JP4682363B2 - 貴金属担持触媒の再生方法および再生装置 - Google Patents
貴金属担持触媒の再生方法および再生装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4682363B2 JP4682363B2 JP2006229177A JP2006229177A JP4682363B2 JP 4682363 B2 JP4682363 B2 JP 4682363B2 JP 2006229177 A JP2006229177 A JP 2006229177A JP 2006229177 A JP2006229177 A JP 2006229177A JP 4682363 B2 JP4682363 B2 JP 4682363B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- catalyst
- noble metal
- regeneration
- oxygen
- supported catalyst
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 title claims description 141
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 17
- 230000001172 regenerating effect Effects 0.000 title claims description 7
- 229910000510 noble metal Inorganic materials 0.000 title description 17
- 238000011069 regeneration method Methods 0.000 claims description 53
- 230000008929 regeneration Effects 0.000 claims description 42
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims description 38
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 27
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims description 27
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims description 27
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 claims description 16
- MWUXSHHQAYIFBG-UHFFFAOYSA-N Nitric oxide Chemical compound O=[N] MWUXSHHQAYIFBG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 claims description 4
- MGWGWNFMUOTEHG-UHFFFAOYSA-N 4-(3,5-dimethylphenyl)-1,3-thiazol-2-amine Chemical compound CC1=CC(C)=CC(C=2N=C(N)SC=2)=C1 MGWGWNFMUOTEHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N Ozone Chemical compound [O-][O+]=O CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- JCXJVPUVTGWSNB-UHFFFAOYSA-N nitrogen dioxide Inorganic materials O=[N]=O JCXJVPUVTGWSNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 239000008188 pellet Substances 0.000 claims description 3
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 2
- GQPLMRYTRLFLPF-UHFFFAOYSA-N Nitrous Oxide Chemical compound [O-][N+]#N GQPLMRYTRLFLPF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- 229960001730 nitrous oxide Drugs 0.000 claims 1
- 235000013842 nitrous oxide Nutrition 0.000 claims 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 26
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 13
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 description 12
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 12
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 12
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 11
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 8
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 7
- 229910002091 carbon monoxide Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 6
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 5
- 125000004435 hydrogen atom Chemical class [H]* 0.000 description 5
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 5
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 5
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 5
- UGFAIRIUMAVXCW-UHFFFAOYSA-N Carbon monoxide Chemical compound [O+]#[C-] UGFAIRIUMAVXCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 4
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 4
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 4
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 4
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 4
- 238000009832 plasma treatment Methods 0.000 description 4
- 239000011882 ultra-fine particle Substances 0.000 description 4
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 3
- 230000010718 Oxidation Activity Effects 0.000 description 3
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N ZrO2 Inorganic materials O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000356 contaminant Substances 0.000 description 3
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 3
- 239000002923 metal particle Substances 0.000 description 3
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 3
- 239000000047 product Substances 0.000 description 3
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 3
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N Magnesium oxide Chemical compound [Mg]=O CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000002776 aggregation Effects 0.000 description 2
- 150000001335 aliphatic alkanes Chemical class 0.000 description 2
- 150000001336 alkenes Chemical class 0.000 description 2
- 150000001345 alkine derivatives Chemical class 0.000 description 2
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 2
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 2
- 239000000446 fuel Substances 0.000 description 2
- AMWRITDGCCNYAT-UHFFFAOYSA-L hydroxy(oxo)manganese;manganese Chemical compound [Mn].O[Mn]=O.O[Mn]=O AMWRITDGCCNYAT-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 2
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 2
- 229910052684 Cerium Inorganic materials 0.000 description 1
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N Dioxygen Chemical compound O=O MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005033 Fourier transform infrared spectroscopy Methods 0.000 description 1
- GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N Gallium Chemical compound [Ga] GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N Ruthenium Chemical compound [Ru] KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 238000005054 agglomeration Methods 0.000 description 1
- 238000004220 aggregation Methods 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 150000001299 aldehydes Chemical class 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 description 1
- WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N antimony atom Chemical compound [Sb] WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001491 aromatic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229910052788 barium Inorganic materials 0.000 description 1
- DSAJWYNOEDNPEQ-UHFFFAOYSA-N barium atom Chemical compound [Ba] DSAJWYNOEDNPEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011324 bead Substances 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- 229910052793 cadmium Inorganic materials 0.000 description 1
- BDOSMKKIYDKNTQ-UHFFFAOYSA-N cadmium atom Chemical compound [Cd] BDOSMKKIYDKNTQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
- 238000006555 catalytic reaction Methods 0.000 description 1
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 description 1
- CETPSERCERDGAM-UHFFFAOYSA-N ceric oxide Chemical compound O=[Ce]=O CETPSERCERDGAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZMIGMASIKSOYAM-UHFFFAOYSA-N cerium Chemical compound [Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce] ZMIGMASIKSOYAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000422 cerium(IV) oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 1
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 1
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002485 combustion reaction Methods 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 150000004696 coordination complex Chemical class 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 230000009849 deactivation Effects 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 238000006356 dehydrogenation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 238000006477 desulfuration reaction Methods 0.000 description 1
- 230000023556 desulfurization Effects 0.000 description 1
- 238000010891 electric arc Methods 0.000 description 1
- 238000003487 electrochemical reaction Methods 0.000 description 1
- 239000003344 environmental pollutant Substances 0.000 description 1
- 238000006735 epoxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 150000002118 epoxides Chemical class 0.000 description 1
- 229910052733 gallium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004868 gas analysis Methods 0.000 description 1
- 229910052732 germanium Inorganic materials 0.000 description 1
- GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N germanium atom Chemical compound [Ge] GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052735 hafnium Inorganic materials 0.000 description 1
- VBJZVLUMGGDVMO-UHFFFAOYSA-N hafnium atom Chemical compound [Hf] VBJZVLUMGGDVMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- -1 hydrogenation Chemical class 0.000 description 1
- 238000005984 hydrogenation reaction Methods 0.000 description 1
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 1
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 1
- APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N indium atom Chemical compound [In] APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 1
- 238000005342 ion exchange Methods 0.000 description 1
- 229910052741 iridium Inorganic materials 0.000 description 1
- GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N iridium atom Chemical compound [Ir] GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 229910052746 lanthanum Inorganic materials 0.000 description 1
- FZLIPJUXYLNCLC-UHFFFAOYSA-N lanthanum atom Chemical compound [La] FZLIPJUXYLNCLC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 1
- 239000000395 magnesium oxide Substances 0.000 description 1
- WPBNNNQJVZRUHP-UHFFFAOYSA-L manganese(2+);methyl n-[[2-(methoxycarbonylcarbamothioylamino)phenyl]carbamothioyl]carbamate;n-[2-(sulfidocarbothioylamino)ethyl]carbamodithioate Chemical compound [Mn+2].[S-]C(=S)NCCNC([S-])=S.COC(=O)NC(=S)NC1=CC=CC=C1NC(=S)NC(=O)OC WPBNNNQJVZRUHP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- WSFSSNUMVMOOMR-NJFSPNSNSA-N methanone Chemical compound O=[14CH2] WSFSSNUMVMOOMR-NJFSPNSNSA-N 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 229910052762 osmium Inorganic materials 0.000 description 1
- SYQBFIAQOQZEGI-UHFFFAOYSA-N osmium atom Chemical compound [Os] SYQBFIAQOQZEGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- 231100000719 pollutant Toxicity 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 1
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 1
- 238000004445 quantitative analysis Methods 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- 229910052702 rhenium Inorganic materials 0.000 description 1
- WUAPFZMCVAUBPE-UHFFFAOYSA-N rhenium atom Chemical compound [Re] WUAPFZMCVAUBPE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010948 rhodium Substances 0.000 description 1
- MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N rhodium atom Chemical compound [Rh] MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- 229910052712 strontium Inorganic materials 0.000 description 1
- CIOAGBVUUVVLOB-UHFFFAOYSA-N strontium atom Chemical compound [Sr] CIOAGBVUUVVLOB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 1
- 150000004685 tetrahydrates Chemical class 0.000 description 1
- 229910052716 thallium Inorganic materials 0.000 description 1
- BKVIYDNLLOSFOA-UHFFFAOYSA-N thallium Chemical compound [Tl] BKVIYDNLLOSFOA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- 239000004408 titanium dioxide Substances 0.000 description 1
- 238000004627 transmission electron microscopy Methods 0.000 description 1
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 1
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 description 1
- GPPXJZIENCGNKB-UHFFFAOYSA-N vanadium Chemical compound [V]#[V] GPPXJZIENCGNKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052727 yttrium Inorganic materials 0.000 description 1
- VWQVUPCCIRVNHF-UHFFFAOYSA-N yttrium atom Chemical compound [Y] VWQVUPCCIRVNHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 1
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 1
Description
本発明は、担体上に貴金属を担持した触媒（以下、貴金属担持触媒ともいう）の再生方法および再生装置に関する。
貴金属担持触触媒、たとえば金超微粒子を金属酸化物からなる担体上に担持させた触媒（以下、金微粒子触媒ともいう）は、水素、一酸化炭素、炭化水素などの可燃性ガスの接触無炎燃焼用触媒；水素、一酸化炭素、メタノール、炭化水素などの可燃性ガス用センサー；工業用/室内用/家庭用臭気成分分解用触媒：エポキシ化反応用触媒；水素、一酸化炭素、メタノール、炭化水素などを燃料とする燃料電池電極用触媒；水素、一酸化炭素、メタノール、炭化水素などの電気化学反応における電極用触媒；NOx還元用触媒などの極めて広い分野において、従来の触媒が殆ど効果を発揮しない温度(例えば、室温以下)でも、優れた活性を示すことが知られている。
だが、該温度で優れた活性を発揮するこの様な貴金属担持触媒は、該温度条件下に存在する汚染物質、分解生成物などにより、活性サイトが塞がれて、活性が次第に低下する。そして、活性が低下した貴金属微粒子触媒を常法に従って酸素雰囲気中で加熱下に再生しようとする場合には、貴金属微粒子が加熱温度(通常400℃程度)において凝集し、粗大化するので、本来の触媒活性が著しく損なわれてしまうという問題点がある。
このような問題点を解決するため、本発明者等は、先に、金超微粒子触媒に紫外光を照射することにより触媒を再生する方法を提案した（特許文献１）。
この方法は、活性が低下した金超微粒子触媒を、常温においても、光照射という簡単な手法で再生できるといった利点を有するものである。
しかしながら、その後の本発明者等の検討によれば、触媒の再生部分が光照射面に限られ、これを有効に利用するためには反応器内の触媒の形状や配置等を光照射に適したものに工夫する必要があり、その設計自由度が制約されるといった問題があることが判明した。
この方法は、活性が低下した金超微粒子触媒を、常温においても、光照射という簡単な手法で再生できるといった利点を有するものである。
しかしながら、その後の本発明者等の検討によれば、触媒の再生部分が光照射面に限られ、これを有効に利用するためには反応器内の触媒の形状や配置等を光照射に適したものに工夫する必要があり、その設計自由度が制約されるといった問題があることが判明した。
本発明は、触媒の形状、配置等に制限されることなく、貴金属担持触媒が本来有する触媒活性を再現することが可能な工業的に有利な該触媒の再生方法および再生装置を提供することを目的とする。
本発明者は、金超微粒子触媒などの貴金属担持触媒の再生における上記の問題点に留意しつつ、研究を進めた結果、再生すべき触媒に対し、酸素含有ガスの存在下に低温プラズマを印加する場合には、プラズマは反応器全体に広がるため、反応器内に置かれた触媒の形状、配置等に制限されることなく、常温においても、貴金属の粗大化を伴うことなく、貴金属触媒の再生を行いうることを見出した。
すなわち、この出願は以下の発明を提供するものである。
〈１〉触媒活性が低下した貴金属担持触媒に、酸素含有ガスの存在下、低温プラズマを印加することを特徴とする貴金属担持触媒の再生方法。
〈２〉低温プラズマとして、無声放電、沿面放電、パルス放電、強誘電体ペレット充填型放電、あるいはこれらを複合させた放電方式から発生させる放電プラズマを用いることを特徴とする〈１〉の触媒再生法。
〈３〉酸素含有ガスが、酸素、オゾン、一酸化窒素および二酸化窒素から選ばれた酸化性ガスを含み、かつ低温時に触媒を汚染する成分を形成しない雰囲気で再生処理を行うことを特徴とする〈１〉又は〈２〉の触媒再生法。
〈４〉0〜350℃の温度条件下で再生を行うことを特徴とする〈１〉〜〈３〉のいずれかに記載の触媒再生法。
〈５〉1.0×102〜1.0×106 Paの圧力下で再生を行うことを特徴とする〈１〉〜〈４〉のいずれかに記載の触媒再生法。
〈６〉触媒活性が低下した貴金属担持触媒を収納する装置と該貴金属担持触媒に対して酸素含有ガスを供給する手段と低温プラズマを印加する手段とを備えた貴金属担持触媒の再生装置。
〈１〉触媒活性が低下した貴金属担持触媒に、酸素含有ガスの存在下、低温プラズマを印加することを特徴とする貴金属担持触媒の再生方法。
〈２〉低温プラズマとして、無声放電、沿面放電、パルス放電、強誘電体ペレット充填型放電、あるいはこれらを複合させた放電方式から発生させる放電プラズマを用いることを特徴とする〈１〉の触媒再生法。
〈３〉酸素含有ガスが、酸素、オゾン、一酸化窒素および二酸化窒素から選ばれた酸化性ガスを含み、かつ低温時に触媒を汚染する成分を形成しない雰囲気で再生処理を行うことを特徴とする〈１〉又は〈２〉の触媒再生法。
〈４〉0〜350℃の温度条件下で再生を行うことを特徴とする〈１〉〜〈３〉のいずれかに記載の触媒再生法。
〈５〉1.0×102〜1.0×106 Paの圧力下で再生を行うことを特徴とする〈１〉〜〈４〉のいずれかに記載の触媒再生法。
〈６〉触媒活性が低下した貴金属担持触媒を収納する装置と該貴金属担持触媒に対して酸素含有ガスを供給する手段と低温プラズマを印加する手段とを備えた貴金属担持触媒の再生装置。
本発明の触媒再生法によれば、反応器全体にプラズマが広がるため、反応器内に置かれた触媒の形状、配置等に制限されることなく、活性が低下した貴金属担持触媒を常温においても、プラズマを印加するという簡単な手法で再生させることができる。
また、本発明の触媒再生装置は、触媒活性が低下した貴金属担持触媒を収納する装置に、該貴金属担持触媒に対して酸素含有ガスを供給する手段と低温プラズマを印加する手段と付設するという極めて簡便な装置でありながら、触媒の形状、配置等に制限されることなく、貴金属担持触媒が本来有する触媒活性を再現することができる。また、本発明の触媒再生装置によれば、再生後の触媒はそのままの配置形態で反応器に保持できることから、再生前の反応をそのまま継続的に実施することができ、触媒反応器としても利用可能なものである。
また、本発明の触媒再生装置は、触媒活性が低下した貴金属担持触媒を収納する装置に、該貴金属担持触媒に対して酸素含有ガスを供給する手段と低温プラズマを印加する手段と付設するという極めて簡便な装置でありながら、触媒の形状、配置等に制限されることなく、貴金属担持触媒が本来有する触媒活性を再現することができる。また、本発明の触媒再生装置によれば、再生後の触媒はそのままの配置形態で反応器に保持できることから、再生前の反応をそのまま継続的に実施することができ、触媒反応器としても利用可能なものである。
本発明の再生対象となる貴金属担持触媒は、貴金属を担体上に担持させた従来公知の触媒であって、反応態様、構造、特性、用途等に関わりなく、種々の反応に所定時間使用され、その反応過程で触媒活性点が被毒を受け触媒活性が低下したものであれば何れも適用できる。
活性金属である貴金属は、特に制限されないが、例えば、金、白金、銀、パラジウム、ロジウム、ルテニウム、オスミウム、イリジウムなどを例示することができる。これらのなかでは、金が好ましい。活性金属である貴金属は、１種を単独で用いても良いが、２種以上を併用してもよい。
貴金属の形態は、特に制限されず、金属錯体の中心金属、イオン交換サイトの陽イオン、粒子状、線状、チューブ状の何れであってもよいが、粒子状のものが好ましい。粒子の大きさも、特に制限されないが、超微粒子であることが好ましい。貴金属粒子の平均粒子径は、通常約250nm以下、好ましくは1〜10nm程度である。なお、金属微粒子の平均粒子径は、透過電子顕微鏡法による測定値とする。
上記貴金属を担持させる担体は、特に制限されず、金属酸化物、活性炭、ポリマー、あるいはこれらの２種以上の混合体のいずれであってもよいが、金属酸化物であることが好ましい。
金属酸化物としては、例えば、チタン、アルミニウム、珪素、マグネシウム、バナジウム、クロム、マンガン、鉄、コバルト、銅、亜鉛、ガリウム、ゲルマニウム、ストロンチウム、イットリウム、ジルコニウム、カドミウム、インジウム、錫、アンチモン、バリウム、ランタン、ハフニウム、タリウム、タングステン、レニウム、リン、セリウムなどの少なくとも一種を含む酸化物を例示することができる。担体である金属酸化物は、一種のみを用いてもよく、或いは上記の元素を含む酸化物の混合物であってもよく、或いは複合酸化物であってもよい。複合酸化物としては、例えば、チタニア-シリカ、シリカ-アルミナ、チタニア-アルミナ、シリカ-ジルコニア、シリカ-バナジアなどを例示することができる。
これらの中では、チタニア、アルミナ、シリカ、ジルコニア、酸化亜鉛、セリア、酸化マンガン、マグネシアなどが好ましく、チタニア、アルミナ、シリカなどが特に好ましい。
本発明で好ましく適用される貴金属担持触媒は、金-チタニア、金-アルミナ、金-シリカ、白金-チタニア、白金-シリカ、白金-アルミナ、銀-チタニア、銀-アルミナ、銀-シリカである。
かかる触媒が適用される反応としては、例えば水素化、脱水素化、脱硫、部分酸化、完全酸化のように含炭素化合物が係わる反応であれば、特に制限されない。このような、反応としては、COなどの可燃ガスのCO2への酸化反応、ホルムアルデヒドのCO2への酸化反応、水素の水への酸化反応、アルカン、アルケン、アルキンおよび芳香族化合物の酸化反応などの可燃物の酸化反応などを例示することができる。アルカン、アルケン、アルキンおよび芳香族化合物の酸化反応における生成物としては、これらに対応するアルコール、アルデヒド、カルボン酸、エポキサイド；CO、CO2などを例示することができる。
本発明においては、上記反応等に適用され、所定時間使用することにより触媒活性が低下した貴金属担持触媒に対し、酸素含有ガスの存在下に低温プラズマを印加することにより、触媒の再生を行う。
ここで、「酸素含有ガスの存在下」とは「酸素含有ガス雰囲気」と同義であり、酸化性のガス(酸素、オゾン、一酸化窒素、二酸化窒素など)を含み、かつ低温時に触媒を汚染する成分を形成しない雰囲気を意味する。
触媒に対するプラズマ印加時の酸素含有雰囲気は、触媒の汚染物質の種類および汚染の程度などにより異なり、特に限定されるものではないが、5%以上の酸化性ガス濃度、より好ましくは純酸素の方が望ましい。
本発明の触媒の再生操作においては、酸素含有ガスの存在下に、上記貴金属担持触媒に対して、低温プラズマを印加することが必要である。
本発明でいう、「低温プラズマ」とは、常温で発生させることができる放電プラズマであって、この放電現象で生じ高速電子、荷電粒子、及びこれらの衝突から生じた励起化学種を含む雰囲気を意味する。
本発明においては、触媒の活性を回復させる強度の投入電力密度を持った低温プラズマを印加することが好ましい。このような低温プラズマとしては、処理触媒量(g)に対する導入エネルギーと定義する比投入エネルギーで通常0.1〜10W/g程度、より好ましくは0.2〜2W/g程度のエネルギーを含む無声放電、沿面放電、パルス放電、強誘電体ペレット充填型放電、あるいはこれらを複合させた放電方式から発生させる放電プラズマなどが例示される。同条件を超える範囲、すなわちエネルギーが小さすぎる場合では安定したプラズマが得られず、また大きすぎる場合はアーク放電等の熱プラズマを併発することによる反応器内の温度上昇により、金超微粒子の凝集を生じさせるため、好ましくない。
本発明でいう、「低温プラズマ」とは、常温で発生させることができる放電プラズマであって、この放電現象で生じ高速電子、荷電粒子、及びこれらの衝突から生じた励起化学種を含む雰囲気を意味する。
本発明においては、触媒の活性を回復させる強度の投入電力密度を持った低温プラズマを印加することが好ましい。このような低温プラズマとしては、処理触媒量(g)に対する導入エネルギーと定義する比投入エネルギーで通常0.1〜10W/g程度、より好ましくは0.2〜2W/g程度のエネルギーを含む無声放電、沿面放電、パルス放電、強誘電体ペレット充填型放電、あるいはこれらを複合させた放電方式から発生させる放電プラズマなどが例示される。同条件を超える範囲、すなわちエネルギーが小さすぎる場合では安定したプラズマが得られず、また大きすぎる場合はアーク放電等の熱プラズマを併発することによる反応器内の温度上昇により、金超微粒子の凝集を生じさせるため、好ましくない。
また、低温プラズマの印加時間も、低温プラズマ発生法の種類、触媒の汚染物質の種類および汚染の程度などにより異なり、触媒が再生される限り特に限定されるものではないが、通常1分以上であり、より好ましくは1時間以上である。
触媒再生に際しての低温プラズマ処理は、常温で行うことができる。なお、本発明は、必要に応じて、貴金属粒子の凝集を生じない程度の加熱条件下に(0〜350℃程度)実施しても良い。加熱下に低温プラズマ処理を行う場合には、触媒の再生時間を短縮することができ、或いは再生後の触媒活性をより一層改善することができる。
触媒再生に際しての低温プラズマ処理は、10気圧（1.0×106Pa）以下の比較的容易に達成できる圧力条件下で行うことができ、必要に応じて、貴金属粒子のスパッタリングを生じない程度の減圧条件下、好ましくは1.0×102〜3.0×105 Pa下で実施しても良い。減圧下で低温プラズマ処理を行う場合には、触媒の再生時間を短縮することができ、或いは再生後の触媒活性をより一層改善することができる。
触媒再生に際しての低温プラズマ処理は、10気圧（1.0×106Pa）以下の比較的容易に達成できる圧力条件下で行うことができ、必要に応じて、貴金属粒子のスパッタリングを生じない程度の減圧条件下、好ましくは1.0×102〜3.0×105 Pa下で実施しても良い。減圧下で低温プラズマ処理を行う場合には、触媒の再生時間を短縮することができ、或いは再生後の触媒活性をより一層改善することができる。
本発明方法による再生を終えた貴金属担持触媒は、それぞれの反応において、新規な触媒と同様にして再使用することができる。
つぎに、本発明に係る触媒再生装置を図１、２により説明する。
図１に示されるように、本発明の触媒再生装置は、触媒活性が低下した貴金属担持触媒を収納する装置(1)と該貴金属担持触媒(2)に対して酸素含有ガス(4)を供給する手段と低温プラズマを印加する手段(3)とを備えたことを特徴としている。
また、ロータリーポンプ(5)、酸素含有ガス流量調整バルブ(6)、排気流量調整バルブ(7)を利用することにより、酸素含有ガスの圧力を任意に調整し、触媒の汚染状況に応じた適切な再生ガス雰囲気を作り出すことができる。
触媒活性が低下した貴金属担持触媒（失活触媒）を収納する装置としては、失活触媒を保持収納できるものであれば、特に制限はなく、低温プラズマ印加手段は、収納容器の空間全体に拡がり、失活触媒の表面にムラ無くプラズマが到達するものであれば、制限はなく、用途によっては触媒とともに放電プラズマの発生に必要な電極を有する構造のものが例示される。
この中でも、失活触媒を再生した後、該再生触媒をそのままの配置形態で再生前の反応に供することができる構造を有するものが好ましい。このような好ましい触媒再生装置としては例えば図２に示されるものが例示される。
図２において、触媒再生装置(1)としては、通常、原料ガス(a)導入バルブ(8)と生成物(b)取り出しバルブ(9)を有する従来公知の触媒反応器がそのまま利用される。また、触媒反応が進行している間、再生用酸素含有ガス流量調整バルブ(6)、排気流量調整バルブ(7)は閉じられ、また、低温プラズマを印加する手段(3)は休止状態になっている。一方、触媒活性が低下してきた場合には、(8)、(9)を止め、酸素含有ガス(4)、ロータリーポンプ(5)、再生用酸素含有ガス流量調整バルブ(6)、排気流量調整バルブ(7)、及びプラズマ印加手段(3)を適切にコントロールして、触媒再生装置(1)の内部に設置された該貴金属担持触媒(2)を反応システムに組み込んだまま、再生処理することができる。また、酸素含有ガスを供給する手段は失活触媒に対して触媒を汚染する成分を形成しない雰囲気をもたらすものであれば、制限はなく、汚染されていない外気を酸素含有ガス(4)の代わりに活用する手段等が例示される。
図１に示されるように、本発明の触媒再生装置は、触媒活性が低下した貴金属担持触媒を収納する装置(1)と該貴金属担持触媒(2)に対して酸素含有ガス(4)を供給する手段と低温プラズマを印加する手段(3)とを備えたことを特徴としている。
また、ロータリーポンプ(5)、酸素含有ガス流量調整バルブ(6)、排気流量調整バルブ(7)を利用することにより、酸素含有ガスの圧力を任意に調整し、触媒の汚染状況に応じた適切な再生ガス雰囲気を作り出すことができる。
触媒活性が低下した貴金属担持触媒（失活触媒）を収納する装置としては、失活触媒を保持収納できるものであれば、特に制限はなく、低温プラズマ印加手段は、収納容器の空間全体に拡がり、失活触媒の表面にムラ無くプラズマが到達するものであれば、制限はなく、用途によっては触媒とともに放電プラズマの発生に必要な電極を有する構造のものが例示される。
この中でも、失活触媒を再生した後、該再生触媒をそのままの配置形態で再生前の反応に供することができる構造を有するものが好ましい。このような好ましい触媒再生装置としては例えば図２に示されるものが例示される。
図２において、触媒再生装置(1)としては、通常、原料ガス(a)導入バルブ(8)と生成物(b)取り出しバルブ(9)を有する従来公知の触媒反応器がそのまま利用される。また、触媒反応が進行している間、再生用酸素含有ガス流量調整バルブ(6)、排気流量調整バルブ(7)は閉じられ、また、低温プラズマを印加する手段(3)は休止状態になっている。一方、触媒活性が低下してきた場合には、(8)、(9)を止め、酸素含有ガス(4)、ロータリーポンプ(5)、再生用酸素含有ガス流量調整バルブ(6)、排気流量調整バルブ(7)、及びプラズマ印加手段(3)を適切にコントロールして、触媒再生装置(1)の内部に設置された該貴金属担持触媒(2)を反応システムに組み込んだまま、再生処理することができる。また、酸素含有ガスを供給する手段は失活触媒に対して触媒を汚染する成分を形成しない雰囲気をもたらすものであれば、制限はなく、汚染されていない外気を酸素含有ガス(4)の代わりに活用する手段等が例示される。
以下に、実施例を示し、本発明の特徴とするところをより一層明確にする。
実施例１
［Au/TiO2触媒の調製］
先ず、Au(仕込量3重量%)/TiO2触媒を調製した。触媒の調製は、S. Tsubota,D.A.H. Cunningham, Y. Bando and M. Haruta, Preraration of Catalysts VI,eds.G.Poncelet et al, 227(Elsevier, Amsterdam, 1995)に記載の方法に従って行った。
すなわち、塩化金酸四水和物と二酸化チタン(アナターゼ:ルチル=3:1、比表面積約50m2/gを平均粒径2mmのビーズ状に加工)とを用い、析出沈殿法により形成された沈殿物を空気中400℃で4時間焼成した。得られた触媒の金超微粒子の平均粒径は約3nmであった。
先ず、Au(仕込量3重量%)/TiO2触媒を調製した。触媒の調製は、S. Tsubota,D.A.H. Cunningham, Y. Bando and M. Haruta, Preraration of Catalysts VI,eds.G.Poncelet et al, 227(Elsevier, Amsterdam, 1995)に記載の方法に従って行った。
すなわち、塩化金酸四水和物と二酸化チタン(アナターゼ:ルチル=3:1、比表面積約50m2/gを平均粒径2mmのビーズ状に加工)とを用い、析出沈殿法により形成された沈殿物を空気中400℃で4時間焼成した。得られた触媒の金超微粒子の平均粒径は約3nmであった。
［触媒再生装置］
本実施例では、図３に示す低温プラズマ印加手段を備えた触媒再生装置を用いた。この触媒再生装置は、石英管（内径13mm,、有効長20cm）の内壁面にコイル状の高電圧電極を設けた沿面放電型の構造を有し、その内部にペレット状のAu/TiO2触媒が充填される。また、石英管の外側に設置電極となる銀ペーストが塗布されている。
図３において、Aは触媒再生装置の外観図を、Bはガス流れ方向に対する触媒再生装置の断面図を、Cはガス流れ方向の触媒再生装置の断面図を示したものである。図中、1は誘電体であるガラス管、2はそれに銀ペーストを塗布した外部電極、3はガラス管内壁に密着するようにコイル状の配置した内部電極である。4は触媒再生法に供されるビーズ状の成型した金触媒である。5は交流高電圧電源、6はアースを示す。再生のためプラズマを触媒に印加する場合には、5により高電圧を3の内部電極に対し印加することにより、外部電極に覆われた3のガラス管内部に低温プラズマが発生する。プラズマは空間全体に広がるため、4の失活した触媒表面に対しムラ無く再生処理が行われる。
本実施例では、図３に示す低温プラズマ印加手段を備えた触媒再生装置を用いた。この触媒再生装置は、石英管（内径13mm,、有効長20cm）の内壁面にコイル状の高電圧電極を設けた沿面放電型の構造を有し、その内部にペレット状のAu/TiO2触媒が充填される。また、石英管の外側に設置電極となる銀ペーストが塗布されている。
図３において、Aは触媒再生装置の外観図を、Bはガス流れ方向に対する触媒再生装置の断面図を、Cはガス流れ方向の触媒再生装置の断面図を示したものである。図中、1は誘電体であるガラス管、2はそれに銀ペーストを塗布した外部電極、3はガラス管内壁に密着するようにコイル状の配置した内部電極である。4は触媒再生法に供されるビーズ状の成型した金触媒である。5は交流高電圧電源、6はアースを示す。再生のためプラズマを触媒に印加する場合には、5により高電圧を3の内部電極に対し印加することにより、外部電極に覆われた3のガラス管内部に低温プラズマが発生する。プラズマは空間全体に広がるため、4の失活した触媒表面に対しムラ無く再生処理が行われる。
［未使用のAu/TiO2 触媒（高活性触媒）のCO 酸化活性］
まず、上記で得た未使用のAu/TiO2触媒を低温プラズマ反応器に充填し、プラズマを印加せずにCO酸化反応を室温で行った。COの初期濃度は1000ppmとした。テストガスは酸素20%に調製した模擬空気であり、総流量は4〜24 L/minとした。これは空間速度で22,000〜130,000h-1に相当する。
プラズマの発生には、ファンションジェネレーターと高電圧アンプで構成されたAC 高電圧電源を用いた。印加電圧と周波数は、それぞれ〜30kVpk-pk、〜600 Hz の範囲に設定した。放電電力と比投入エネルギーは、V-Q リサージュ法により求めた。処理ガスの単位流量当り投入したエネルギーとして定義される比投入エネルギーは、式(1)に示すように、放電電力(Pdis; watt)とガス流量(Q f; L/min)から次のように求めた。
SIE（J/L）＝Pdis／Qf×60 (1)
ガスの分析には、光路長6.4m のガスセルを装備したFTIR を用い、定量分析を行った。
その結果を図４に示す。図４から、未使用のAu/TiO2 触媒は、CO 酸化に対して非常に高い活性を示し、空間速度130,000h-1 の条件でも98%以上のCO 転換率が得られていることが分かる。
まず、上記で得た未使用のAu/TiO2触媒を低温プラズマ反応器に充填し、プラズマを印加せずにCO酸化反応を室温で行った。COの初期濃度は1000ppmとした。テストガスは酸素20%に調製した模擬空気であり、総流量は4〜24 L/minとした。これは空間速度で22,000〜130,000h-1に相当する。
プラズマの発生には、ファンションジェネレーターと高電圧アンプで構成されたAC 高電圧電源を用いた。印加電圧と周波数は、それぞれ〜30kVpk-pk、〜600 Hz の範囲に設定した。放電電力と比投入エネルギーは、V-Q リサージュ法により求めた。処理ガスの単位流量当り投入したエネルギーとして定義される比投入エネルギーは、式(1)に示すように、放電電力(Pdis; watt)とガス流量(Q f; L/min)から次のように求めた。
SIE（J/L）＝Pdis／Qf×60 (1)
ガスの分析には、光路長6.4m のガスセルを装備したFTIR を用い、定量分析を行った。
その結果を図４に示す。図４から、未使用のAu/TiO2 触媒は、CO 酸化に対して非常に高い活性を示し、空間速度130,000h-1 の条件でも98%以上のCO 転換率が得られていることが分かる。
［使用済みAu/TiO2 触媒（失活触媒）の調製とその酸化活性および再生］
上記未使用のAu/TiO2 触媒を、過酷な汚染空気雰囲気下に長時間接触させて、被毒処理し、使用済みAu/TiO2 触媒を調製した。この触媒のCO 酸化活性は図４に示されるように完全に失われている。この原因としては、CO 酸化の活性点が汚染物質によって覆われてしまったためと考えられる。
この触媒活性を完全に失った使用済みAu/TiO2 触媒を酸素雰囲気下でプラズマ処理し再生を試みた。
再生条件として、プラズマの放電電力と処理時間をそれぞれ10.9Wと30 分とした。再生したAu/TiO2 触媒に再び1000ppm のCO ガスを流すと、空間速度22,000 h-1 ではCO 転換率88％まで活性が回復した。この触媒を電子顕微鏡で観測を行い、微粒子金触媒の活性金属が、プラズマによって凝集を起こしていないことを確認された。このことから、本発明では触媒の活性点を覆っている汚染物質を効果的に除去できることが分かる。
上記未使用のAu/TiO2 触媒を、過酷な汚染空気雰囲気下に長時間接触させて、被毒処理し、使用済みAu/TiO2 触媒を調製した。この触媒のCO 酸化活性は図４に示されるように完全に失われている。この原因としては、CO 酸化の活性点が汚染物質によって覆われてしまったためと考えられる。
この触媒活性を完全に失った使用済みAu/TiO2 触媒を酸素雰囲気下でプラズマ処理し再生を試みた。
再生条件として、プラズマの放電電力と処理時間をそれぞれ10.9Wと30 分とした。再生したAu/TiO2 触媒に再び1000ppm のCO ガスを流すと、空間速度22,000 h-1 ではCO 転換率88％まで活性が回復した。この触媒を電子顕微鏡で観測を行い、微粒子金触媒の活性金属が、プラズマによって凝集を起こしていないことを確認された。このことから、本発明では触媒の活性点を覆っている汚染物質を効果的に除去できることが分かる。
なお、上記実施例は、使用済み触媒として、Au/TiO2 触媒（失活触媒）を用いたものであるが、同様に失活した他の貴金属担持触媒に対しても、本発明の触媒再生法を適用することにより、その触媒活性が回復することが確認されている。
Claims (6)
- 触媒活性が低下した貴金属担持触媒に、酸素含有ガスの存在下、低温プラズマを印加することを特徴とする貴金属担持触媒の再生方法。
- 低温プラズマとして、無声放電、沿面放電、パルス放電、強誘電体ペレット充填型放電、あるいはこれらを複合させた放電方式から発生させる放電プラズマを用いることを特徴とする請求項１の触媒再生法。
- 酸素含有ガスが、酸素、オゾン、一酸化窒素、一酸化二窒素および二酸化窒素から選ばれたガスの少なくとも一種類のガス濃度が５％以上である酸化性ガスを含む雰囲気で再生処理を行うことを特徴とする請求項１又は２の触媒再生法。
- ０〜３５０℃の温度条件下で再生を行うことを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の触媒再生法。
- １．０×１０２〜１．０×１０６Ｐａの圧力下で再生を行うことを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の触媒再生法。
- 触媒活性が低下した貴金属担持触媒を収納する装置と該貴金属担持触媒に対して酸素含有ガスを供給する手段と低温プラズマを印加する手段とを備えた貴金属担持触媒の再生装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2006229177A JP4682363B2 (ja) | 2006-08-25 | 2006-08-25 | 貴金属担持触媒の再生方法および再生装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2006229177A JP4682363B2 (ja) | 2006-08-25 | 2006-08-25 | 貴金属担持触媒の再生方法および再生装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2008049282A JP2008049282A (ja) | 2008-03-06 |
| JP4682363B2 true JP4682363B2 (ja) | 2011-05-11 |
Family
ID=39233813
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2006229177A Expired - Fee Related JP4682363B2 (ja) | 2006-08-25 | 2006-08-25 | 貴金属担持触媒の再生方法および再生装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP4682363B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7952324B2 (en) | 2002-05-13 | 2011-05-31 | Access Business Group International Llc | Contact-less power transfer |
Families Citing this family (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN102179258B (zh) * | 2011-03-24 | 2012-10-24 | 清华大学 | 一种V2O5-WO3/TiO2催化剂碱金属中毒后的再生方法 |
| FR2975018B1 (fr) * | 2011-05-10 | 2016-11-25 | Commissariat Energie Atomique | Dispositif pour le traitement des gaz par plasma de surface |
| JP5943280B2 (ja) | 2012-06-12 | 2016-07-05 | 公立大学法人首都大学東京 | 金クラスター触媒及びその製造方法 |
| CN106000421B (zh) * | 2015-02-25 | 2018-07-27 | 宁波高新区起兴机电有限公司 | 一种三元催化剂的再生方法 |
| CN112563526A (zh) * | 2019-09-26 | 2021-03-26 | 荆门市格林美新材料有限公司 | 一种氢氧燃料电池阳极催化剂的再生方法 |
| CN111167525A (zh) * | 2020-01-09 | 2020-05-19 | 中国科学院电工研究所 | 一种废平衡剂等离子体的处理工艺和装置 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005230627A (ja) * | 2004-02-17 | 2005-09-02 | National Institute Of Advanced Industrial & Technology | 低温プラズマを用いる排ガスの浄化方法及びその浄化装置 |
-
2006
- 2006-08-25 JP JP2006229177A patent/JP4682363B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005230627A (ja) * | 2004-02-17 | 2005-09-02 | National Institute Of Advanced Industrial & Technology | 低温プラズマを用いる排ガスの浄化方法及びその浄化装置 |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7952324B2 (en) | 2002-05-13 | 2011-05-31 | Access Business Group International Llc | Contact-less power transfer |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2008049282A (ja) | 2008-03-06 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP4682363B2 (ja) | 貴金属担持触媒の再生方法および再生装置 | |
| JP5030139B2 (ja) | 貴金属ナノ粒子担持金属酸化物触媒を用いた低温酸化反応の促進方法 | |
| Chen et al. | Plasma assisted catalytic decomposition of CO2 | |
| KR101114167B1 (ko) | 배기 가스 정화용 촉매의 재생 장치 및 재생 방법 | |
| Kim et al. | Catalyst regeneration and activity enhancement of Au/TiO2 by atmospheric pressure nonthermal plasma | |
| JP4759739B2 (ja) | エチレン分解触媒 | |
| Hossain et al. | Nonthermal plasma in practical-scale honeycomb catalysts for the removal of toluene | |
| JP3944094B2 (ja) | 光触媒の製造方法、光触媒および気体浄化装置 | |
| JPH11100695A (ja) | 光触媒活性を有するチタン材の製造方法 | |
| Zhang et al. | Catalytic decomposition of low level ozone with gold nanoparticles supported on activated carbon | |
| JP2016193428A (ja) | 触媒担持電極およびそれを用いたガス処理装置 | |
| JP5622353B2 (ja) | 気相中の一酸化炭素を二酸化炭素に光酸化する方法 | |
| Ali et al. | Effect of Au precursor and support on the catalytic activity of the nano-Au-catalysts for propane complete oxidation | |
| JP2006312150A (ja) | 酸化触媒、一酸化炭素の除去方法、燃料電池用燃料精製装置および燃料電池発電装置 | |
| US10835854B2 (en) | Process for low temperature gas cleaning with ozone and a catalytic bag filter for use in the process | |
| JP2000225321A (ja) | 脱臭用触媒体及びそれを用いた脱臭装置。 | |
| JP4456230B2 (ja) | 金超微粒子担持触媒の再生方法 | |
| JP2004089953A (ja) | ガス中に含まれる有機物質の連続的な分解除去方法 | |
| JP4469979B2 (ja) | アルコール類又はその水溶液から水素を発生させるための光触媒及びその製造方法並びにそれを用いた水素の製造方法 | |
| JP2005230645A (ja) | 光触媒と、これを用いる水素ガス製造方法 | |
| JP2002210366A (ja) | ＮＯｘ浄化用プラズマアシスト触媒 | |
| Deli et al. | Experimental study on indoor air cleaning technique of nano-titania catalysis under plasma discharge | |
| JP5867670B2 (ja) | 揮発性有機化合物の分解除去方法 | |
| KR101235015B1 (ko) | 허니컴 흡착소자와 오존을 이용한 휘발성 유기화합물(브이오시) 처리 시스템 및 이를 이용한 브이오시 처리방법 | |
| JP7117867B2 (ja) | メタン除去システム及びメタン除去方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20080421 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20100721 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100810 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100906 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20110118 |
|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20110119 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140218 Year of fee payment: 3 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4682363 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140218 Year of fee payment: 3 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |