JP2007322002A - 加熱調理器 - Google Patents

Abstract

【課題】過熱蒸気生成用ヒータの形状に起因する被加熱物の焼き斑を防止する。
【解決手段】皿形ケース５１の蓋部材５４aに対する天井蒸気吹出口５５の分布密度を、過熱蒸気の温度が高温になる領域、つまり、蒸気加熱ヒータ５２における外側の屈曲部９８の周辺領域と第３発熱部５２a-3の内側近傍の領域とにおいて、疎にする。こうして、被加熱物の各部に対する供給熱量の均一化を図って、上記被加熱物の焼き斑を防止する。
【選択図】図５

Description

この発明は、蒸気を用いて被加熱物を加熱する加熱調理器に関する。

従来、過熱蒸気を用いて食品などの被加熱物の加熱調理を行う加熱調理器として、加熱室外で生成された過熱蒸気を上記加熱室内に送り込むものがある。例えば、特開２００１‐２６３６６６号公報(特許文献１)に開示された過熱蒸気調理器においては、調理部外の蒸気発生部で発生された蒸気を上記調理部内の裏面側を壁で仕切ってなる蒸気加熱室に送り、上記蒸気加熱室内の庫内加熱手段によって加熱して過熱蒸気を生成する。そして、生成された過熱蒸気は、上記蒸気加熱室内の送風手段によって、上記壁に設けられたスリット状の循環吹出口から上記調理部内に吹き出されるようになっている。

尚、上記特許文献１に開示された過熱蒸気調理器では、上記調理部内の裏面側に設けられた蒸気加熱室から、循環吹出口を介して過熱蒸気を上記調理部内に吹き出すようにしているが、被加熱物が加熱される加熱室に対する蒸気加熱室の位置によって、上吹出方式、横吹出し方式、上・横吹出し方式等の吹き出し方式がある。

ところで、上述のようにして加熱室内に吹き出される１００℃以上の過熱蒸気を直接被加熱物の表面に供給し、過熱蒸気の凝縮潜熱と、凝縮で発生した１００℃の水(湯)の被加熱物への浸透とによって被加熱物を加熱する場合には、上記加熱室内に吹き出される過熱蒸気の温度が、被加熱物の焼き加減に直接影響を及ぼす。そして、その場合、上記蒸気加熱室内において蒸気を加熱するヒータの形状や位置と、過熱蒸気を加熱室内に吹き出す蒸気吹出口の位置との関係が、各蒸気吹出口から吹き出される過熱蒸気の温度に大きな影響を及ぼすことになる。

しかしながら、上記特許文献１に示す従来の過熱蒸気調理器では、上記庫内加熱手段を立設された矩形のシーズヒータで構成している。したがって、過熱蒸気を直接被加熱物の表面に供給するために、上記蒸気加熱室との間を仕切る壁に蒸気吹出口を均一に設けた場合には、上記シーズヒータの位置に設けられた蒸気吹出口から吹き出される過熱蒸気の温度と上記シーズヒータが無い位置に設けられた蒸気吹出口から吹き出される過熱蒸気の温度とに大きな差が生じ、上記被加熱物に焼き斑が生ずるという問題がある。
特開２００１‐２６３６６６号公報

そこで、この発明の課題は、過熱蒸気生成用ヒータの形状および配置に起因する被加熱物の焼き斑を防止できる加熱調理器を提供することにある。

上記課題を解決するため、この発明の加熱調理器は、
蒸気を発生する蒸気発生装置と、
被加熱物を収容可能な加熱室と、
蒸気供給口が設けられ、上記蒸気発生装置から上記蒸気供給口を介して供給された蒸気をさらに加熱して過熱蒸気にするヒータを有すると共に、上記過熱蒸気を上記加熱室に吹き出す複数の過熱蒸気吹出穴を有する過熱蒸気生成室と
を備え、
上記過熱蒸気生成室における上記過熱蒸気吹出穴の分布密度および穴径の少なくとも一方は、上記過熱蒸気生成室内の温度分布に応じて変化している
ことを特徴としている。

上記過熱蒸気生成室内に配置された上記ヒータの形状と位置関係とによって、上記過熱蒸気生成室内には温度分布が発生することになる。その場合、上記過熱蒸気生成室における上記過熱蒸気吹出穴を、その分布密度あるいは穴径が均一になるように設けると、上記過熱蒸気生成室内の温度が高い領域に位置する上記過熱蒸気吹出穴から吹き出される過熱蒸気の温度が、他の領域に位置する上記過熱蒸気吹出穴から吹き出される過熱蒸気よりも高いため、上記加熱室内の被加熱物には焼き斑が生ずることになる。上記構成によれば、上記過熱蒸気生成室における上記過熱蒸気吹出穴の分布密度および穴径の少なくとも一方は、上記過熱蒸気生成室内の温度分布に応じて変化しているので、上記過熱蒸気生成室内の温度が高い領域に位置する上記過熱蒸気吹出穴の分布密度および穴径の少なくとも一方を小さくすれば、上記被加熱物の各部に対する供給熱量の均一化を図って、上記被加熱物に生ずる焼き斑を防止することが可能になる。

また、１実施の形態の加熱調理器では、
上記過熱蒸気生成室内の温度が高い領域に位置する上記過熱蒸気吹出穴の分布密度は、上記過熱蒸気生成室内の温度が低い領域に位置する上記過熱蒸気吹出穴の分布密度よりも疎である。

この実施の形態によれば、上記過熱蒸気生成室内の温度が高い領域に位置する上記過熱蒸気吹出穴の分布密度が他の領域よりも疎であるため、上記被加熱物の各部に対する上記過熱蒸気による供給熱量の均一化を図ることができる。したがって、上記被加熱物に生ずる焼き斑を防止することができる。

また、１実施の形態の加熱調理器では、
上記過熱蒸気生成室内の温度が高い領域に位置する上記過熱蒸気吹出穴の穴径は、上記過熱蒸気生成室内の温度が低い領域に位置する上記過熱蒸気吹出穴の穴径よりも小さい。

この実施の形態によれば、上記過熱蒸気生成室内の温度が高い領域に位置する上記過熱蒸気吹出穴の穴径が他の領域より小さいため、上記被加熱物の各部に対する上記過熱蒸気による供給熱量の均一化を図ることができる。したがって、上記被加熱物に生ずる焼き斑を防止することができる。

また、１実施の形態の加熱調理器では、
上記過熱蒸気生成室内の上記ヒータは、複数の直線部と各直線部を連結する屈曲部とを有しており、
上記過熱蒸気生成室内の温度が高い領域は、上記過熱蒸気生成室の側壁近傍に位置する上記ヒータの上記屈曲部の近傍領域である。

この実施の形態によれば、上記過熱蒸気生成室の側壁近傍に位置する上記ヒータの上記屈曲部の近傍領域から吹き出される過熱蒸気によって生ずる上記被加熱物の焼き斑を防止することができる。

また、１実施の形態の加熱調理器では、
上記過熱蒸気生成室内の上記ヒータは、複数の直線部と各直線部を連結する屈曲部とを有すると共に、上記直線部の１つは、上記過熱蒸気生成室における上記蒸気供給口に対向する側壁の近傍に、この側壁に略平行して配設されており、
上記過熱蒸気生成室内の温度が高い領域は、上記側壁に略平行して配設された上記ヒータの直線部の内側近傍の領域である。

この実施の形態によれば、上記過熱蒸気生成室における上記蒸気供給口に対向する側壁に略平行して配設された上記ヒータの直線部の内側近傍の領域から吹き出される過熱蒸気によって生ずる上記被加熱物の焼き斑を防止することができる。ここで、上記「ヒータの直線部の内側近傍」とは、「ヒータの直線部における上記過熱蒸気生成室の側壁に対向する面とは反対側の面の近傍」のことである。

また、１実施の形態の加熱調理器では、
上記過熱蒸気生成室内の上記ヒータにおける上記直線部の１つは、上記蒸気供給口に対向する側壁の近傍に、この側壁に略平行して配設されており、
上記過熱蒸気生成室内の温度が高い領域は、上記側壁に略平行して配設された上記ヒータの直線部の内側近傍の領域である。

この実施の形態によれば、上記過熱蒸気生成室の側壁近傍に位置する上記ヒータの上記屈曲部の近傍領域から吹き出される過熱蒸気と、上記過熱蒸気生成室における上記蒸気供給口に対向する側壁に略平行して配設された上記ヒータの直線部の内側近傍の領域から吹き出される過熱蒸気と、によって生ずる上記被加熱物の焼き斑を防止することができる。ここで、上記「ヒータの直線部の内側近傍」とは、「ヒータの直線部における上記過熱蒸気生成室の側壁に対向する面とは反対側の面の近傍」のことである。

以上より明らかなように、この発明の加熱調理器は、蒸気発生装置で発生された蒸気をさらに加熱する過熱蒸気生成室における過熱蒸気吹出穴の分布密度および穴径の少なくとも一方が、上記過熱蒸気生成室内の温度分布に応じて変化しているので、上記過熱蒸気生成室内の温度が高い領域に位置する上記過熱蒸気吹出穴の分布密度および穴径の少なくとも一方を小さくすることによって、上記過熱蒸気生成室内に配置されたヒータの形状と位置関係とによって上記過熱蒸気生成室内に発生する温度分布に拘わらず、加熱室内の被加熱物における各部に対する供給熱量の均一化を図ることができる。したがって、上記ヒータの形状と配置とに起因して上記被加熱物に生ずる焼き斑を防止することが可能になる。

以下、この発明を図示の実施の形態により詳細に説明する。

図１は、本実施の形態の加熱調理器における外観斜視図である。本加熱調理器１は、直方体形状のキャビネット１０の正面の上部に操作パネル１１を設け、キャビネット１０の正面における操作パネル１１の下側には、下端側の辺を中心に回動する扉１２を設けて概略構成されている。そして、扉１２の上部にはハンドル１３が設けられ、扉１２には耐熱ガラス製の窓１４が嵌め込まれている。

図２は、上記加熱調理器１の扉１２を開いた状態の外観斜視図である。キャビネット１０内に、直方体形状の加熱室２０が設けられている。加熱室２０は、扉１２に面する正面側に開口部２０aを有し、加熱室２０の側面,底面および天面がステンレス鋼板で形成されている。また、扉１２は、加熱室２０に面する側がステンレス鋼板で形成されている。加熱室２０の周囲および扉１２の内側に断熱材(図示せず)が載置されており、加熱室２０内と外部とが断熱されている。

また、上記加熱室２０の底面には、ステンレス製の受皿２１が設置され、受皿２１上には、被加熱物を載置するためのステンレス鋼線製のラック２４(図３参照)が設置される。さらに、加熱室２０の両側面下部には、略水平に延在する略長方形の側面蒸気吹出口２２(図２では一方のみが見えている)が設けられている。

図３は、上記加熱調理器１の基本構成を示す概略構成図である。図３に示すように、本加熱調理器１は、加熱室２０と、蒸気用の水を貯める水タンク３０と、水タンク３０から供給された水を蒸発させて蒸気を発生させる蒸気発生装置４０と、蒸気発生装置４０からの蒸気を加熱して過熱蒸気を生成する過熱蒸気生成室５０と、蒸気発生装置４０や過熱蒸気生成室５０等の動作を制御する制御装置８０とを備えている。

上記加熱室２０内に設置された受皿２１上には格子状のラック２４が載置され、そのラック２４の略中央に被加熱物９０が置かれる。

また、上記水タンク３０の下側に設けられた接続部３０aは、第１給水パイプ３１の一端に設けられた漏斗形状の受入口３１aに接続可能になっている。そして、第１給水パイプ３１から分岐して上方に延びる第２給水パイプ３２の端部にはポンプ３５の吸込側が接続され、そのポンプ３５の吐出側には第３給水パイプ３３の一端が接続されている。さらに、第１給水パイプ３１から分岐して上方に延びる水位センサ用パイプ３８の上端には、水タンク用水位センサ３６が配設されている。さらに、第１給水パイプ３１から分岐して上方に延びる大気開放用パイプ３７の上端には、後述する排気ダクト６５に接続されている。

そして、上記第３給水パイプ３３は、垂直に配置された部分から略水平に屈曲するＬ字形状をしており、第３給水パイプ３３の他端には補助タンク３９が接続されている。さらに、補助タンク３９の下端には第４給水パイプ３４の一端が接続され、その第４給水パイプ３４の他端には蒸気発生装置４０の下端が接続されている。また、蒸気発生装置４０における第４給水パイプ３４の接続点よりも下側には、排水バルブ７０の一端が接続されている。そして、排水バルブ７０の他端には排水パイプ７１の一端が接続され、排水パイプ７１の他端には排水タンク７２が接続されている。尚、補助タンク３９の上部は、大気開放用パイプ３７と排気ダクト６５を介して大気に連通されている。

上記水タンク３０が第１給水パイプ３１の受入口３１aに接続されると、水タンク３０内の水は、水タンク３０と同水位になるまで大気開放用パイプ３７内に上昇する。その際に、水タンク用水位センサ３６につながる水位センサ用パイプ３８は先端が密閉されているため水位は上がらないが、水タンク３０の水位に応じて水位センサ用パイプ３８の密閉された空間の圧力は大気圧から上昇する。この圧力変化を、水タンク用水位センサ３６内の圧力検出素子(図示せず)で検出することによって、水タンク３０内の水位が検出されるようになっている。ポンプ３５が静止中である際の水位測定では、大気開放用パイプ３７は不要であるが、ポンプ３５の吸引圧力が直接上記圧力検出素子に働いて水タンク３０の水位検出の精度が低下するのを防止するために、開放端を有する大気開放用パイプ３７を設けている。

また、上記蒸気発生装置４０は、下側に第４給水パイプ３４の他端が接続されたポット４１と、ポット４１内の底面近傍に配置された蒸気発生ヒータ４２と、ポット４１内の蒸気発生ヒータ４２の上側近傍に配置された水位センサ４３と、ポット４１の上側に取り付けられた蒸気吸引エジェクタ４４とを有している。また、加熱室２０の側面上部に設けられた吸込口２５の外側には、ファンケーシング２６を配置している。そして、ファンケーシング２６に設置された送風ファン２８によって、加熱室２０内の蒸気は、吸込口２５から吸い込まれて、第１パイプ６１および第２パイプ６２を介して蒸気発生装置４０の蒸気吸引エジェクタ４４の入口側に送り込まれる。第１パイプ６１は、略水平に配置されており、一端がファンケーシング２６に接続されている。また、第２パイプ６２は、略垂直に配置されており、一端が第１パイプ６１の他端に接続される一方、他端が蒸気吸引エジェクタ４４のインナーノズル４５の入口側に接続されている。

上記蒸気吸引エジェクタ４４は、インナーノズル４５の外側を包み込むアウターノズル４６を備えており、インナーノズル４５の吐出側がポット４１の内部空間と連通するようになっている。そして、蒸気吸引エジェクタ４４のアウターノズル４６の吐出側には第３パイプ６３の一端が接続され、その第３パイプ６３の他端には過熱蒸気生成室５０が接続されている。

上記ファンケーシング２６,第１パイプ６１,第２パイプ６２,蒸気吸引エジェクタ４４,第３パイプ６３および過熱蒸気生成室５０で外部循環路６０を形成している。また、加熱室２０の側面の下側に設けられた放出口２７には放出通路６４の一端が接続され、放出通路６４の他端には排気ダクト６５の一端が接続されている。さらに、排気ダクト６５の他端には排気口６６が設けられている。蒸気放出通路６４の排気ダクト６５側には、ラジエータ６９が外嵌して取り付けられている。そして、外部循環路６０を形成する第１パイプ６１,第２パイプ６２との接続部には、排気通路６７を介して排気ダクト６５が接続されている。さらに、排気通路６７における第１,第２パイプ６１,６２の接続側には、排気通路６７を開閉するダンパ６８が配置されている。

また、上記過熱蒸気生成室５０は、加熱室２０の天井側であって且つ略中央に、開口を下側にして配置された皿型ケース５１と、この皿型ケース５１内に配置された蒸気加熱ヒータ５２を有している。皿型ケース５１の底面は、加熱室２０の天井面に設けられた金属製の天井パネル５４で形成されている。天井パネル５４には、上記過熱蒸気吹出穴である複数の天井蒸気吹出口５５が形成されている。ここで、天井パネル５４は、上下両面が塗装等によって暗色に仕上げられている。尚、使用を重ねることにより暗色に変色する金属素材や暗色のセラミック成型品によって、天井パネル５４を形成してもよい。

さらに、上記過熱蒸気生成室５０には、上記加熱室２０の上部に左右両側に向かって延在する蒸気供給通路２３(図３においては一方のみが見えている)の一端が夫々接続されている。そして、蒸気供給通路２３は加熱室２０の両側面に沿って下方向かって延在しており、その他端には、上記加熱室２０の両側面下側に設けられた側面蒸気吹出口２２に接続されている。

次に、本加熱調理器１の制御系について説明する。

制御装置８０は、マイクロコンピュータおよび入出力回路等から構成され、図４に示すように、送風ファン２８と、蒸気加熱ヒータ５２と、ダンパ６８と、排水バルブ７０と、蒸気発生ヒータ４２と、操作パネル１１と、水タンク用水位センサ３６と、水位センサ４３と、加熱室２０(図３に示す)内の温度を検出する温度センサ８１と、加熱室２０内の湿度を検出する湿度センサ８２と、ポンプ３５とが、接続されている。そして、水タンク用水位センサ３６,水位センサ４３,温度センサ８１および湿度センサ８２からの検出信号に基づいて、送風ファン２８,蒸気加熱ヒータ５２,ダンパ６８,排水バルブ７０,蒸気発生ヒータ４２,操作パネル１１およびポンプ３５を所定のプログラムに従って制御する。

以下、上記構成を有する加熱調理器１の基本動作について、図３および図４に従って説明する。操作パネル１１の電源スイッチ(図示せず)が押圧されると電源がオンし、操作パネル１１の操作によって加熱調理の運転が開始される。そうすると、先ず、制御装置８０は、排水バルブ７０を閉鎖し、ダンパ６８によって排気通路６７を閉じた状態でポンプ３５の運転を開始する。そして、ポンプ３５によって、水タンク３０から蒸気発生装置４０のポット４１内に第１〜第４給水パイプ３１〜３４を介して給水される。その後、ポット４１内の水位が所定水位に達したことを水位センサ４３が検出すると、ポンプ３５を停止して給水を止める。

次に、上記蒸気発生ヒータ４２に通電し、ポット４１内に溜まった所定量の水を蒸気発生ヒータ４２によって加熱する。

そして、上記蒸気発生ヒータ４２の通電と同時に、または、ポット４１内の水の温度が所定温度に達すると、送風ファン２８をオンすると共に、過熱蒸気生成室５０の蒸気加熱ヒータ５２に通電する。そうすると、送風ファン２８は、加熱室２０内の気体(蒸気を含む)を吸込口２５から吸い込み、外部循環路６０に気体(蒸気を含む)を送り出す。その際に、送風ファン２８に遠心ファンを用いているので、プロペラファンを用いる場合に比べて高圧を発生させることができる。さらに、送風ファン２８に用いる遠心ファンを直流モータで高速回転させることによって、循環気流の流速を極めて速くすることができる。

次に、上記蒸気発生装置４０のポット４１内の水が沸騰すると飽和蒸気が発生し、発生した飽和蒸気は、蒸気吸引エジェクタ４４の箇所で外部循環路６０を通る循環気流に合流する。そして、蒸気吸引エジェクタ４４から出た蒸気は、第３パイプ６３を介して高速で過熱蒸気生成室５０に流入する。

そして、上記過熱蒸気生成室５０に流入した蒸気は、蒸気加熱ヒータ５２によって加熱されて、略３００℃(調理内容により異なる)の過熱蒸気となる。この過熱蒸気の一部は、下側の天井パネル５４に設けられた複数の天井蒸気吹出口５５から加熱室２０内の下方に向かって噴出される。また、過熱蒸気の他の一部は、過熱蒸気生成室５０の左右両側に設けられた蒸気供給通路２３を介して、加熱室２０の両側面の側面蒸気吹出口２２から噴出される。

こうして、上記加熱室２０の天井側から噴出した過熱蒸気が中央の被加熱物９０側に向かって勢いよく供給されると共に、加熱室２０の左右の側面側から噴出した過熱蒸気は、受皿２１に衝突した後、被加熱物９０の下方から被加熱物９０を包むように上昇しながら供給される。その結果、加熱室２０内において、中央部では吹き下ろし、その外側では上昇するという形の対流が生じる。そして、対流する蒸気は、順次吸込口２５に吸い込まれて、外部循環路６０を通って再び加熱室２０内に戻るという循環を繰り返す。

このようにして、上記加熱室２０内で過熱蒸気の対流を形成することによって、加熱室２０内の温度・湿度分布を均一に維持しつつ、過熱蒸気生成室５０からの過熱蒸気を天井蒸気吹出口５５と側面吹出口２２とから噴出して、ラック２４上に載置された被加熱物９０に効率よく衝突させることが可能になり、過熱蒸気の衝突によって被加熱物９０が加熱される。その場合、被加熱物９０の表面に接触した過熱蒸気は、被加熱物９０の表面で結露する際に潜熱を放出することによっても被加熱物９０を加熱する。これにより、過熱蒸気の大量の熱を確実に且つ速やかに被加熱物９０全面に均等に与えることができる。したがって、斑がなくて仕上がりのよい加熱調理を実現することができるのである。

また、上記加熱調理運転時において、時間が経過すると、加熱室２０内の蒸気量が増加し、量的に余剰となった分の蒸気は、放出口２７から放出通路６４および排気ダクト６５を介して排気口６６から外部に放出される。その際に、放出通路６４に設けたラジエータ６９によって放出通路６４を通過する蒸気を冷却して結露させることにより、外部に蒸気がそのまま放出されるのを防止している。尚、ラジエータ６９によって放出通路６４内で結露した水は、放出通路６４内を流れ落ちて受皿２１に導かれ、調理によって発生した水と共に調理終了後に処理される。

調理終了後、上記制御装置８０によって操作パネル１１に調理終了のメッセージが表示され、さらに操作パネル１１に設けられたブザー(図示せず)によって合図の音を鳴らす。これらのメッセージやブザーによって調理終了を知った使用者が扉１２を開けると、制御装置８０は、センサ(図示せず)によって扉１２が開いたことを検知して、排気通路６７のダンパ６８を瞬時に開く。そうすると、外部循環路６０の第１パイプ６１が排気通路６７を介して排気ダクト６５に連通し、加熱室２０内の蒸気は、送風ファン２８によって、吸込口２５,第１パイプ６１,排気通路６７および排気ダクト６５を介して排気口６６から排出される。このダンパ動作は、調理中に使用者が扉１２を開いても同様に機能する。したがって、使用者は、蒸気にさらされることなく、安全に被加熱物９０を加熱室２０内から取り出すことができるのである。

以下、この実施の形態の特徴である上記過熱蒸気生成室５０について、図５に従ってさらに詳細に説明する。図５は過熱蒸気生成室５０を下側から見た平面図である。過熱蒸気生成室５０は、平面形状が略矩形の凹部５１aを有する皿形ケース５１内に、大電力(１０００Ｗ)の大管径のシーズヒータである蒸気加熱ヒータ５２を配置している。そして、皿形ケース５１の凹部５１aの開口は、加熱室２０の天井面に設けられた金属製の天井パネル５４(図３に示す)に連なる蓋部材５４aで覆われている。したがって、本来は、皿形ケース５１の内部は蓋部材５４aによって見えないのであるが、図５においては、説明の都合上、蓋部材５４aは透明であって、皿形ケース５１の内部が見えるように表現されている。

上記皿形ケース５１の凹部５１aにおける側壁９１には蒸気供給口９２Ａ,９２Ｂ,９２Ｃが設けられており、蒸気供給口９２Ａ,９２Ｂ,９２Ｃには蒸気供給管９３Ａ,９３Ｂ,９３Ｃが接続されている。尚、皿形ケース５１において、蒸気供給管９３Ａ,９３Ｂ,９３Ｃが接続された側壁９１側(図５の下側)が本蒸気調理器１の背面側であり、側壁９１に対向する側壁９４側(図５の上側)が前面側(扉１２側)である。また、側壁９１に隣接する２つの側壁９５,９６の夫々には、所定の間隔をあけて４つの蒸気吹出口(図示せず)を設けている。この蒸気吹出口には、図３に示す蒸気供給通路２３が接続されている。また、蒸気供給管９３Ａ,９３Ｂ,９３Ｃの入口側に、図３に示す第３パイプ６３を介して蒸気発生装置４０における蒸気吸引エジェクタ４４の吐出側を接続している。

また、上記蒸気加熱ヒータ５２は、蒸気供給口９２Ａ,９２Ｂ,９２Ｃから流入する蒸気の流れの中心線Ｌに対して略線対称な平面形状であって、上記中心線Ｌに略平行に所定の間隔をあけて配置された２箇所の第１,第２非発熱部５２b,５２cと、その第１,第２非発熱部５２b,５２cの先端に一端が夫々接続されて凹部５１aの中央に向かって湾曲する略Ｕ字形状の２箇所の第１,第２発熱部５２a-1,５２a-2と、その２箇所の第１,第２発熱部５２a-1,５２a-2の他端間を接続する略コの字形状の第３発熱部５２a-3とを有している。そして、蒸気加熱ヒータ５２の第１〜第３発熱部５２a-1〜５２a-3の外周および第１,第２非発熱部５２b,５２cの一部の外周には、螺旋状の放熱フィン９７が設けられている。上記構成を有する蒸気加熱ヒータ５２は、第１,第２非発熱部５２b,５２cを蒸気供給管９４Ａ,９４Ｃの外側における側壁９１を貫通して固定することによって、皿形ケース５１に取り付けられている。

上記蓋部材５４aには、天井蒸気吹出口５５が設けられて、皿形ケース５１内で発生された過熱蒸気の一部が天井蒸気吹出口５５から加熱室２０内の下方に向かって噴出されるようになっている。

ここで、上述したように、上記蒸気加熱ヒータ５２は、屈曲部と直線部とによって構成されている。その場合、蒸気加熱ヒータ５２近傍の環境温度は、上記直線部に比して上記屈曲部の方が高い。特に、皿形ケース５１の両側壁９５,９６に近い側の屈曲部９８の周辺が高い温度を呈する。そのために、蓋部材５４aに対して天井蒸気吹出口５５を均等に設けた場合には、蒸気加熱ヒータ５２における外側の屈曲部９８の周辺に位置する天井蒸気吹出口５５から噴出される過熱蒸気の温度が、その他の天井蒸気吹出口５５から噴出される過熱蒸気の温度よりも高くなる。したがって、過熱蒸気の凝縮潜熱と、凝縮で発生した１００℃の水(湯)の被加熱物への浸透とによって加熱される被加熱物９０には、焼き斑が生ずるのである。

そこで、本実施の形態においては、図５に示すように、上記蓋部材５４aにおける天井蒸気吹出口５５の分布密度を、蒸気加熱ヒータ５２における外側の屈曲部９８の周辺領域では、その他の領域よりも疎にするのである。こうすることによって、被加熱物９０の各部に対する供給熱量の均一化を図ることができ、被加熱物９０の焼き斑を解消することができるのである。

ところで、上記蒸気加熱ヒータ５２の上記屈曲部周辺の環境温度が上記直線部よりも高い理由としては、上記屈曲部の内側における放熱フィン９７の密集化や、蒸気の流量に対するヒータの占有面積の増大等、種々考えられる。

さらに、上記蒸気供給口９２Ａ,９２Ｂ,９２Ｃから皿形ケース５１内に供給される蒸気は、蒸気吸引エジェクタ４４のエジェクト効果によって、第３パイプ６３および蒸気供給管９３Ａ,９３Ｂ,９３Ｃを介して高速で流入してくる。そのために、蒸気供給口９２Ａ,９２Ｂ,９２Ｃから供給された蒸気は、その勢いで皿形ケース５１内を直進し、一旦上記前面側の側壁９４に当たって反射された後に夫々の天井蒸気吹出口５５に向かって流れることになる。したがって、側壁９４に向かって直進する蒸気と側壁９４で反射された蒸気とがぶつかり合って、前面側に位置する第３発熱部５２a-3の内側近傍に過熱蒸気が滞留し易くなる。

その結果、上記第３発熱部５２a-3の内側近傍における環境温度が高くなり、蓋部材５４aに対して天井蒸気吹出口５５を均等に設けた場合には、蒸気加熱ヒータ５２における第３発熱部５２a-3の内側近傍に位置する天井蒸気吹出口５５から噴出される過熱蒸気の温度が、第３発熱部５２a-3の外側や上記背面側(側壁９１側)や第３発熱部５２a-3の内側近傍と上記背面側との中間領域の天井蒸気吹出口５５から噴出される過熱蒸気の温度よりも高くなる。したがって、被加熱物９０には焼き斑が生ずるのである。

そこで、本実施の形態においては、図５に示すように、上記蓋部材５４aに対する天井蒸気吹出口５５の分布を、蒸気加熱ヒータ５２における外側の屈曲部９８の周辺領域に加えて、第３発熱部５２a-3の内側近傍の領域でも疎にするのである。こうすることによって、被加熱物９０の各部に対する供給熱量の均一化を図ることができるのである。尚、上記「第３発熱部５２a-3の内側近傍」とは、「第３発熱部５２a-3における側壁９４に対向する面とは反対側の面の近傍」のことである。

以上のごとく、本実施の形態においては、上記蒸気加熱ヒータ５２を屈曲部と直線部とで構成した場合に、蒸気加熱ヒータ５２における外側の屈曲部９８の周辺に位置する天井蒸気吹出口５５から噴出される過熱蒸気の高温化と、蒸気加熱ヒータ５２における第３発熱部５２a-3の内側近傍に位置する天井蒸気吹出口５５から噴出される過熱蒸気の高温化とに対処するため、蓋部材５４aに対する天井蒸気吹出口５５の分布密度を、蒸気加熱ヒータ５２における外側の屈曲部９８の周辺領域と第３発熱部５２a-3の内側近傍の領域とにおいて、疎にするようにしている。したがって、被加熱物９０の各部に対する供給熱量の均一化を図ることができ、被加熱物９０の焼き斑を防止することができるのである。

尚、上記説明においては、上記蓋部材５４aに対する天井蒸気吹出口５５の分布密度を疎にすることによって、被加熱物９０の各部に対する供給熱量の均一化を図っている。しかしながら、被加熱物９０の各部に対する供給熱量の均一化を行うための方法は、これに限定されるものではない。例えば、天井蒸気吹出口５５の小径化や、分布密度の疎化と小径化との併用によっても可能である。但し、天井蒸気吹出口５５の小径化の変更を行う場合には、過熱蒸気の吹き出し速度も変化するため、吹き出し速度の変化も考慮する必要がある。

この発明の加熱調理器における外観斜視図である。 図１に示す加熱調理器の扉を開いた状態の外観斜視図である。 図１に示す加熱調理器の概略構成図である。 図１に示す加熱調理器の制御ブロック図である。 図３における過熱蒸気生成室を下側から見た平面図である。

符号の説明

１…加熱調理器、
２０…加熱室、
２３…蒸気供給通路、
４０…蒸気発生装置、
４４…蒸気吸引エジェクタ、
５０…過熱蒸気生成室、
５１…皿形ケース、
５２…蒸気加熱ヒータ、
５２a-1,５２a-2,５２a-3…発熱部、
５５…天井蒸気吹出口、
５４a…蓋部材、
５５…天井蒸気吹出口、
６０…外部循環路、
８０…制御装置、
９０…被加熱物、
５１a…皿形ケースの凹部、
９１,９４,９５,９６…側壁、
９２Ａ,９２Ｂ,９２Ｃ…蒸気供給口、
９３Ａ,９３Ｂ,９３Ｃ…蒸気供給管、
９７…放熱フィン、
９８…蒸気加熱ヒータの屈曲部。

Claims (6)

1. 蒸気を発生する蒸気発生装置と、
   被加熱物を収容可能な加熱室と、
   蒸気供給口が設けられ、上記蒸気発生装置から上記蒸気供給口を介して供給された蒸気をさらに加熱して過熱蒸気にするヒータを有すると共に、上記過熱蒸気を上記加熱室に吹き出す複数の過熱蒸気吹出穴を有する過熱蒸気生成室と
   を備え、
   上記過熱蒸気生成室における上記過熱蒸気吹出穴の分布密度および穴径の少なくとも一方は、上記過熱蒸気生成室内の温度分布に応じて変化している
   ことを特徴とする加熱調理器。
2. 請求項１に記載の加熱調理器において、
   上記過熱蒸気生成室内の温度が高い領域に位置する上記過熱蒸気吹出穴の分布密度は、上記過熱蒸気生成室内の温度が低い領域に位置する上記過熱蒸気吹出穴の分布密度よりも疎である
   ことを特徴とする加熱調理器。
3. 請求項１に記載の加熱調理器において、
   上記過熱蒸気生成室内の温度が高い領域に位置する上記過熱蒸気吹出穴の穴径は、上記過熱蒸気生成室内の温度が低い領域に位置する上記過熱蒸気吹出穴の穴径よりも小さい
   ことを特徴とする加熱調理器。
4. 請求項２あるいは請求項３に記載の加熱調理器において、
   上記過熱蒸気生成室内の上記ヒータは、複数の直線部と各直線部を連結する屈曲部とを有しており、
   上記過熱蒸気生成室内の温度が高い領域は、上記過熱蒸気生成室の側壁近傍に位置する上記ヒータの上記屈曲部の近傍領域である
   ことを特徴とする加熱調理器。
5. 請求項２あるいは請求項３に記載の加熱調理器において、
   上記過熱蒸気生成室内の上記ヒータは、複数の直線部と各直線部を連結する屈曲部とを有すると共に、上記直線部の１つは、上記過熱蒸気生成室における上記蒸気供給口に対向する側壁の近傍に、この側壁に略平行して配設されており、
   上記過熱蒸気生成室内の温度が高い領域は、上記側壁に略平行して配設された上記ヒータの直線部の内側近傍の領域である
   ことを特徴とする加熱調理器。
6. 請求項４に記載の加熱調理器において、
   上記過熱蒸気生成室内の上記ヒータにおける上記直線部の１つは、上記蒸気供給口に対向する側壁の近傍に、この側壁に略平行して配設されており、
   上記過熱蒸気生成室内の温度が高い領域は、上記側壁に略平行して配設された上記ヒータの直線部の内側近傍の領域である
   ことを特徴とする加熱調理器。
   

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