JP4678687B2 - カーボンナノ構造物の製造方法及び同製造装置 - Google Patents
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- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B32/00—Carbon; Compounds thereof
- C01B32/15—Nano-sized carbon materials
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- B01J35/30—
Description
図21は、上記原料吹き付け式カーボンナノ構造物合成装置において、原料ガスの供給時における原料ガス流量の初期揺らぎ時間や立上り時間を無くしたカーボンナノ構造物合成装置の概略構成図である。
キャリアガス容器100から送出されるHe等のキャリアガスはレギュレータ101により減圧された後、マスフローコントローラなどのキャリアガス流量制御器102により所定流量に調整され、キャリアガスバルブ103調整により必要なタイミングで供給される。
なお、本発明は、以下に述べるように、良質のカーボンナノ構造物の製造に好適な触媒に関するものを含むが、本発明者らの一部により、カーボンナノ構造物の成長過程における触媒の物性変動については非特許文献1により開示されている。
このとき、触媒微粒子径は昇温工程の過程で必要以上に大きくなり過ぎたり、必要以上に酸化されすぎることにより良質のカーボンナノ構造物の形成が困難になる。
従って、本発明は、触媒の昇温工程から緩慢な連続的成長工程至る過程において、雰囲気ガス(キャリアガス)や原料ガス中の微量成分(例えば、酸素、水分、DMF、アセトン(ジメチルホルムアミド)の濃度を制御して、カーボンナノ構造物の連続的成長メカニズムを最適化でき、高品質のカーボンナノ構造物を製造することのできるカーボンナノ構造物の製造方法、同製造に用いるカーボンナノ構造物成長用触媒、同製造用原料ガスとキャリアガス及び同製造装置を提供するものである。
本形態及び後述の形態における酸化性ガスとは、触媒である鉄元素に酸素原子を結合させる酸化作用を有するガスを称し、分子式中に酸素原子を含有して酸素原子を触媒鉄に直接的に付与する酸素含有ガスだけでなく、他の物質成分から酸素原子を抜き出して触媒鉄に間接的に付与するガスを含み、結果的に触媒鉄を酸化させる全ての酸化性ガスを包含する。
なお、本発明における酸化性ガスには分子式中に酸素を含む酸化性ガスを使用でき、本形態で列挙した酸化性ガス以外の酸化性ガスを用いてもよい。
なお、本発明における酸化性ガスの混入割合(濃度)は、反応室に供給する原料ガス及び/又はキャリアガスとの混合体積比であり、下記の発明の形態のうちガス混入割合形態においても同様である。
原料ガス中の水分、酸素、CO2、CO、O3、H2O2、アセトン、アルコール、DMFなどの混合濃度は、当然ながらカーボンナノ構造物の成長速度に合わせたカーボン源ガスの濃度によって触媒上に堆積するカーボンが酸化するのに必要十分な量にあわせることが必要である。
図2は本発明の実施形態に係るカーボンナノ構造物高効率合成装置の概略構成図である。この高効率合成装置は、CCVD法を使用してカーボンナノ構造物を製造するカーボンナノ構造物製造装置である。反応室4は反応ヒータ1により加熱され、この反応室4に触媒体6が配置される。この触媒体6の表面にカーボンナノ構造物2が触媒化学気相成長法により成長し、この実施形態では、カーボンナノ構造物2としてのカーボンナノチューブが図示されている。
重量法によって所定の濃度に充填された酸素ボンベ(図示せず)から酸素はマスフローコントローラ(MFC)からなる酸素流量制御器13により所定流量に調節される。酸素流量制御器13は原料ガス流入路9に連通する流入路に設けられており、電磁三方弁14及び開閉バルブ11を介して反応室4に酸素が供給される。なお、開閉バルブ11手前のキャリアガスの導入路には酸素分析装置21が設けられており、この酸素分析装置21には酸素ボンベからの酸素も導入され、反応室4に適正濃度の酸素が供給されるように監視している。
水分添加装置15は加熱ヒータを備えた水容器からなり、精製されたHe、Arなどのキャリアガスをガス流量制御器16を介して水分添加装置15の加温水中に導入して、流量混合法により水分を添加した水分とキャリアガスの混合ガスが電磁三方弁18及び開閉バルブ11を介して反応室4に供給される。キャリアガスは水分添加装置15の出口側でもガス流量制御器20を介して合流し混合される。水分とキャリアガスの混合ガス導入路に設けられた監視用バイパス路19に、水分分析装置17が設けられており、水分分析装置17により反応室4に適正濃度の水分が供給されるように監視している。
CaC2+2H2O → Ca(OH)2 + C2H2+32kcal/mol (式1)
反応温度による安定性、表面の平滑性、価格並びに再利用の観点から、シリコン基板又は、特に、図3の(3A)に示すように、シリコン基板S1表面を十分に酸化させたシリコン酸化層S2を備えたシリコン基板を利用し、カーボンナノ構造物を合成する条件である600℃〜1200℃程度の温度において触媒である鉄と化合物を形成しない材質であることが重要である。
触媒を成膜した基板においては、図3の(3A)に示すように、シリコン酸化層S2上の触媒層S3において、昇温時に触媒の酸化と微粒子化が同時に起こる。この時にキャリアガスの微量不純物の濃度が触媒の酸化、微粒子化に大きな影響を与える。
これまで、昇温過程において酸素や空気のような酸素濃度の十分に高い雰囲気で昇温を行った場合、触媒が強く酸化されすぎるため、通常の反応温度である700℃では触媒は十分に粒子化せずにカーボンナノチューブの生成しないことが判明している。
原料ガスであるアセチレンガスを供給開始すると、ナノチューブの合成反応は初期の急速な成長と、アモルファスカーボンを生成しながらの緩慢な成長の2段階の反応による成長があることが判明している。
特に初期の急速な反応は、鉄触媒表面での下記式2及び式3を主体とする反応自体を律速とする反応である。
Fe2O3+C2H2 → 2FeC+H2O+CO2 (式2)
Fe3O4+C2H2 → FeO+2FeC+H2O+O2 (式3)
しかし、急速な第1段階の成長については、触媒が保持している酸素量が反応によって消費されることで停止し、通常は原料ガスから供給される過剰なアモルファスカーボンにより触媒表面が覆われることで触媒と原料ガスの接触が困難となり、最終的に反応停止に至る。
緩慢な成長については、下記式4及び式5を主体とする、炭素の表面拡散を律速とする反応であると理解できる。
FeO+C2H2 → FeC + H2O + C (式4)
Fe+C2H2 → FeC + C + H2 (式5)
図3の(3B)に示すように、アセチレンに接触した触媒粒子Dには、炭素と結合した粒子状の触媒の炭化物(FeC)表面にカーボンナノチューブの壁を構成する多層レイヤFが形成され、触媒と原料ガスが反応して生成したアモルファスカーボンが多層レイヤFを押し出すことによりカーボンナノチューブが形成される。(3B)の矢印はカーボンの拡散方向を示す。
成長後の触媒微粒子の透過型電子顕微鏡写真(図示せず)から分かるように、最終的には触媒微粒子Dは粒子全体が1つの炭化物の結晶となることが判明している。
本実施形態に係るカーボンナノ構造物の高効率合成装置による製造例を以下に説明する。キャリアガスに一般He、原料ガスに一般アセチレンを利用して高配向型カーボンナノチューブを製造した例である。この時のHe中の微量成分としての酸素は50ppb、水分は0.5ppm以下、原料ガス中の微量成分としてのDMFは100ppm、水分は200ppmであった。原料ガス濃度は23%、原料ガス添加時間(CVD時間)は30SECであった。この製造条件において、高密度で100μm程度の長い高配向カーボンナノチューブが成長する。この実施例1は、図18に示した触媒成膜工程および昇温工程において、キャリアガス中の不純物である酸素により酸化を適度に進行させる方式を採用している。その結果、原料ガスを短時間供給するだけで、急速成長条件のみを利用してカーボンナノチューブを成長させることができ、理想的結果を得ることができたものである。
また、原料ガスの短時間(30sec)添加を行っていることにより、結果的に1分程度で原料ガス濃度は減少してくため、過度に原料ガスによる触媒上のカーボン分の堆積が抑制され、緩慢な成長に入っていって原料濃度がゼロになった時点でカーボンナノチューブの成長が停止したものである。
<論文> <成長高さ> <成長速度>
Chem.Phys.Lett. 362(2002)385. 1.5mm(30min) 〜50μm/min
Appl.Phys.Lett.77(2000)830. 12μm 〜6μm/min
Nature 338(1997)52. 40μm 3.3μm/min
Science 282(1998)1105. 50μm 2μm/min
実施例1(本発明者等) 100μm(30sec) 200μm/min
実施例2は、本実施形態に係るカーボンナノ構造物の高効率合成装置における酸素導入の効果を確認するために行った測定例である。原料ガス濃度は23%
原料ガス添加時の水分濃度<0.5ppm、DMF<10ppmで酸素以外の酸化性ガスの影響が極めて小さい濃度であることを確認してCVDをおこなった。
図5の(5A)〜(5C)は、鉄触媒を使用し、酸素濃度を、0(含有なし)、0.1〜0.5ppm、1ppmで、ヘリウムキャリアガス中に含有させ、カーボンナノチューブ(CNT)の成長を試みた触媒表面のSEM写真を示す。酸素が含有されていない(5A)ではCNTの成長はない。0.1〜0.5ppmの酸素含有の(5B)の場合、鉄触媒がマグネタイトになり、良質のCNTが成長した。1ppmと酸素を多くした(5C)の場合、鉄触媒の酸化が進みすぎてヘマタイトになり、良質のCNTの成長が得られなかった。前掲の図1は、実施例2のカーボンナノチューブの成長直前における、触媒表面状態をAFMにより観察した結果を示す。また、図6〜図8は、図1の(1A)〜(1C)のそれぞれのカーボンナノチューブの成長直前のX線回折結果を示しており、上記のマグネタイト、ヘマタイトの存在を確認した。
実施例2によれば、キャリヤ中に適度な酸素を、例えば数百ppb含んだガスを用いることにより、適度な触媒の酸化およびカーボンナノチューブの生成時に原料ガスから余分に発生するアモルファスカーボンを酸化燃焼する働きにより、触媒と原料ガスの接触を維持し連続的なCNTの成長を達成できる。
実施例3は、本実施形態に係るカーボンナノ構造物の高効率合成装置における、鉄触媒状態と原料ガス(アセチレン)との反応時間の変化を確認するために行った測定例である。
実施例3では、X線回折装置の中にキャリアガス、原料ガスを導入し、所定の反応温度にすることで触媒のX線回折を確認しながらカーボンナノチューブの合成をおこなった。図9は鉄触媒状態と原料ガスとの反応時間の変化を示す。実施例3に使用したX線回折装置は、日本電子(株)製回折装置であり、セル内にヒータを設置して、カーボンナノ材料を合成しながらX線回折が観察可能な装置である。このX線回折装置による測定から、鉄触媒、マグネタイト触媒、ヘマタイト触媒のそれぞれにおける原料ガス(アセチレン)との反応時間変化a,b,cを比較すると、鉄触媒が最も反応が速く進み、マグネタイト触媒、ヘマタイト触媒の順で下がっていくことがわかる。
実施例4は、本実施形態に係るカーボンナノ構造物の高効率合成装置における水分導入の効果を確認するために行った測定例である。
CVD反応温度は670℃、原料ガスの濃度は13vol%である。キャリアガス、原料ガス中の酸素の影響を取り除くために、キャリアガスに大陽日酸(株)製超高純度Heガス(純度99,999%、酸素 <0.05ppm以下、水分 <0.5ppm、窒素 <0.1ppm、CO <0.02ppm、CO2 <0.02ppm、CH4 <0.01ppm)を用いており、原料ガスにはニチゴー日興(株)製超高純度アセチレン(C2H2:99.999%以上、O2<1ppm、N2<1ppm、CO<0.05ppm、CO2<0.1ppm、CH4<0.05ppm)を使用した。反応室4の手前で水分添加を行い、酸素分析装置21、水分分析装置17を用いて酸素濃度、水分濃度を計測した。
実施例5は、CVD成長温度を700℃で行ったもので、他の条件は実施例4と同様である。図15はCNT高さと水分濃度の関係である。CNT高さは水分濃度が約300ppmでピークを示している。実施例4に比べて反応温度が高いことにより、拡散律速である緩慢な成長段階における触媒表面の炭素の拡散速度が温度の影響で大きくなり、高いCNTの成長が観察された。また、拡散速度が大きいことにより式3、4に示された原料ガスと触媒の反応速度は拡散速度に応じて増大し、触媒上に堆積するカーボンの量は増加する。余分なカーボン分を燃焼させるための酸化性ガスである水分濃度は、実施例4に比べて100ppm多い300ppmの条件が最も長いCNTが成長する条件になることが判明した。
実施例6は、実施例4と同様のキャリアガス及び原料ガスを用いて、CVD反応温度670℃、原料ガスの濃度が3.8vol%、10分間CVD反応させた測定例である。実施例6おける触媒仕様は、シリコン基板表面に形成した1000Åの酸化シリコン層上に4nmのFe層を成膜したものを使用した。キャリアガス及び原料ガス流量はそれぞれ250、10SCCMであった。
実施例7は、カーボンナノチューブの成長途中でアセチレン濃度を複数段階可変にした場合の測定例である。図18は、アセチレン濃度を3段階可変にする場合のアセチレン濃度―反応時間関係図である。最初に3.8vol%、2分目から2.9 vol%、6分目に1.9 vol%に濃度変更して全体で10分間だけCNTを成長させた。この時のキャリャガス中の酸素濃度は50ppb、水分濃度<0.5ppmであり原料ガス添加時の酸素濃度は50ppb、水分濃度<0.5ppmであった。他の条件は実施例6と同様である。図19は成長したCNTのSEM像である。CVD途中で原料ガス濃度を低下させることで初期急激な成長における原料ガス供給量を満たし、かつ緩慢な成長における触媒上におけるカーボン分の堆積を抑えることで、連続的に成長するカーボンナノチューブのを実現できることがわかる。
酸化性ガスを用いたカーボンナノコイルの合成実験を行った。触媒は、ガラス基板上のITO薄膜(膜厚100nm)に鉄薄膜を20nmだけ蒸着したFe・In・Sn触媒を用いた。原料ガスは30SCCMのC2H2、キャリアガスは165SCCMのHeで、前記触媒を700℃に加熱された反応室に配置し、前記原料ガスとキャリアガスを反応室に30分間流通させた。このガス流通に際して、酸化性ガスである水分濃度が550〜650ppmではコイル収率は85%以上であったが、水分濃度が0.01ppm以下ではコイル収率は20%以下になった。コイル収率は、基板上のSEM写真のカーボンナノコイル本数を計測する方法により、定量的に把握することを行った。酸化性ガスを添加することによりカーボンナノコイルの連続的な成長を促進し、収率が増大した。従って、酸化性ガスを流通させると、コイル収率が増大することが分かった。
最後に、生成されたカーボンナノチューブを高温状態に長時間保持した場合に、カーボンナノチューブの形態がどのように変化するかを検討した。まず、原料ガス濃度を23vol%に調整して、700℃でカーボンナノチューブをCVD成長させた。成長したカーボンナノチューブを、700℃で10分間保持した場合と、700℃で720分間保持した場合を比較した。図20の(20A)は、10分間保持した場合のSEM像であり、カーボンナノチューブが形態的に保持されていることが分かる。他方、(20B)は、720分間保持した場合のSEM像であり、酸化が極度に進行して最適な粒子化が達成されず、カーボンナノチューブがうまく生成されなかったことが分かる。従って、カーボンナノチューブの形態形成には、高温状態の保持時間は数十分から2時間位が適当であり、成長後に反応室温度を低下させることが好ましい。
2 カーボンナノ構造物
3 ガス排出管路
4 反応室
5 開閉バルブ
6 触媒体
7 開閉バルブ
8 原料ガス流量制御器
9 原料ガス流入路
10 電磁三方弁
11 開閉バルブ
12 電磁三方弁
13 酸素流量制御器
14 電磁三方弁
15 水分添加装置
16 ガス流量制御器
17 水分分析装置
18 電磁三方弁
19 監視用バイパス路
20 ガス流量制御器
21 酸素分析装置
22 酸素流量制御器
23 酸素流量制御器
Claims (8)
- キャリアガスと原料ガスを反応室に供給し、前記原料ガスを前記反応室に流通させながら、前記反応室に配置された触媒によりカーボンナノ構造物を成長させるカーボンナノ構造物の製造方法において、鉄元素からなる触媒を前記反応室に予め配置し、前記原料ガスを供給して前記反応室に流通させる前に、前記キャリアガスとともに水び/又は酸素からなる酸化性ガスを前記反応室に供給し、前記触媒をマグネタイトに転化するマグネタイト転化工程を有することを特徴とするカーボンナノ構造物の製造方法。
- 前記マグネタイト転化工程の前に、還元性ガスを前記反応室に供給し、前記反応室に配置された前記触媒の酸化鉄成分を還元する触媒初期化工程を有する請求項1に記載のカーボンナノ構造物の製造方法。
- 前記マグネタイト転化工程の後、前記原料ガス及び前記キャリアガスとともに酸化性ガスを前記反応室に供給するカーボンナノ構造物成長工程を有する請求項1又は2に記載のカーボンナノ構造物の製造方法。
- 前記水は、前記原料ガスに対して0.5ppm以上650ppm以下の範囲であり、前記酸素は、前記原料ガスに対して50ppb以上1ppm未満の範囲であり、前記酸化性ガスが、さらにアセトン、DMF(ジメチルホルムアミド)、CO2 及びCOのうち少なくとも1つ以上を含む請求項1、2又は3に記載のカーボンナノ構造物の製造方法。
- 原料ガスを反応室に供給する原料ガス供給手段と、前記反応室に予め配置される、鉄元素からなる触媒とを具備し、前記原料ガス供給手段により前記原料ガスを供給して前記反応室に流通させながら、前記触媒によりカーボンナノ構造物を成長させるカーボンナノ構造物の製造装置であって、キャリアガスを前記反応室に供給するキャリアガス供給手段と、水及び/又は酸素からなる酸化性ガスを前記反応室に供給する酸化性ガス供給手段とを設け、前記原料ガスを供給して前記反応室に流通させる前に、前記キャリアガス供給手段及び前記酸化性ガス供給手段により前記キャリアガスとともに酸化性ガスを前記反応室に供給し、前記触媒をマグネタイトに転化することを特徴とするカーボンナノ構造物の製造装置。
- 前記反応室における前記マグネタイトに対して、前記原料ガス及び酸化性ガスを流通させる請求項5に記載のカーボンナノ構造物の製造装置。
- 前記酸化性ガスが、さらにアセトン、DMF(ジメチルホルムアミド)、CO2 及びCOのうち少なくとも1つを含む以上からなる請求項5又は6に記載のカーボンナノ構造物の製造装置。
- 還元性ガスを前記反応室に供給する還元性ガス供給手段を有し、前記触媒のマグネタイト転化の前に、前記還元性ガス供給手段により前記還元性ガスを前記反応室に供給し、前記反応室に配置された前記触媒の酸化鉄成分を還元する請求項5、6又は7に記載のカーボンナノ構造物の製造装置。
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