JP4673611B2 - ムスコンの製造方法及びその中間体 - Google Patents

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Description

本発明はムスコンの製造方法及びその中間体に関し、更に詳しくは、短い工程及び高い収率で目的とするムスコンを製造することができる方法、及び、ムスコンの製造に有用で且つ新規な中間体に関するものである。
近年になって、人々の自然志向が高まり、自然環境を特徴的にイメージさせるような、嗜好性のよい香料に関して、安全性の面からも天然化合物由来、或いは、天然化合物と同一若しくは類似した新しい香料材料の開発が強く望まれている。
このような香料材料の一種であり、式（６）：
で表されるムスコンは、天然じゃ香の主香成分で、天然じゃ香に０．５〜２．０％含有されており、１９０６年にＷａｌｂａｕｍによって発見され、１９２６年にＲｕｚｉｃｋａによって化学構造が決定された化合物であり、天然ムスコンは（−）−（Ｒ）−３−メチルシクロペンタデカノンであるが、市販品は合成品でｄｌ−体である。
ムスコンの（−）−（Ｒ）−体と（＋）−（Ｓ）−体の香気を比較すると、（Ｒ）−体は拡散性があるムスク香（閾値：３ｐｐｍ）であるのに対して、（Ｓ）−体はケミカルで広がりのない貧弱な弱いムスク香（閾値：１０ｐｐｍ）であり、この結果匂いの強度についても、（Ｒ）−体のほうが（Ｓ）−体より３倍強いことが知られている（非特許文献１、非特許文献２）。
このようなことから、これまでにムスコン、特に（−）−（Ｒ）−ムスコンの製造法の検討が数多く報告され、その中でも光学活性シトロネラ−ルを不斉源とする（−）−（Ｒ）−ムスコンの製造法が幾つか報告されてきている。例えば、光学活性シトロネラールと９−デセニルグリニア試薬から合成される長鎖２級アルコール体の水酸基をシリル基で保護した後、オゾン分解により生じた両末端ジアルデヒド基をメチルウイッティヒ（Ｗｉｔｔｉｇ）反応で両末端ジオレフィンへ変換した後、シリル基を脱保護し、水酸基をジョーンズ(Ｊｏｎｅｓ）酸化してケトンとし、メタセシス環化後に二重結合を水素化して光学活性ムスコンを得る手法が報告されている（非特許文献３）。
しかしながら、この製造法は、高価な９−デセニルグリニア試薬を使用することに加え、水酸基の保護・脱保護工程、オゾン分解とＪｏｎｅｓ酸化という二つの酸化工程、ブチルリチウム試薬を用いるＷｉｔｔｉｇ反応工程等からなるため、工程が長いという短所を持ち、従ってムスコン、特に（−）−（Ｒ）−ムスコンの工業的な製造には採用し難いものであるといわざるを得なかった。
又、より短工程化を達成した、光学活性シトロネラールと９−デセニルグリニア試薬から合成される長鎖２級アルコール体をメタセシス環化し、得られた大環状アルコールを脱水素反応することで相当するケトン体とした後、二重結合を水素化して光学活性ムスコンを得る手法も報告されている（非特許文献４）。
しかしながら、この製造法においても、同様に高価な９−デセニルグリニア試薬を使用する必要があり、やはり満足できるものということはできない。
合成香料 化学と商品知識、印藤元一著、化学工業日報社、１９９６年３月６日発行、４９２〜４９７頁 「合成香料の最新技術」、株式会社シーエムシー、昭和５７年発行、第７２〜第９０頁 J. Chem. Soc., Perkin Trans., 1, 2253(1998). J. Am. Chem. Soc., 123, 11312(2001).
従って、これらの諸問題を解決するために、短い工程及び高い収率で目的とするムスコン、特に（−）−（Ｒ）−ムスコンを製造することができる方法を開発する必要があるのである。
上記従来技術の問題を解決するためになされた本発明は、以下の通りである。
〔１〕 一般式（１）：

（式中、Ｘは水酸基又はハロゲン原子を示す。）
で表されるシトロネリル酸類と、一般式（２）：

（式中、Ｒは炭素数１〜５のアルキル基を示す。）
で表されるウンデセン酸エステルとをクライゼン縮合反応に付すことにより、一般式（３）：

（式中、Ｒは前記と同義である。）
で表されるケトエステル化合物とし、次いで脱炭酸反応を行い、式（４）：

で表される２，６−ジメチル−８−オキシ−２，１７−ヘプタデカジエンとし、次いでメタセシス触媒により環化反応を行い、式（５）：

（式中、波線は６位の二重結合のシス体及び／又はトランス体を含むことを示す。）
で表される６−デヒドロムスコンとし、更に二重結合を水素化することを特徴とする、式（６）：

で表されるムスコンの製造方法。
〔２〕 一般式（１−ａ）：

（式中、Ｘは水酸基又はハロゲン原子を示す。）
で表される（Ｒ）−シトロネリル酸類と、一般式（２）：

（式中、Ｒは炭素数１〜５のアルキル基を示す。）
で表されるウンデセン酸エステルとをクライゼン縮合反応に付すことにより、一般式（３−ａ）：

（式中、Ｒは前記と同義である。）
で表される（６Ｒ）−ケトエステル化合物とし、次いで脱炭酸反応を行い、式（４−ａ）：

で表される（６Ｒ）−２，６−ジメチル−８−オキシ−２，１７−ヘプタデカジエンとし、次いでメタセシス触媒により環化反応を行い、式（５−ａ）：

（式中、波線は６位の二重結合のシス体及び／又はトランス体を含むことを示す。）
で表される（Ｒ）−６−デヒドロムスコンとし、更に二重結合を水素化することを特徴とする式、（６−ａ）：

で表される（Ｒ）−ムスコンの製造方法。
〔３〕 一般式（１）：

（式中、Ｘは水酸基又はハロゲン原子を示す。）
で表されるシトロネリル酸類と、一般式（２）：

（式中、Ｒは炭素数１〜５のアルキル基を示す。）
で表されるウンデセン酸エステルとをクライゼン縮合反応に付すことを特徴とする一般式（３）：

（式中、Ｒは前記と同義である。）
で表されるケトエステル化合物の製造方法。
〔４〕 一般式（１−ａ）：

（式中、Ｘは水酸基又はハロゲン原子を示す。）
で表される（Ｒ）−シトロネリル酸類と、一般式（２）：

（式中、Ｒは炭素数１〜５のアルキル基を示す。）
で表されるウンデセン酸エステルとをクライゼン縮合反応に付すことを特徴とする、一般式（３−ａ）：

（式中、Ｒは前記と同義である。）
で表される（６Ｒ）−ケトエステル化合物の製造方法。
〔５〕 一般式（１）で表されるシトロネリル酸類におけるＸが水酸基であり、この一般式（１）で表されるシトロネリル酸類と、一般式（２）で表されるウンデセン酸エステルとのクライゼン縮合反応を、カルボン酸の活性化剤、チタン触媒、トリアルキルアミン及びＮ−アルキルイミダゾール類の存在下に行う〔１〕乃至〔４〕のいずれかに記載の製造方法。
〔６〕 一般式（１）で表されるシトロネリル酸類におけるＸがハロゲン原子であり、この一般式（１）で表されるシトロネリル酸類と、一般式（２）で表されるウンデセン酸エステルとのクライゼン縮合反応を、チタン触媒、トリアルキルアミン及びＮ−アルキルイミダゾール類の存在下に行う〔１〕乃至〔４〕のいずれかに記載の製造方法。
〔７〕 一般式（３）：

（式中、Ｒは炭素数１〜５のアルキル基を示す。）
で表されることを特徴とするケトエステル化合物。
〔８〕 一般式（３−ａ）：

（式中、Ｒは炭素数１〜５のアルキル基を示す。）
で表されることを特徴とする（６Ｒ）−ケトエステル化合物。
即ち、本発明者らは、上記従来技術の問題を解決するために鋭意研究を重ねた結果、シトロネリル酸類とウンデセン酸エステルをクライゼン縮合反応に付すことにより、新規化合物であり、且つ、ムスコンの製造に有用なケトエステル化合物を合成し、脱炭酸を行うことでケトエステル化合物から２，６−ジメチル−８−オキシ−２，１７−ヘプタデカジエンを合成した後、次いで、メタセシス触媒による環化を行い、更に二重結合を水素化することにより、実用的な条件下、短工程及び高収率で目的のムスコンを製造できること、及び、光学活性シトロネリル酸を出発原料として用いることより、光学活性ムスコンを高収率で製造できることを見出し、更に研究を重ねて本発明を完成した。
このように、本発明の製造方法においては、従来技術のように廃棄物の多いＷｉｔｔｉｇ反応を経由しない。又、極低温下での反応も不要であるし、危険なブチルリチウム試薬や通常のクライゼン縮合反応で使用される強塩基を使用する必要もない。更に、酸化工程を必要とせず、高価なグリニア試薬も使用しない。
又、本発明の製造方法は、短い工程からなり、後述する実施例に明らかなように、高い収率で（Ｒ）−ムスコンを製造することができる。従って、本発明は、ムスコン特に（Ｒ）−ムスコンの工業的な製造に極めて有用である。
以下、本発明について詳細に説明する。
本発明ではまず、上記一般式（１）で表されるシトロネリル酸類と、上記一般式（２）で表されるウンデセン酸エステルとを、クライゼン縮合反応に付すことにより、上記一般式（３）で表されるケトエステル化合物を製造する。
上記一般式（１）で表されるシトロネリル酸類における置換基Ｘは、水酸基又はハロゲン原子を示しており、いずれも公知化合物であって、市販品等を容易に入手することができ、或いは市販品等から周知の方法により合成することができる。
又、上記一般式（２）で表されるウンデセン酸エステルにおける置換基Ｒは、炭素数１〜５のアルキル基を表している。尚、このウンデセン酸エステルも公知化合物であり、容易に入手することができる。
上記一般式（１）で表されるシトロネリル酸類と上記一般式（２）で表されるウンデセン酸エステルとのクライゼン縮合反応は、これら両化合物のモル比を０．５／１〜１／０．５という範囲にして行うことが好まく、特に１／１とすることが好ましい。又、このクライゼン縮合反応は、ルイス酸触媒の存在下に行うものであり、このルイス酸触媒としては、チタン触媒及びジルコニウム触媒を挙げることができ、好ましくはチタン触媒である。このチタン触媒としては、チタンテトラハライド類が好ましく、入手性や経済性及び汎用性の面からＴｉＣｌ４で表される塩化チタン（ＩＶ）を特に好ましいものとして挙げることができ、又、使用量については、シトロネリル酸に対し１〜１０倍モル、好ましくは２〜５倍モルという範囲を挙げることができる。
上記クライゼン縮合は、アミンの存在下に行うことが好ましく、このアミンとしては同一又は相異なるアルキル基を３つ有するトリアルキルアミンを、更に好ましいものとしては、トリブチルアミン、ジイソプロピルエチルアミンやトリエチルアミンを挙げることができ、使用量については、チタン触媒に対し０．５〜２倍モルの範囲とすることが好ましい。
上記シトロネリル酸類と上記ウンデセン酸エステルのような化合物間でのクライゼン縮合反応は、両者間で縮合反応が進行して上記一般式（３）で表されるケトエステル化合物(交差縮合化合物)が得られる他、ウンデセン酸エステル同士で縮合反応が進行してケトエステル体(自己縮合化合物)が副生する可能性もあるが、この副生物の生成を抑制するために本発明では、上記クライゼン縮合反応を、式

で表されるＮ−アルキルイミダゾール類の存在下に行うことが好ましい。尚、この式中の置換基Ｒ１及びＲ２は、低級アルキル基、好ましくは炭素数１〜５のアルキル基を表していて、その使用量としては、上記ウンデセン酸エステルに対しておおむね当量或いはそれ以上である。
上記クライゼン縮合反応は、溶媒としてトルエンのような炭化水素系溶媒、ジクロルメタンやクロロベンゼンのようなハロゲン化炭化水素系溶媒中で行われるが、上記シトロネリル酸類とウンデセン酸エステル等の当該溶媒中の濃度については、特に制限はない。
尚、上記一般式（１）で表されるシトロネリル酸類における置換基Ｘが水酸基の場合は、上記したチタン触媒等に加えて、カルボン酸の活性化剤を使用することが好ましく、このカルボン酸の活性化剤としては、例えば、ハロゲノ炭酸メチル、ハロゲノ炭酸エチル、ハロゲノ炭酸プロピル、ハロゲノ炭酸ｔ−ブチル、トリハロゲノアセチルハライド、イソブタノイルハライドやピバロイルハライド等を挙げることができ、その使用量としては、上記シトロネリル酸類に対して１．０から２．０当量、好ましくは１．５当量である。
又、カルボン酸の活性化剤を使用する場合は、発生する酸を補足する目的で、塩基を使用することが好ましく、この塩基としては、例えば、水素化リチウム、水素化ナトリウム、水素化カリウム、ｔ−ブチルカリウム等の無機塩基や、トリエチルアミン、トリブチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン等の三級アミン等を挙げることができ、その使用量としては、上記カルボン酸の活性化剤に対して０．８から１．２当量、好ましくは約１．０当量である。
上記クライゼン縮合反応は、必要に応じて反応温度を調節すると、迅速に進行し、目的とする上記一般式（３）で表されるケトエステル化合物を得ることができる。
得られたケトエステル化合物の構造は、核磁気共鳴吸収スペクトル、赤外線吸収スペクトルや高分解能マススペクトルで確認をすることができ、後述するように、本発明によるムスコンの製造における重要な中間体であると共に、新規化合物である。又、上記シトロネリル酸類と上記ウンデセン酸エステルのような化合物間でのクライゼン縮合反応は、従来は全く報告されていない。
一方、上記シトロネリル酸類として、光学活性な、上記式（１−ａ）で表される（Ｒ）−シトロネリル酸類を使用し、上記のような条件で、上記一般式（２）で表されるウンデセン酸エステルとのクライゼン縮合反応を行うと、光学活性が保持された、上記一般式（３−ａ）で表される（６Ｒ）−ケトエステル化合物を得ることができる。
得られた光学活性な、上記一般式（３−ａ）で表される（６Ｒ）−ケトエステル化合物の構造は、核磁気共鳴吸収スペクトル、赤外線吸収スペクトルや高分解能マススペクトルで確認をすることができ、後述するように、本発明による光学活性なムスコンの製造における重要な中間体であると共に、新規化合物である。又、上記光学活性なシトロネリル酸と上記ウンデセン酸エステルのような化合物間でのクライゼン縮合反応は、従来は全く報告されていない。
本発明では次いで、得られた上記一般式（３）で表されるケトエステル化合物を加水分解−脱炭酸し、上記式（４）で表される２，６−ジメチル−８−オキシ−２，１７−ヘプタデカジエンを得るのであり、具体的には、一般式（３）で表されるケトエステル化合物を、まず塩基性条件下で加水分解し、次いで酸性条件下で脱炭酸すればよい。この反応自体は周知であり、塩基性条件下で使用する塩基としては、例えば水酸化ナトリウムや水酸化カリウム等を、酸性条件下で使用する酸としては、例えば塩酸、硫酸やｐ−トルエンスルホン酸等を挙げることができ、アルコール性溶媒、例えばメタノール、エタノール中、或いは、水中で行うことができる。
本発明では次いで、得られた上記式（４）で表される２，６−ジメチル−８−オキシ−２，１７−ヘプタデカジエンをメタセシス触媒により環化反応、即ち閉環メタセシスを行い、上記式（５）で表される６−デヒドロムスコンを得るのであり、この際に使用するメタセシス触媒としては、例えばルテニウム触媒、好ましくはベンジリデンビス−(トリシクロヘキシルフォスフィン)ジクロロルテニウム（Grubbs触媒第１世代)や１，３−（ビス(メシチル)−２−イミダゾリジニリデン)ジクロロ−(フェニルメチレン)(トリシクロヘキシルフォスフィン)ルテニウム（Grubbs触媒第２世代)を挙げることができる。
上記環化反応は、例えばジクロロエタン、ジクロロメタン、クロロベンゼン等のハロゲン化溶媒や、トルエン、ヘキサン等の炭化水素系溶媒等、反応に特に影響しない各種溶媒中で行うことができ、メタセシス触媒の使用量等についても特に制限はない。尚、式中の波線は、得られた６−デヒドロムスコンがその６位の二重結合のシス体のもの、トランス体のもの及び両者の混合物を含むことを意味している。
本発明では最後に、得られた上記式(５）で表される６−デヒドロムスコンにおける６位の二重結合を水素化することにより、目的とする上記式（６）で表されるムスコンを得るのであり、この二重結合の水素化反応は周知であり、副反応を起こすことなく二重結合を水素化することができる限りにおいて、特に制限はない。具体的には、例えば、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、トルエン、ヘキサン等の炭化水素系溶媒、メタノール、エタノール等のアルコール系溶媒、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）等のエーテル系溶媒等、反応に特に影響しない各種溶媒に６−デヒドロムスコンを溶解し、パラジウム−炭素を触媒とし、水素雰囲気下で水素化する方法を挙げることができる。
得られたムスコンの構造は、核磁気共鳴吸収スペクトル、赤外線吸収スペクトルや高分解能マススペクトルで確認をすることができた。
一方、上記一般式（３）で表されるケトエステル化合物として、上記一般式（３−ａ）で表される（６Ｒ）−ケトエステル化合物を使用し、上記のような条件に従って、加水分解−脱炭酸、メタセシス触媒により環化反応、及び、二重結合の水素化を行うと、光学活性が保持された、上記一般式（６−ａ）で表される（Ｒ）−ムスコンを得ることができる。
得られた（Ｒ）−ムスコンの構造も又、核磁気共鳴吸収スペクトル、赤外線吸収スペクトルや高分解能マススペクトルで確認をすることができた。
以下の実施例は、次の式に示す工程よりなるものである。尚、下記反応式における化合物番号は、以下の実施例に限定する。
実施例におけるすべての反応は、乾燥炉中で乾燥したガラス器中、アルゴン雰囲気下で行われた。機器分析に使用した装置は以下の通りである。
ＮＭＲスペクトル：JEOL DELTA 300
ＩＲスペクトル：JASCO FT/IR-5300
質量分析（ＭＡＳＳ）スペクトル：JEOL JMS-T100LC
(５Ｒ）−５，９−ジメチル−２−(８−ノネニル)−３−オキソ−８−ドデカン酸メチル３｛一般式（３−ａ）で表される（６Ｒ）−ケトエステル化合物において、Ｒ＝メチル基の化合物｝の製造(工程ａ−１)
１７０ｍｇ（１．００ｍｍｏｌ）の（Ｒ）−シトロネリル酸１と、１９８ｍｇ（１．２０ｍｍｏｌ）の１０−ウンデセン酸メチル２と、２１８ｍｇ（１．２０ｍｍｏｌ）のトリクロルアセチルクロリドＣＣｌ３ＣＯＣｌを２．０ｍｌのジクロルメタンに溶解し、この溶液を、４８ｍｇ（１．２０ｍｍｏｌ、純度６０％）のソジウムハイドライドを２．０ｍｌのジクロルメタンに懸濁した液に、アルゴン雰囲気下、０−５℃で攪拌しながら添加し、更に同じ温度で１５分間攪拌した。混合物を−４５℃に冷却した後、１１５ｍｇ（１．２０ｍｍｏｌ）の１，２−ジメチルイミダゾールを０．２ｍｌのジクロルメタンに懸濁した液を添加し、同じ温度で１０分間攪拌した。ここに３８５μｌ（３．５ｍｍｏｌ）の塩化チタン（ＩＶ）ＴｉＣｌ４と、７４１ｍｇ（４．００ｍｍｏｌ）のトリブチルアミンを添加し、更に同じ温度で３０分間攪拌した。５ｍｌの水を加えて反応を停止し、エーテルで２度抽出した。有機層を併せ、水、飽和食塩水の順で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した後、濃縮した。得られた粗油状物をシリカゲルのカラムクロマトグラフィー(ヘキサン；酢酸エチル＝７５：１)で精製することにより、２４６ｍｇ(収率；７５％）の表題化合物を得た。
機器分析の結果は以下の通りであった。
性状：無色油状物（ジアステレオマー混合物)
1H NMR (300 MHz, CDCl3) δ 0.88 (d, 3H x 1/2, J = 6.9 Hz), 0.89 (d, 3H x 1/2, J = 6.9 Hz), 1.10-1.44 (m, 12H), 1.59 (s, 3H), 1.68 (s, 3H), 1.73-2.08 (m, 7H), 2.23-2.57 (m, 2H), 3.41 (t, 1H x 1/2, J = 7.6 Hz), 3.42 (t, 1H x 1/2, J = 7.2 Hz), 3.71 (s, 3H), 4.87-5.03 (m, 2H), 5.03-5.13 (m, 1H), 5.80 (ddt, 1H, J = 6.9, 10.3, 16.9 Hz)
13C NMR (75 MHz, CDCl3) δ 17.63, 19.52, 19.62, 25.39, 25.43, 25.68, 27.44, 28.09, 28.18, 28.36, 28.81, 28.95, 29.12, 29.27, 33.73, 36.67, 36.75, 49.20, 52.22, 59.33, 59.43, 114.15, 124.21, 131.51, 139.09, 170.33, 204.90, 205.04
IR (neat) 2928, 2857, 1748, 1717, 1437, 1200 cm-1
HRMS (ESI) calcd for C22H38O3(M+Na+) 373.2719, found 373.2719
(Ｒ）−２，６−ジメチル−２，１７−オクタデカジエン−８−オン４の製造(工程ｂ)
５９３ｍｇ（１．６９ｍｍｏｌ）の(５Ｒ）−５，９−ジメチル−２−(８−ノネニル)−３−オキソ−８−ドデカン酸メチル３を３．０ｍｌのメタノールに溶解した溶液に、５Ｍの水酸化ナトリウム水溶液１．０ｍｌを攪拌しながら室温で加え、更に７０℃で２０分間攪拌した。反応液を室温に冷却し、６Ｍの塩酸水１．５ｍｌを同温度で加え、更に７０℃で９０分間攪拌した。混合物をエーテルで２度抽出した。有機層を水、飽和食塩水の順で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した後、濃縮した。得られた粗油状物をシリカゲルのカラムクロマトグラフィー(ヘキサン；酢酸エチル＝１００：１)で精製することにより、４６８ｍｇ(収率；９５％）の表題化合物を得た。
機器分析の結果は以下の通りであった。
性状：無色油状物
1H NMR (300 MHz, CDCl3) δ 0.89 (d, 3H, J = 6.9 Hz), 1.10-1.44 (m, 12H), 1.46-1.62 (m, 2H), 1.60 (s, 3H), 1.68 (d, 3H, J = 0.7 Hz), 1.88-2.09 (m, 5H), 2.20 (dd, 1H, J = 7.9 Hz, Jgem = 15.5 Hz), 2.32-2.43 (m, 3H), 4.87-5.03 (m, 2H), 5.03-5.13 (m, 1H), 5.81 (ddt, 1H, J = 6.9, 10.3, 16.9 Hz)
13C NMR (75 MHz, CDCl3) δ 17.61, 19.75, 23.75, 25.45, 25.68, 28.87, 28.91, 29.04, 29.22, 29.27, 29.35, 33.77, 36.98, 43.35, 50.21, 114.10, 124.33, 131.42, 139.14, 211.33
IR (neat) 2926, 2855, 1715, 1460, 1375, 909 cm-1
HRMS (ESI) calcd for C20H36O (M+Na+) 315.2664, found 315.2662
(Ｒ）−３−メチル−１−シクロペンタデカノン５｛（Ｒ）−（−）−ムスコン｝の製造(工程ｃ)
５０ｍｇ（０．１７ｍｍｏｌ）の (Ｒ)−２，６−ジメチル−２，１７−オクタデカジエン−８−オン４を２００ｍｌのジクロロエタンに溶解した溶液に、攪拌しながら、１０ｍｇ（１２μｍｏｌ）の（Ｈ２ＩＭｅｓ）（ＰＣｙ３）Ｃｌ３Ｒｕ＝ＣＨＰｈ（Grubbs触媒第２世代）を２．０ｍｌのジクロロエタンに溶解した溶液を、アルゴン雰囲気下、５０℃で加え、同温度で１１時間攪拌した。反応液を減圧下で濃縮した。濃縮物を２ｍｌの酢酸エチルで希釈した溶液に、１８ｍｇ（１７μｍｏｌ）の１０％パラジウム炭素を加え、水素容器から水素を供給しつつ、室温で９時間攪拌した。混合物をガラスフィルターを併用してセライトによりろ過し、ろ液を減圧下に濃縮した。得られた粗油状物をシリカゲルのカラムクロマトグラフィー(ヘキサン；酢酸エチル＝１００：１)で精製することにより、３０ｍｇ(収率；７４％)の表題化合物を得た。
機器分析の結果は以下の通りであった。
性状：無色油状物
1H NMR (300 MHz, CDCl3) δ 0.94 (d, 3H, J = 6.9 Hz), 1.16-1.41 (m, 20H), 1.51-1.75 (m, 2H), 1.97-2.11 (m, 1H), 2.18 (dd, 1H, J = 5.2, 14.8 Hz), 2.36-2.47 (m, 3H)
13C NMR (75 MHz, CDCl3) δ 21.07, 23.00, 24.99, 26.12, 26.21, 26.48, 26.52, 26.56, 26.69, 27.07, 27.53, 29.02, 35.53, 42.05, 50.38, 212.09
IR (neat) 2930, 2861, 1713, 1460, 1368 cm-1
（５Ｒ）−５，９−ジメチル−２−（８−ノネニル）−３−オキソ−８−ドデカン酸メチル３（（Ｒ）−シトロネリルクロライド６からの合成）の製造（工程ａ−２）
アルゴン雰囲気下、１８９ｍｇ（１．００ｍｍｏｌ）の（Ｒ）−シトロネリルクロライドと、１９８ｍｇ（１．２ｍｍｏｌ）の１０−ウンデセン酸メチルと１１５ｍｇ（１．２０ｍｍｏｌ）の１，２−ジメチルイミダゾールを２．０ｍｌのジクロロメタンに溶解した。この混合物を−４５℃に冷却し、同じ温度で１０分間攪拌した。ここに３８５μｌ（３．５０ｍｍｏｌ）の塩化チタン（ＩＶ）ＴｉＣｌ４と、７４１ｍｇ（４．００ｍｍｏｌ）のトリブチルアミンを添加し、更に同じ温度で３０分間攪拌した。５ｍｌの水を加えて反応を停止し、エーテルで２度抽出した。有機層を併せ、水、飽和食塩水の順で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した後、濃縮した。得られた粗油状物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝７５：１）で精製することにより、２３３ｍｇ（収率；６６％）の表題化合物を得、その構造を確認した。

Claims (8)

  1. 一般式（１）：

    （式中、Ｘは水酸基又はハロゲン原子を示す。）
    で表されるシトロネリル酸類と、一般式（２）：

    （式中、Ｒは炭素数１〜５のアルキル基を示す。）
    で表されるウンデセン酸エステルとをクライゼン縮合反応に付すことにより、一般式（３）：

    （式中、Ｒは前記と同義である。）
    で表されるケトエステル化合物とし、次いで脱炭酸反応を行い、式（４）：

    で表される２，６−ジメチル−８−オキシ−２，１７−ヘプタデカジエンとし、次いでメタセシス触媒により環化反応を行い、式（５）：

    （式中、波線は６位の二重結合のシス体及び／又はトランス体を含むことを示す。）
    で表される６−デヒドロムスコンとし、更に二重結合を水素化することを特徴とする、式（６）：

    で表されるムスコンの製造方法。
  2. 一般式（１−ａ）：

    （式中、Ｘは水酸基又はハロゲン原子を示す。）
    で表される（Ｒ）−シトロネリル酸類と、一般式（２）：

    （式中、Ｒは炭素数１〜５のアルキル基を示す。）
    で表されるウンデセン酸エステルとをクライゼン縮合反応に付すことにより、一般式（３−ａ）：

    （式中、Ｒは前記と同義である。）
    で表される（６Ｒ）−ケトエステル化合物とし、次いで脱炭酸反応を行い、式（４−ａ）：

    で表される（６Ｒ）−２，６−ジメチル−８−オキシ−２，１７−ヘプタデカジエンとし、次いでメタセシス触媒により環化反応を行い、式（５−ａ）：

    （式中、波線は６位の二重結合のシス体及び／又はトランス体を含むことを示す。）
    で表される（Ｒ）−６−デヒドロムスコンとし、更に二重結合を水素化することを特徴とする式、（６−ａ）：

    で表される（Ｒ）−ムスコンの製造方法。
  3. 一般式（１）：

    （式中、Ｘは水酸基又はハロゲン原子を示す。）
    で表されるシトロネリル酸類と、一般式（２）：

    （式中、Ｒは炭素数１〜５のアルキル基を示す。）
    で表されるウンデセン酸エステルとをクライゼン縮合反応に付すことを特徴とする一般式（３）：

    （式中、Ｒは前記と同義である。）
    で表されるケトエステル化合物の製造方法。
  4. 一般式（１−ａ）：

    （式中、Ｘは水酸基又はハロゲン原子を示す。）
    で表される（Ｒ）−シトロネリル酸類と、一般式（２）：

    （式中、Ｒは炭素数１〜５のアルキル基を示す。）
    で表されるウンデセン酸エステルとをクライゼン縮合反応に付すことを特徴とする、一般式（３−ａ）：

    （式中、Ｒは前記と同義である。）
    で表される（６Ｒ）−ケトエステル化合物の製造方法。
  5. 一般式（１）で表されるシトロネリル酸類におけるＸが水酸基であり、この一般式（１）で表されるシトロネリル酸類と、一般式（２）で表されるウンデセン酸エステルとのクライゼン縮合反応を、カルボン酸の活性化剤、チタン触媒、トリアルキルアミン及びＮ−アルキルイミダゾール類の存在下に行う請求項１乃至４のいずれかに記載の製造方法。
  6. 一般式（１）で表されるシトロネリル酸類におけるＸがハロゲン原子であり、この一般式（１）で表されるシトロネリル酸類と、一般式（２）で表されるウンデセン酸エステルとのクライゼン縮合反応を、チタン触媒、トリアルキルアミン及びＮ−アルキルイミダゾール類の存在下に行う請求項１乃至４のいずれかに記載の製造方法。
  7. 一般式（３）：

    （式中、Ｒは炭素数１〜５のアルキル基を示す。）
    で表されることを特徴とするケトエステル化合物。
  8. 一般式（３−ａ）：

    （式中、Ｒは炭素数１〜５のアルキル基を示す。）
    で表されることを特徴とする（６Ｒ）−ケトエステル化合物。
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