JP4676485B2 - キャブレター - Google Patents

Description

本発明は、国際特許出願公開第９９／５８８２９号に開示された種類のキャブレターに関する。そのようなキャブレターは、２サイクルエンジンとともに使用されるように意図され、その空気吸入口は、リッチ通路およびリーン通路と称される２つの別個の通路に分割される。キャブレターは、キャブレターバタフライ弁が実質的に完全に開いているときには、高エンジン負荷でリッチ空燃混合気をリッチ通路へ方向づけ、希薄混合気または実質的に純粋な空気をリーン通路内に方向づけるが、バタフライ弁が実質的に閉じているときには、低エンジン負荷で実質的に等しくリッチな混合気をリッチ通路およびリーン通路の両方内に方向づける。

キャブレターが使用されるエンジンは、クランクケース掃気型であり、燃焼スペースが、高エンジン負荷では層状給気すなわち空燃比が燃焼スペースの容量にわたって変動する給気で満たされるが、低エンジン負荷では実質的に均質な給気すなわち空燃比が燃焼スペースの容量にわたって実質的に同一である給気で満たされるように、配列される。これは、クランクケースの内部を２つまたはそれ以上の別個の容量に分割することによって、国際特許出願公開第９９／５８８２９号に開示されたエンジンで達成され、容量の一方はリッチ容量と称されリッチ通路と連通し、容量の他方はリーン容量と称されリーン通路と連通する。リッチおよびリーン容量は、異なる位置で燃焼スペースと連通する。

高エンジン負荷下では、燃焼スペースは、主に、リーン容量から実質的に純粋な空気で掃気される。残っている純粋な空気とリッチ容量からのリッチ空燃混合気は完全には混合せず、給気は層状化される。低負荷下では、リッチおよびリーン容量の両方に類似の比較的希薄な混合気があり、燃焼スペースの給気はしたがって実質的に均質である。

国際特許出願公開第９９／５８８２９号に開示されたキャブレターは、ここでは図１に非常に概略的に示される。キャブレター１は、リッチ６０およびリーン５０の流れ通路を平行に具備する流れ口を含み、それを通って、使用の際に、流れ方向に空気が流れ、実質的に平坦な仕切３０によって分離されており、少なくとも１つの燃料ジェット５がリッチ通路６０と連通し、仕切３０は開口部４０を含み、それに向けて燃料ジェット５が方向づけられ、実質的に平坦なバタフライ弁２０が開口部４０に受け取られ、流れ口が実質的に閉じられ開口部４０が実質的に開いている第１の位置と、流れ口が実質的に開き開口部４０が実質的に閉じられている第２の位置と、の間を旋回可能であるようにし、開口部４０の上流半体は上流半環状受座押縁４８によって画成され、第２の位置にあるときにバタフライ弁２０の表面の１つに係合する上流受座表面、および、上流受座表面とリーン通路５０へ向けて方向づけられる仕切３０のその表面との間に延在する第１の端表面を与え、開口部４０の下流半体は下流半環状受座押縁４９によって画成され、第２の位置にあるときにバタフライ弁２０の他方の表面に係合する下流受座表面、および、下流受座表面とリッチ通路へ向けて方向づけられる仕切３０のその表面との間に延在する第２の端表面を与える。

エンジンがアイドリングしているときには、バタフライ弁２０は、流れ通路５０、６０を実質的に阻止し、開口部４０を開く。ジェット５から排出された燃料の幾分は、開口部４０を通って流れることができ、したがって、気流によって通路５０および６０内へほぼ等しく運ばれる。

高負荷操作において、バタフライ弁２０は、流れ通路を阻止しないが、代わりに開口部４０を閉じ、ジェット５からスプレーされたすべての燃料が、リッチ通路６０内に流れるのを確実にする。実質的に純粋な空気が、リーン通路５０を通って流れる。
このキャブレターでの問題は、高負荷操作で、バタフライ弁２０が開口部４０を閉じるときには、ジェット５を出る燃料の幾分が、弁２０によって開口部４０を閉じることによって形成された封止を通って漏れる傾向があり、リーン通路５０内に脱出することである。この漏れは、結果として、掃気プロセス中にエンジンから高濃度の燃料が排出されることになり、所望のものよりも高い放出レベルを招く。

放出規制に合致するために、リッチ通路６０の燃料がリーン通路５０内に漏れないことが高度に望ましい。しかし、ゴムシール等の追加シールを使用することは、キャブレターの製造にコストおよび複雑さを加える。

リッチ通路６０からリーン通路５０への漏れは、弁２０の縁にわたる局所圧力勾配によることが本発明の発明者によって確認されている。キャブレターの内部幾何的形状は、弁２０のまわりに局所的な高圧および低圧のポケットを形成し、圧力は、リッチ通路６０の弁縁よりもリーン通路５０の弁縁で局所的に低いことがありうる。気体は高圧領域から低圧領域へ流れるため、リッチ通路６０の空気および燃料は、弁２０と仕切壁３０との間でリーン通路５０内に浸透する傾向がある。

本発明の目的は、弁縁にわたる圧力差を是正するためにキャブレターの幾何的形状を変えて、２つの通路の間に気密を形成することによって、簡単且つ効果的なやり方でリッチ通路からリーン通路内に気体が浸透する可能性を減少することである。弁および仕切の「リッチ表面」および「リーン表面」という用語は、それぞれ、リッチ通路およびリーン通路へ向けて方向づけられた表面を示すのに使用される。

本発明にしたがって、上記に参照された種類のキャブレターは、突起物が、好ましくは絶壁突起物が、リーン通路へ向けて方向づけられる仕切の表面に開口部の下流面に隣接して設置され、突起物は、使用の際に、弁の第２の位置で、淀み圧力がそれに形成されるように位置決めされる上流面を有することを特徴とする。

この特徴は、バタフライ弁の下流半体上でリーン通路の気流の圧力を増加してもよい。突起物は、バタフライ弁の下流側でリーン通路の流れ経路に閉塞を生じさせる。したがって、気流の圧力は、突起物に近づくにつれて増加し、次いで、突起物に対して淀む。これは、リーン通路の弁下流縁で高圧領域を形成し、リッチ通路チャネルからリーン通路内に流れが漏れる機会を大幅に減少する。

突起物は、少なくとも、バタフライ弁が装着される旋回ロッドがリーン通路内に突出する程度まで、リーン通路内に突出してもよい。
突起物は、仕切に実質的に直交して配向される第１の表面と、第１の表面に隣接し且つ１８０度未満の角度でたとえばそれに対して９０度以下の角度で配置された第２の表面と、を具備してもよく、第１の表面および第２の表面は、実質的に丸みを帯びた縁で合流する。

第１の表面は、リーン通路内にもっとも遠くへ突出するその一部が、仕切壁により近い表面の一部よりも、さらに開口部内に延在するように、傾斜してもよい。
丸みを帯びた縁は、縁からの流れ分離の程度を最小限にする。そのような分離は、上流から流れる空気に対してリーン通路の下流部分を阻止する可能性があるため、望ましくない。

代替的にまたは加えて、キャブレターは、弁が第２の位置にあるときに、上流受座表面が、実質的に、リーン通路へ向けて方向づけられた弁の上流表面全体に係合するように寸法づけられることを特徴としてもよい。

実際に、上流受座表面は、略半円形であり、弁の上流半体の表面に係合する。
この特徴は、弁の上流側の可能性のある漏れ経路の長さを増加し、旋回ロッドの上流側に生成された淀み圧力によって生じた、弁を担持しリーン通路内に突出する旋回ロッドの上流に存在する高圧領域を使用する。流れ圧力は、旋回ロッドで淀みへ向けて増加する。

弁の上流側のギャップは、気流に関する限り、受座押縁の縁へ効果的に変位される。したがって、旋回ロッドの上流側に生成される淀み圧力は、国際特許出願公開第９９／５８８２９号の半環状上流受座押縁でそうであるようにギャップが旋回ロッドからさらに離れた場合よりも、「ギャップ」にかなり大きな影響を与える。高圧領域は、受座押縁上部表面上に延在し、そのため、受座表面とリーン通路へ向けて方向づけられた弁表面との間のギャップに高圧を形成する。この圧力は、弁縁とリッチ通路の仕切との間のギャップの圧力よりも高いことがあり得る。これは、リッチ通路の空気がリーン通路内に漏れる可能性を大幅に減少する。

弁は、上記第１および第２の位置の間を回転するために旋回ロッドに装着されてもよく、旋回ロッドは、リーン通路のみに突出するように構造される。結果は、弁が開口部を閉じるときには、リッチ通路は、下流受座押縁以外に隆起がないことになる。

リッチ通路における旋回ロッドの存在を除去することが、リッチ通路に向かって面する弁の表面上の流れに対する閉塞を除去し、リッチ通路に生成される旋回ロッドの上流における淀み圧力および関連高圧領域の可能性を除去する。したがって、弁上流縁と仕切との間のギャップの圧力は、リッチ通路に存在する旋回ロッドでよりも低いことがあり得、リッチ通路からリーン通路内に流れが漏れる可能性を減少する。

代替的にまたは加えて、キャブレターは、第２の位置にあるときに弁の側部表面から間隔をおかれる下流部分で開口部へ向けて方向づけられた半円形上流面を仕切が含み、それによって、使用の際に、淀み圧力が上流表面に生成されることを特徴としてもよい。

この特徴は、リーン通路の弁縁で局所圧力を増加することによって、リッチ通路からリーン通路内に気体が漏れる可能性を減少する。
上流面は、リーン通路にもっとも近いその一部が、受座表面にもっとも近いその別の部分よりも、さらに開口部内に延在するように、開口部へ向けて傾斜してもよい。
弁の周辺縁は、仕切壁の上流面の傾斜と同一の傾斜角度でまたはより小さな傾斜角度で且つ同一方向に、傾斜してもよい。

代替的にまたは加えて、キャブレターは、仕切壁および弁が、使用の際に、第２の位置で、リッチ通路へ向けて方向づけられた弁の表面およびリッチ通路へ向けて方向づけられる弁の上流にある平坦な仕切の表面が、実質的に互いに整列配置するように、配列されることを特徴としてもよい。
弁は、そのリッチ表面に隣接して配置された第２の実質的に平坦なプレートを具備してもよい。
そのような第２のプレートを設けることは、弁のリッチ表面を弁の上流にある仕切壁の面に整列配置させるために、リッチ通路へ向けて方向づけられた弁の側部で弁の厚さを効果的に増加する。

代替的にまたは加えて、キャブレターは、弁が、リーン通路へ向けて方向づけられたその上流表面におよび／またはリッチ通路へ向けて方向づけられたその下流表面に、弾性のある突起物を含み、突起物は、それぞれの受座表面と弾性封止係合するように配列されることを特徴としてもよい。

弾性のある突起物は、弁表面に対して一定の角度で傾斜したさねであってもよく、使用の際に、第２の位置で、さねは、間に機械的封止を提供するために、関連受座表面に対して変形されるようにする。
弾性のある突起物は、上部表面の上流でまたは下部表面の下流で実質的に弁全体のまわりに延在してもよい。
弾性のある突起物は、逆Ｕ字形断面であってもよく、ゴムからまたはプラスチックから製造されてもよい。弾性のある突起物は、弁または別個の構成要素と一体的であってもよい。

代替的にまたは加えて、キャブレターは、リーン通路へ向けて方向づけられた弁の上流表面および／またはリッチ通路へ向けて方向づけられた下流表面は、突起物を組み込むように輪郭づけられ、それは、使用の際に、弁の第２の位置で、弁とそれぞれ上流または下流の受座押縁との間に接触封止を提供することを特徴としてもよい。
弁は、適切な非弾性材料から打ち抜かれてもよい。

本発明は、次に、添付の概略図を参照して、好適な実施形態の下記の説明により詳細に説明される。

図２に概略的に示されたキャブレターは、図１のものにほぼ類似しており、同一の部品は、接頭辞「１」をそなえた同一の参照符号が付されている。したがって、図２は、リッチ通路１６０をリーン通路１５０から分離する仕切壁１３０を示す。開口部１４０は、仕切壁１３０内に形成され、その中に、開口部１４０を選択的に開閉し同時にキャブレターを通る流れ口を開閉するためのバタフライ弁１２０が受け取られる。弁１２０は、リーン通路１５０へ向けて方向づけられるリーン表面１２３およびリッチ通路１６０へ向けて方向づけられるリッチ表面１２９を備えた実質的に平らな円形ディスクを具備する。弁１２０は、上流側１２１および下流側１２２を有し、境界は、弁１２０が装着される旋回ロッド１４３である。旋回ロッド１４３は、仕切壁１３０によって画成されるように、キャブレターの流れ方向に対して垂直な方向にある弁中心線を通って延在する円形ロッドを具備する。旋回ロッド１４３の直径は、弁ディスク１２０の厚さよりも大きく、そのため、旋回ロッド１４３は、弁１２０から突出し、リーン通路１５０およびリッチ通路１６０内に略半円筒形突起物を形成する。弁１２０が閉じられるかまたは部分的に閉じられるときに、弁１２０がキャブレターを通る流れを絞るため、リッチ通路１６０およびリーン通路１５０は、近づいて来る流れに対して実質的にふさがっている。弁１２０が開いているときには、リッチ通路１６０およびリーン通路１５０は、近づいて来る流れに対してふさがっていない。図２の左側の矢印は、流れ方向を示す。

開口部１４０は、受座押縁１４８および１４９によって画成される。開口部１４０の上流半体は上流受座押縁１４８によって画成され、これは、仕切壁１３０の厚さの半分よりも少ない厚さの半環状押縁またはステップを具備し、仕切壁１３０と一体的である。上流受座押縁１４８は、リッチ通路１６０へ向けて方向づけられた受座表面１５１と、受座表面１５１に実質的に直交する第１の端表面１５３と、を具備する。受座押縁１４８は、弁１２０が開口部１４０を完全に閉じるときに上流面１５５および受座表面１５１に対してぴったり嵌って座すように、弁１２０と同一の曲率で湾曲する上流面１５５を有する。弁１２０と受座押縁１４８との間の嵌め合いは、リッチ通路１６０からリーン通路１５０内への弁縁のまわりに気体が浸透するのを最小限にするために、非常にぴったりしている。

上流面１５５は、図２に示され、例示の明瞭さのみのために、弁の厚さの下に延在する。実際に、上流面１５５は、弁１２０の厚さをほんのわずかだけ超えて延在することが好適であり、図１０ｃに示されるように、弁の厚さを超えて延在しないことがより好適である。このようにして、リッチ通路１６０の断面は、できる限り一定に維持される。

リッチ通路１６０の一定の断面を維持するための代替の実施形態は、図１０ａおよび図１０ｂに示される。この実施形態において、断面は、弁１２０ａの全体にわたって且つすぐその上流および下流でも実質的に一定に維持される。

仕切壁１３０ａの上流面１５５ａは、弁１２０ａを超えてわずかな距離を延在する。距離は、スペーサープレート１５６ａを使用して作られる。スペーサープレート１５６ａは、皿ネジ（図示せず）を使用して弁１２０ａのリッチ表面１２９ａへ締められる薄いプレートであり、弁１２０ａを旋回ロッド１４３ａへ締めるためにも皿ネジが使用される。スペーサープレート１５６ａは、図１０ｂに示されたように形状づけられる。その上流縁１９０ａは、半円形であり、弁１２０ａと同一の半径を有する。旋回ロッドに組み立てられるときには、弁１２０ａの上流縁およびスペーサープレート１５６ａの上流縁は、したがって、実質的に互いと同一平面上にある。スペーサープレート１５６ａの下流縁１９２ａもまた半円形であるが、上流半径１９０ａよりも小さな半径であり、弁１２０ａが第２の位置にあるときには下流受座押縁１４９ａに隣接してぴったりと嵌るようにされる。

次に図２に戻ると、開口部１４０の下流半体は下流受座押縁１４９によって画成され、これもまた、仕切壁１３０の厚さのおよそ半分の半環状押縁を具備する。受座押縁１４９は受座押縁１４８とほぼ同一であり、弁１２０が開口部１４０を完全に閉じるときに、リーン通路１５０へ向けて方向づけられる受座表面１５７および弁１２０と同一の曲率で湾曲する下流面１５９に対して座す。下流面１５９は、半環状または部分環状の突起物１８０の上流面１８２に接触している。図２に示された突起物１８０は、矩形断面を有し、仕切壁１３０からリーン通路１５０内に垂直に延在する。旋回ロッド１４３は円形断面を有し、そのようであるため、リーン通路１５０内に突出する旋回ロッド１４３の部分は、直径のほぼ半分の高さを有する。突起物１８０は、仕切壁１３０から旋回ロッド１４３の突起物を越える程度にリーン通路１５０内に突出する。突起物は、必要な淀み圧力を上流面に生成する程度だけリーン通路１５０内に突出する必要があるが、実際には、好ましくは、リーン通路１５０内に突出する旋回ロッド１４３の直径の半分以上の高さを有するべきである。実際に、旋回ロッド１４３の直径は、できる限り小さく、一方、突起物１８０の高さは、リーン通路１５０内に突出する旋回ロッド１４３の直径の半分と同じ大きさかまたはそれよりも大きいことが好ましい。

突起物の矩形断面は、絶壁形状であり、容易に製造される。突起物の上流縁は丸みを帯びている。図２に示された突起物１８０の上流面１８２は、仕切壁１３０に実質的に直交する。あるいは、上流面１８２、および、受座押縁１４９の面１５９は、図２では、点線１８２ｂによって示されるようにわずかに傾斜してもよい。この場合、弁１２０の円周面もまた、同一の傾斜角度かまたは小さな傾斜角度で傾斜する。弁１２０が受座押縁１４９と一致して内外に回転することができるように、弁周辺縁と下流面１５９との間には十分な隙間ギャップが必要である。

使用の際に、弁１２０が開口部１４０を完全に閉じるときには、弁１２０のリーン表面１２３に近いリーン通路１５０内の流れは、突起物１８０の上流面１８２に近づくにつれて遅くなり、上流面１８２で停止する。圧力はそれに応じて増加し、上流面１８２で淀み圧力へ増加する。弁縁１２０の近隣における局所圧力は、したがって、大幅に増加する。弁１２０のリーン表面１２３の下流部分におけるこの増加した圧力は、気体がリッチ通路１６０からリーン通路１５０を通って浸透する可能性を減少する。

図３および４は、キャブレターに組み込まれてもよいさらなる特徴を示す。弁２２０および仕切壁２３０および突起物２８０の幾何的形状は、実質的に図２と同一である。しかし、この実施形態において、受座押縁２４８は、開口部２４０にわたって旋回ロッド２４３まで完全に延在する。したがって、図４に示されるように、受座押縁２４８は、弁１２０の周辺を収容するための半円形外側縁と、旋回ロッド２４３に隣接する線状内側縁２８５と、を有する。内側縁２８５と旋回ロッド２４３との間のギャップは、したがって、最小限にされる。

図５は、旋回ロッド３４３の下部半体が除去されるさらなる可能性を示す。旋回ロッド３４３は、事実上、平らにされるかまたは半円筒形形状であり、そのため、弁３２０のリッチ表面３２９と同一平面上にある。旋回ロッド３４３は、皿ネジヘッド（図示せず）かまたはリッチ表面３２９を乱さない他の適切な締結手段を使用して、弁３２０にしっかり連結される。

使用の際に、弁３２０が開口部３４０を完全に閉じるときには、仕切壁の上流部分上の流れは、弁３２０のリッチ表面３２９に加えられた流れへ続く。したがって、旋回ロッド３４３の下部半円筒形部分の上流側で流れの淀みに関連する高圧は、回避される。

図９の構造は、突起物１８０、２８０が存在しないキャブレターに使用されることが意図されている。受座押縁７４９の上流面７５９は、図９ａに示されるように傾斜し、リーン通路７５０にもっとも近いその一部が、受座表面７５７に隣接する面７５９の一部よりもさらに開口部７４０内に延在するようにする。好適な実施形態において、弁７２０の円周縁もまた、図９ｂに示されるように、上流面７５９の傾斜とほぼ同一の傾斜の程度へまたはより少ない傾斜の程度へ斜角をつけられる。各場合において、弁７２０と仕切壁７３０の上流面７５９との間の隙間ギャップは、弁７２０が、上流面７５９を侵害せずに、受座押縁７４９と一致して内外に回転することができるのに十分なものでなければならない。

図６は、弁４２０と受座押縁４４８／４４９との間に機械的封止を含むことが望ましいとみなされる場合に使用することができるさらなる特徴を示す。弁４２０および仕切壁４３０の幾何的形状は、図１の先行技術のキャブレター（国際特許出願公開第９９／５８８２９号のもの）の幾何的形状と同一である。しかし、この場合、弁４２０のリーン表面４２３およびリッチ表面４２９の各々は、弁の周辺に隣接して配置された弾性のある半円形突起物４９０を有する。弾性のある突起物は一緒に、弁周辺のまわりに延在する。この場合、弾性のある突起物は、ゴムまたは適切なプラスチックまたは他の弾性のある材料から製造された逆Ｕ字形のループ部分を具備する。ループ４９０は、使用の際に、開口部４４０が閉じられている第２の位置に弁が近づくにつれて、弾性のあるループ４９０が圧縮して弁４２０とそれぞれ受座押縁４４８または４４９との間に機械的封止を形成するように、弁４２０に連結される。弾性のある突起物４９０は、弁表面４２９および４２３に、または、受座表面４５１および４５７にあることができる。

図７に示された修正された構造において、弾性のある突起物４９５は、弁４２０のリッチ表面４２９およびリーン表面４２３に配置された半円形さねを具備する。さねは、弁４２０が第１の位置にあるときに、それぞれの弁表面４２３／４２９に対して浅い角度で傾斜する。さね４９５は、弁表面から半径方向に外向きに突出する。使用の際に、開口部４４０が閉じられている第２の位置に弁が近づくにつれて、弾性のあるさね４９０は弁表面４２３／４２９に向けて変形し、弁４２０とそれぞれ受座押縁４４８または４４９との間に機械的封止を形成する。

弾性のある突起物４９０／４９５に適切な材料は、キャブレターに使用される間に接触することがある高温および化学物質に対して抵抗するプラスチックであってもよい。弾性のある突起物４９０／４９５は、たとえば、弁４２０または受座表面４５１および４５７と一体的に成形されてもよく、または、それに連結されてもよい。

図８は、さらに修正された構造を示す。弁５２０は、リーン表面５２３の上流部分およびリッチ表面５２９の下流部分の周辺のまわりにリップを提供するように輪郭づけられる。リップ５９７は、そうでなければ平らな弁表面５２３／５２９から突出する半円形断面の実質的に非弾性の突起物を具備する。リップ５９７は、弁が使用の際に第２の位置にあるときに、弁５２０と受座押縁５４８／５４９との間に機械的接触封止を形成する。

弁４２０は、上記に述べられたように、適切な材料から打ち抜かれてもよく、または、成形されてもよい。弁４２０または受座表面４５１および４５７には、その間に封止を提供するために、適切なゴムまたはエラストマーがスプレーコーティングされてもよい。突起物は、弁４２０のリーン表面４２３のみにまたはリッチ表面４２９のみに配置されてもよい。

本明細書に記載された実施形態の各々用に、本発明の関連した幾何学的な特徴部は、それが加えられる受座押縁または弁の全上流半体または全下流半体のまわりに延在する必要はないことに注意されたい。各特徴部は、必要に応じて、受座押縁／弁の上流半体または下流半体のまわりに部分的にのみ延在してもよい。

様々な図面がキャブレターの単一の特徴部のみを示すが、弁が開口部を完全に閉じているときに、リッチ通路からリーン通路内に気体が浸透する機会を最小限にするために、適切である同一のキャブレターに、記載された特徴部の２つまたはそれ以上を、互いと併せて使用してもよいが、個別に使用されてもよいことが当業者に理解される。

国際特許出願公開第９９／５８８２９号に開示されたキャブレターの概略図である。 本発明にしたがったキャブレターの一部を示す図である。 さらに可能な特徴を示す類似の図である。 図３の上流受座押縁を示す概略図である。 さらに可能な特徴を示す概略図である。 さらに可能な特徴を示す図である。 図６に示された特徴の修正のさらなる図である。 キャブレターのさらに可能な特徴を示す概略図である。 キャブレターおよびその変更例のさらに可能な特徴を示す図である。 キャブレターおよびその変更例のさらに可能な特徴を示す図である。 キャブレターのさらに可能な特徴をさらに示す概略図である。 図１０ａの実施形態のスペースプレートの概略平面図である。 図１０ａの実施形態の変更例を示す概略図である。

Claims (10)

1. キャブレターであって、
   リッチおよびリーンの流れ通路を平行に具備する流れ口を含み、それを通って、流れ方向に空気が流れ、平坦な仕切によって分離されており、少なくとも１つの燃料ジェットが前記リッチ通路と連通し、前記仕切は開口部を含み、該開口部の方向に前記燃料ジェットが向けられ、平坦なバタフライ弁が前記開口部に受け取られ、前記流れ口が閉じられ前記開口部が開いている第１の位置と、前記流れ口が開き前記開口部が閉じられている第２の位置と、の間を旋回可能であるようにし、
   前記開口部の上流側半分は上流半環状受座押縁（１４８）によって画成され、該上流半環状受座押縁は前記第２の位置にあるときに前記バタフライ弁の表面の１つに係合する上流受座表面（１５１）、および、前記上流受座表面（１５１）と前記リーン通路側の前記仕切の表面との間に延在する第１の端表面（１５３）を有し、
   前記開口部の下流側半分は下流半環状受座押縁（１４９）によって画成され、該下流半環状受座押縁は前記第２の位置にあるときに前記バタフライ弁の他方の表面に係合する下流受座表面（１５７）、および、前記下流受座表面（１５７）と前記リーン通路側の前記仕切の表面との間に延在する下流面（１５９）を有し、
   突起物（１８０）が、前記リーン通路側の前記仕切の前記表面に前記下流面（１５９）に隣接して配置され、
   前記突起物（１８０）は、前記弁の前記第２の位置で、淀み圧力がそれに形成されるように位置決めされている上流面（１８２）を有することを特徴とする、キャブレター。
2. 前記弁は旋回ロッドに旋回式に装着され、前記突起物は、少なくとも、前記旋回ロッドが前記リーン通路内に突出する距離と同じかそれ以上、前記リーン通路内に突出する、請求項１記載のキャブレター。
3. 前記突起物は、前記仕切を横切って延在する第１の表面と、前記第１の表面に隣接し且つそれに対して傾斜した第２の表面と、を具備し、前記第１の表面および前記第２の表面は、丸みを帯びた縁で合流する、請求項１または２に記載のキャブレター。
4. 前記第１の表面は、前記リーン通路内にもっとも遠くへ突出するその一部が、仕切により近い該表面の一部よりも、さらに前記開口部内に延在するように、前記弁の表面に対して一定の角度で傾斜する、請求項３記載のキャブレター。
5. 前記弁が前記第２の位置にあるときに、前記上流受座表面は、前記リーン通路側の前記弁の上流表面全体に係合するように向けられる、請求項１から４のいずれか一項に記載のキャブレター。
6. 前記弁は、前記第１および第２の位置の間を回転するために旋回ロッドに装着され、前記旋回ロッドは、前記リーン通路のみに突出するように構造される、請求項１から５のいずれか一項に記載のキャブレター。
7. 前記第２の位置にあるときに、前記弁の側部表面から間隔をおかれる下流部分で、前記開口部の方向に向けられた半円形上流面を前記仕切が含み、それによって、淀み圧力が前記上流面に生成される、請求項１から６のいずれか一項に記載のキャブレター。
8. 前記弁が前記第２の位置にあるとき、前記リッチ通路側の前記弁の表面および前記リッチ通路側の前記弁の上流にある前記仕切の表面が、互いに整列配置するように配列される、請求項１から７のいずれか一項に記載のキャブレター。
9. 前記弁が、前記リーン通路側の上流表面におよび／または前記リッチ通路側の下流表面に、弾性のある突起物を含み、前記突起物は、前記それぞれの受座表面と弾性封止係合するように配列される、請求項１から８のいずれか一項に記載のキャブレター。
10. 前記リーン通路側の前記弁の上流表面および／または前記リッチ通路側の下流表面は、それらの表面から突出するリップを有し、前記リップは、前記弁の第２の位置で、前記弁とそれぞれ前記上流または下流の受座押縁との間に接触封止を提供する、請求項１から９のいずれか一項に記載のキャブレター。

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