供給口92A,92B,92Cから流入する蒸気の流れの中心線Lに対して略線対称な平面形状であって、上記中心線Lに略平行に所定の間隔をあけて配置された2箇所の第1,第2非発熱部52b,52cと、その第1,第2非発熱部52b,52cの先端に一端が夫々接続されて凹部51aの中央に向かって湾曲する略U字形状の2箇所の第1,第2発熱部52a-1,52a-2と、その2箇所の第1,第2発熱部52a-1,52a-2の他端間を接続する略コの字形状の第3発熱部52a-3とを有している。そして、蒸気加熱ヒータ52の第1〜第3発熱部52a-1〜52a-3の外周および第1,第2非発熱部52b,52cの一部の外周には、螺旋状の放熱フィン97が設けられている。上記構成を有する蒸気加熱ヒータ52は、第1,第2非発熱部52b,52cを蒸気供給管94A,94Cの外側における側壁91を貫通して固定することによって、皿形ケース51に取り付けられている。
上記蓋部材54aには、天井蒸気吹出口55が設けられて、皿形ケース51内で発生された過熱蒸気の一部が天井蒸気吹出口55から加熱室20内の下方に向かって噴出されるようになっている。
ここで、上述したように、上記蒸気加熱ヒータ52は、屈曲部と直線部とによって構成されている。その場合、蒸気加熱ヒータ52近傍の環境温度は、上記直線部に比して上記屈曲部の方が高い。特に、皿形ケース51の両側壁95,96に近い側の屈曲部98の周辺が高い温度を呈する。そのために、蓋部材54aに対して天井蒸気吹出口55を均等に設けた場合には、蒸気加熱ヒータ52における外側の屈曲部98の周辺に位置する天井蒸気吹出口55から噴出される過熱蒸気の温度が、その他の天井蒸気吹出口55から噴出される過熱蒸気の温度よりも高くなる。したがって、過熱蒸気の凝縮潜熱と、凝縮で発生した100℃の水(湯)の被加熱物への浸透とによって加熱される被加熱物90には、焼き斑が生ずるのである。
そこで、本実施の形態においては、図5に示すように、上記蓋部材54aにおける天井蒸気吹出口55の分布密度を、蒸気加熱ヒータ52における外側の屈曲部98の周辺領域では、その他の領域よりも疎にするのである。こうすることによって、被加熱物90の各部に対する供給熱量の均一化を図ることができ、被加熱物90の焼き斑を解消することができるのである。
ところで、上記蒸気加熱ヒータ52の上記屈曲部周辺の環境温度が上記直線部よりも高い理由としては、上記屈曲部の内側における放熱フィン97の密集化や、蒸気の流量に対するヒータの占有面積の増大等、種々考えられる。
さらに、上記蒸気供給口92A,92B,92Cから皿形ケース51内に供給される蒸気は、蒸気吸引エジェクタ44のエジェクト効果によって、第3パイプ63および蒸気供給管93A,93B,93Cを介して高速で流入してくる。そのために、蒸気供給口92A,92B,92Cから供給された蒸気は、その勢いで皿形ケース51内を直進し、一旦上記前面側の側壁94に当たって反射された後に夫々の天井蒸気吹出口55に向かって流れることになる。したがって、側壁94に向かって直進する蒸気と側壁94で反射された蒸気とがぶつかり合って、前面側に位置する第3発熱部52a-3の内側近傍に過熱蒸気が滞留し易くなる。
その結果、上記第3発熱部52a-3の内側近傍における環境温度が高くなり、蓋部材54aに対して天井蒸気吹出口55を均等に設けた場合には、蒸気加熱ヒータ52における第3発熱部52a-3の内側近傍に位置する天井蒸気吹出口55から噴出される過熱蒸気の温度が、第3発熱部52a-3の外側や上記背面側(側壁91側)や第3発熱部52a-3の内側近傍と上記背面側との中間領域の天井蒸気吹出口55から噴出される過熱蒸気の温度よりも高くなる。したがって、被加熱物90には焼き斑が生ずるのである。
そこで、本実施の形態においては、図5に示すように、上記蓋部材54aに対する天井蒸気吹出口55の分布を、蒸気加熱ヒータ52における外側の屈曲部98の周辺領域に加えて、第3発熱部52a-3の内側近傍の領域でも疎にするのである。こうすることによって、被加熱物90の各部に対する供給熱量の均一化を図ることができるのである。尚、上記「第3発熱部52a-3の内側近傍」とは、「第3発熱部52a-3における側壁94に対向する面とは反対側の面の近傍」のことである。
以上のごとく、本実施の形態においては、上記蒸気加熱ヒータ52を屈曲部と直線部とで構成した場合に、蒸気加熱ヒータ52における外側の屈曲部98の周辺に位置する天井蒸気吹出口55から噴出される過熱蒸気の高温化と、蒸気加熱ヒータ52における第3発熱部52a-3の内側近傍に位置する天井蒸気吹出口55から噴出される過熱蒸気の高温化とに対処するため、蓋部材54aに対する天井蒸気吹出口55の分布密度を、蒸気加熱ヒータ52における外側の屈曲部98の周辺領域と第3発熱部52a-3の内側近傍の領域とにおいて、疎にするようにしている。したがって、被加熱物90の各部に対する供給熱量の均一化を図ることができ、被加熱物90の焼き斑を防止することができるのである。
尚、上記説明においては、上記蓋部材54aに対する天井蒸気吹出口55の分布密度を疎にすることによって、被加熱物90の各部に対する供給熱量の均一化を図っている。しかしながら、被加熱物90の各部に対する供給熱量の均一化を行うための方法は、これに限定されるものではない。例えば、天井蒸気吹出口55の小径化や、分布密度の疎化と小径化との併用によっても可能である。但し、天井蒸気吹出口55の小径化の変更を行う場合には、過熱蒸気の吹き出し速度も変化するため、吹き出し速度の変化も考慮する必要がある。
この発明の加熱調理器における外観斜視図である。 図1に示す加熱調理器の扉を開いた状態の外観斜視図である。 図1に示す加熱調理器の概略構成図である。 図1に示す加熱調理器の制御ブロック図である。 図3における過熱蒸気生成室を下側から見た平面図である。
1…加熱調理器、
20…加熱室、
23…蒸気供給通路、
40…蒸気発生装置、
44…蒸気吸引エジェクタ、
50…過熱蒸気生成室、
51…皿形ケース、
52…蒸気加熱ヒータ、
52a-1,52a-2,52a-3…発熱部、
55…天井蒸気吹出口、
54a…蓋部材、
55…天井蒸気吹出口、
60…外部循環路、
80…制御装置、
90…被加熱物、
51a…皿形ケースの凹部、
91,94,95,96…側壁、
92A,92B,92C…蒸気供給口、
93A,93B,93C…蒸気供給管、
97…放熱フィン、
98…蒸気加熱ヒータの屈曲部。

Claims (5)

  1. 蒸気を発生する蒸気発生装置と、
    被加熱物を収容可能な加熱室と、
    蒸気供給口が設けられ、上記蒸気発生装置から上記蒸気供給口を介して供給された蒸気をさらに加熱して過熱蒸気にするヒータを有すると共に、上記過熱蒸気を上記加熱室に吹き出す複数の過熱蒸気吹出穴を有する過熱蒸気生成室と
    を備え、
    上記過熱蒸気生成室における上記過熱蒸気吹出穴の分布密度および穴径の少なくとも一方は、上記過熱蒸気生成室内の温度分布に応じて変化している
    加熱調理器において、
    上記過熱蒸気生成室内の温度が高い領域に位置する上記過熱蒸気吹出穴の分布密度は、上記過熱蒸気生成室内の温度が低い領域に位置する上記過熱蒸気吹出穴の分布密度よりも疎である
    ことを特徴とする加熱調理器。
  2. 蒸気を発生する蒸気発生装置と、
    被加熱物を収容可能な加熱室と、
    蒸気供給口が設けられ、上記蒸気発生装置から上記蒸気供給口を介して供給された蒸気をさらに加熱して過熱蒸気にするヒータを有すると共に、上記過熱蒸気を上記加熱室に吹き出す複数の過熱蒸気吹出穴を有する過熱蒸気生成室と
    を備え、
    上記過熱蒸気生成室における上記過熱蒸気吹出穴の分布密度および穴径の少なくとも一方は、上記過熱蒸気生成室内の温度分布に応じて変化している
    加熱調理器において、
    上記過熱蒸気生成室内の温度が高い領域に位置する上記過熱蒸気吹出穴の穴径は、上記過熱蒸気生成室内の温度が低い領域に位置する上記過熱蒸気吹出穴の穴径よりも小さい
    ことを特徴とする加熱調理器。
  3. 請求項1あるいは請求項2に記載の加熱調理器において、
    上記過熱蒸気生成室内の上記ヒータは、複数の直線部と各直線部を連結する屈曲部とを有しており、
    上記過熱蒸気生成室内の温度が高い領域は、上記過熱蒸気生成室の側壁近傍に位置する上記ヒータの上記屈曲部の近傍領域である
    ことを特徴とする加熱調理器。
  4. 請求項1あるいは請求項2に記載の加熱調理器において、
    上記過熱蒸気生成室内の上記ヒータは、複数の直線部と各直線部を連結する屈曲部とを有すると共に、上記直線部の1つは、上記過熱蒸気生成室における上記蒸気供給口に対向する側壁の近傍に、この側壁に略平行して配設されており、
    上記過熱蒸気生成室内の温度が高い領域は、上記側壁に略平行して配設された上記ヒータの直線部の内側近傍の領域である
    ことを特徴とする加熱調理器。
  5. 請求項3に記載の加熱調理器において、
    上記過熱蒸気生成室内の上記ヒータにおける上記直線部の1つは、上記蒸気供給口に対向する側壁の近傍に、この側壁に略平行して配設されており、
    上記過熱蒸気生成室内の温度が高い領域は、上記側壁に略平行して配設された上記ヒータの直線部の内側近傍の領域である
    ことを特徴とする加熱調理器。
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