JP4672826B2

JP4672826B2 - 核スピン共鳴装置における渦電流を検出するための方法

Info

Publication number: JP4672826B2
Application number: JP36304099A
Authority: JP
Inventors: ワイセンベルガーフォルカー
Original assignee: Siemens AG
Current assignee: Siemens AG
Priority date: 1998-12-22
Filing date: 1999-12-21
Publication date: 2011-04-20
Anticipated expiration: 2019-12-21
Also published as: JP2000185029A; US6335620B1; DE19859501C1

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、核スピン共鳴装置のスイッチングされる磁界勾配により惹起され、そして交差項を含んだ渦電流を検出するための方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
核スピン共鳴装置において勾配コイルにより惹起される渦電流を補償するための方法は、ドイツ特許出願公開第43 13 392号明細書に記載されている。勾配コイルは磁界勾配を発生するための役割をする。この磁界勾配は核スピントモグラフィの中において核共鳴信号位置分解を行うために必要である。そのために１テスラのオーダーの均等な静的な基本磁界に、この磁界勾配が重畳される。３つの次元での位置分解のためには、磁界勾配が３つの好ましくは互いに直交する方向に発生されなければならない。Ｙ方向に磁界勾配Ｇｙを発生するための勾配コイルにより、球状の検査体積の中にＹ方向にほぼ一定な磁界勾配Ｇｙが発生される。Ｘ磁界勾配に対する勾配コイルは、Ｙ磁界勾配に対する勾配コイルと同一に構成されており、また単に９０°だけ方位角方向に回転されている。Ｚ方向の磁界勾配に対する勾配コイルは、リング状に構成されそして検査対象物の中心点に対して対称に配置されており、その際に両方の個別コイルは、反対方向の電流により通過されており、またそれによりＺ方向に磁界勾配を発生する。
【０００３】
必要な磁界勾配は急峻な上昇および下降エッジを有していなければならず、またスイッチオン継続時間の間、可能な限り一定でなければならない。しかし急峻な上昇および下降エッジにより核スピン共鳴装置の金属部分の中、特に検査空間を囲むクライオスタットの内管の中に渦電流が誘導され、これらの渦電流が再び磁界勾配と逆向きの磁界を発生する。このことは所望の方形パルスのかどを丸めることになり、そして磁界勾配のスイッチオフの後に減衰する寄生的な磁界を生じる。
【０００４】
渦電流により惹起される磁界Ｂ（ｔ）の経過は下記のように表される：
Ｂ（ｔ）＝Ｂ０（ｔ）＋Ｇｘ（ｔ）ｘ＋Ｇｙ（ｔ）ｙ＋Ｇｚ（ｔ）ｚ＋０（ｔ，ｘ²，ｙ²，ｚ²）
ここでＢ０（ｔ）は第０次の位置に無関係な項、Ｇｘ、Ｇｙ、Ｇｚは第１次の項そして０（ｔ，ｘ²，ｙ²，ｚ²）は第２次の項である。
【０００５】
その際に第１次の項Ｇｘ、Ｇｙ、Ｇｚが優勢である。これらのみが従来公知の渦電流補償の際に補償され、また正確に測定されなければならない。より高い次数の項、即ち第３次の項は従来公知の方法によっては補償され得ず、また中心からのより大きい間隔に対してのみ有意義である。第１次の位置に無関係な項Ｂ０（ｔ）は一般に小さく、また例えば磁石中の勾配コイルの非対称な配置に、または対称性を乱す他の作用に起因する。第０次および第１次の項を決定するためには、各々の方向ｘ、ｙ、ｚに対する渦電流に起因した磁界を、各々の方向に、空間的に隔てられた２つの点において測定すれば十分である。
【０００６】
ドイツ特許出願公開第43 13 392号明細書による方法では、そのために核スピントモグラフの際に他の検査および設定目的にも使用できるような空間的に広げられたファントムが、核スピン共鳴装置の検査範囲の中に入れられ、また層選択ＭＲ法により測定される。ドイツ特許出願公開第43 13 392号明細書による方法により、渦電流補償が測定プローブおよび止め具のような特殊な装置なしに実行かつ検査可能である。この方法の取扱は、ファントムが測定のために動かされなくてよいので簡単である。さらに、簡単な方法で、例えば表面コイルのような追加的な組込物が、追加的な渦電流に通ずるかどうかを確認可能である。しかしドイツ特許出願公開第43 13 392号明細書による方法は、より高い次数の項を決定するためには使用できない。
【０００７】
さらにヨーロッパ特許出願公開第0 228 056号明細書には、プローブの中に誘導される核共鳴信号により磁界分布を測定する方法が記載されている。検査空間の少なくとも２つの個所における磁界の測定が必要なので、各々の測定サイクル中に、プローブを２つの測定位置の間で往復させなければならない。より高い次数の渦電流を決定するためには、プローブを多くの測定位置に置かれなければならず、このことは非常に高い費用を必要とする。
【０００８】
ドイツ特許第43 25 031号明細書および米国特許第 4,910,460号明細書に記載されている方法では、渦電流を拡大したファントムにより、層選択ＭＲ撮像によって測定する。そこに記載されている方法は空間的な情報のみを与え、渦電流分布に関する時間的な情報は与えない。そのため、この方法は空間的な渦電流分布の像表示しかできず、また渦電流の補償のために必要な渦電流の時定数中の振幅の定量的な決定のためには適していない。
【０００９】
さらに雑誌“ＭａｇｎｅｔｉｃＲｅｓｏｎａｎｃｅｉｎＭｅｄｉｃｉｎｅ”、２０、第２６８〜２８４頁（１９９１）の論文“超伝導磁石の中に渦電流により発生される磁界の時間的および空間的解析：磁石／勾配システムの補正の最適化および定量的特徴付け”には、より高い次数の渦電流を定量的に決定するために適した方法が記載されている。ドイツ特許第43 25 031号明細書および米国特許第 4,910,460号明細書による方法に類似して、勾配パルスに、渦電流に比例する位相位置を有する刺激されたエコーを発生する撮像シーケンスが続くことによって、渦電流が像として表示される。しかしその際、勾配パルスの後の、種々の時間的間隔での測定によって、渦電流の発生も時間的に測定できる。この方法の欠点は、フーリエ行あたり約５秒の撮像シーケンスの長い継続時間および勾配パルスの後の時間間隔であり、それによって少なくとも１０分の測定時間が生ずる。シーケンスは、多くのステップで、しかも全ての３つの勾配で繰り返さなければならないので、１時間をはるかに越える全測定時間を必要とする。これは、補償のために日常的に実行する必要のあるこの方法にとって、本質的に長過ぎる。
【００１０】
【発明が解決しようとする課題】
従って、本発明の課題は、渦電流を検出するための方法を、選択された層の中で短い時間中に、少なくとも渦電流の交差項が決定可能なように構成することである。
【００１１】
【課題を解決するための手段】
この課題は、本発明によれば、請求項１による方法により解決される。本発明による方法の有利な実施例はそれぞれその他の請求項の対象である。
【００１２】
請求項１による方法は、
ａ）空間的に広げられたファントムが核スピン共鳴装置の検査範囲の中に入れられるステップ、
ｂ）予め定められたパルス幅（ｔ_G）を有する測定勾配パルス（ＧＭ）がスイッチオンされるステップ、
ｃ）測定勾配パルス（ＧＭ）のスイッチオフの後に、間隔（ｔ₁、ｔ₂、ｔ_n）をおいて相続く少なくとも２つの勾配エコーブロック（ＧＥ１、ＧＥ２、ＧＥｎ）が発生され、それらの勾配エコー（Ｓ１、Ｓ２、Ｓｎ）から少なくとも二次元の複素データセットが発生され、その際に位相情報（φ₁（ｘ，ｙ））が磁界の強さ（Ｂ（ｘ，ｙ，ｔ））に比例しているステップ
を含み、渦電流がほぼ減衰し終えた時点の位相データをも取得し、それを参照データとしてそれ以外の時点で取得した位相データから差し引くことで、測定勾配パルスＧＭの渦電流磁界Ｂ _M のみの影響を算出する。
【００１３】
請求項１による方法は、選択された層の中における二次元の位置情報とならんで、渦電流の分布に関する時間的情報をも与える。それによって簡単かつ迅速な方法で、少なくとも渦電流の交差項が確実に決定される。
【００１４】
渦電流を検出するための最も簡単な可能性は、
ステップｃ）において、各勾配エコーブロック（ＧＥ１、ＧＥ２、ＧＥｎ）の中に、
ｃ１）層選択勾配パルス幅（ＧＳ１、ＧＳ２、ＧＳｎ）の作用のもとに第１の層選択ＨＦパルス（ＲＦ１、ＲＦ２、ＲＦｎ）が入射され、
ｃ２）それにより発生された勾配エコー（Ｓ１、Ｓ２、Ｓｎ）が測定勾配パルス（ＧＭ）により惹起される渦電流（Ｉ_E）の減衰時間の間に検出され、
ｃ３）各々の勾配エコー（Ｓ１、Ｓ２、Ｓｎ）の前に位相コーディング勾配（ＧＰ１、ＧＰ２、ＧＰｎ）が置かれ、
ｃ４）勾配エコー（Ｓ１、Ｓ２、Ｓｎ）が読出し勾配（ＧＲ１、ＧＲ２、ＧＲｎ）のもとに、位相コーディング勾配（ＧＰ１、ＧＰ２、ＧＰｎ）に対して垂直な方向に読出され、
ｄ）ステップｂ）およびｃ）が引き続いてスイッチングされる位相コーディング勾配（ＧＰ１、ＧＰ２、ＧＰｎ）により繰り返されるステップを含んでいる
請求項２の方法により与えられる。
【００１５】
請求項３による方法では、請求項１による方法のステップｂ）およびｃ）が、より高い次数の項を含んでいる渦電流を検出するため、選択された層の少なくとも１つの他の層により繰り返される。請求項４による方法では、請求項２による方法のステップｂ）ないしｄ）が、より高い次数の項を含んでいる渦電流を検出するため、選択された層の少なくとも１つの他の層により繰り返される。それにより、本発明による方法の両実施例において、渦電流の経過に関する時間的な情報に対して追加的に三次元の位置情報も得られる。渦電流分布に関するいまや空間的かつ時間的な情報に基づいて、交差項に対して追加的により高い次数の項も決定される。本発明による方法のこれらの実施例は、スイッチングされる磁界勾配により惹起されそして交差項およびより高い次数の項を含んでいる渦電流の本質的により速い検出を許すので、特に請求項３または４による方法は日常的な方法として使用可能である。
【００１６】
少なくとも２つの選択された層の測定の際に、第１次よりも高い次数の渦電流の検出が測定時間の延長なしに望まれているならば、例えば種々の層の勾配エコーブロックが互いの中に入り組んでいる方法が応用される。
【００１７】
検出された渦電流から二次元の像を計算するための有利な方法は、次の通りである。
・求められた、撮像信号としての役割をする勾配エコー（Ｓ１、Ｓ２、Ｓｎ）から複数個（ｎ）の二次元のデータセット（ｉ）が求められ、これらの二次元のデータセットが二次元のフーリエ変換の後に二次元のデータセット（ｉ）の数に相応する数（ｎ）のファントムの複素二次元像を与え、この数（ｎ）が勾配エコーブロックの数に相当する。
・全ての複素データセット（ｉ）が時点（ｔ _i ）で参照データセットにより、それから時点（ｔ _i ）での渦電流（Ｉ _E ）の時間的低下を表す位相像が計算可能であるように、位相補正される。
参照データセットとしては、渦電流（Ｉ _E ）がほぼ減衰しているデータセットが選ばれる。
【００１８】
非直線的な渦電流成分を計算するための好ましい方法は次の通りである。
・渦電流（Ｉ _E ）の非直線的な成分が球関数に従う磁界分布の展開から計算される。
【００１９】
これらの非直線的な渦電流成分を、例えばどのように補償すべきかは、次の通りである。
・勾配チャネルの中に発生される勾配パルスのフィルタリングによる渦電流（Ｉ _E ）の非直線的な成分の補償が渦電流（Ｉ _E ）を励起し、フィルタリングの結果として、両方の他方の勾配チャネルおよび／または核スピン共鳴装置のシムコイルに与えられる補償パルスが得られる。
【００２０】
【実施例】
本発明の好ましい実施例を、以下に図面を参照して説明する。
【００２１】
核スピン共鳴装置のスイッチングされる磁界勾配により惹起されそして交差項を含んでいる渦電流を検出するための図１で説明する方法では、先ず空間的に広げられたファントム、例えば２４０ｍｍの直径を有する球状のファントムが核スピン共鳴装置の検査範囲の中に入れられる。続いて測定勾配パルスＧＭがより長い時間、例えば１ないし２秒間にわたりスイッチオンされる。測定勾配パルスＧＭは予め定められたパルス幅ｔ_Gを有する。その際に測定勾配パルスＧＭのパルス幅ｔ_Gは、好ましくは検査すべき渦電流時定数よりも長い。
【００２２】
測定勾配パルスＧＭのスイッチオフの後に、間隔ｔ₁、ｔ₂ないしｔ_nをおいて相続く少なくとも２つの勾配エコーブロックＧＥ１、ＧＥ２ないしＧＥｎが発生される。その際に最後の勾配エコーブロックＧＥｎの間隔ｔ_nは、好ましくは測定勾配ＧＭの全ての渦電流ＩＥがほぼ減衰しているような大きさである（例えば１ないし５秒）。
【００２３】
各々の勾配エコーブロックＧＥ１、ＧＥ２ないしＧＥｎ中に、層選択勾配パルスＧＳ１、ＧＳ２ないしＧＳｎの作用のもと、第１の層選択ＨＦパルスＲＦ１、ＲＦ２ないしＲＦｎが入射される。層選択勾配パルスＧＳ１、ＧＳ２ないしＧＳｎの作用により、励起はファントムの層に制限される。続いて負の方向のリフェージング勾配ＧＳ ^-によって、層選択勾配パルスＧＳ１、ＧＳ２ないしＧＳｎにより惹起された核スピンのデフェージングが取り消される。
【００２４】
第１の層選択ＨＦパルスＲＦ１、ＲＦ２ないしＲＦｎの入射により発生された勾配エコーＳ１、Ｓ２ないしＳｎは、撮像信号としての役割をし、また測定勾配パルスＧＭにより惹起された渦電流Ｉ_Eの減衰時間の間に検出される。
【００２５】
勾配エコーＳ１、Ｓ２ないしＳｎを位相判別してサンプリングするため各勾配エコーＳ１、Ｓ２ないしＳｎの前に、位相コーディング勾配ＧＰ１、ＧＰ２、ＧＰｎが置かれる。位相コーディング勾配ＧＰ１、ＧＰ２、ＧＰｎと同時に、本発明による方法の図１で説明した実施例では、リフェージング勾配ＧＳ^- により惹起された核スピンのデフェージングを取り消すために、デフェージング勾配ＧＤがスイッチオンされる。
【００２６】
勾配エコーＳ１、Ｓ２ないしＳｎは、読出し勾配ＧＲ１、ＧＲ２ないしＧＲｎの作用のもとに、位相コーディング勾配ＧＰ１、ＧＰ２、ＧＰｎに対して垂直な方向に読出される。
【００２７】
測定勾配パルスＧＭおよびｎ個の勾配エコーブロックＧＥ１、ＧＥ２ないしＧＥｎの列は、反復時間Ｔ_Rをもって繰り返され、その際に位相コーディング勾配ＧＰ１、ＧＰ２、ＧＰｎは次に進められる。
【００２８】
確認された勾配エコーＳ１、Ｓ２ないしＳｎから勾配エコーブロックＧＥ１、ＧＥ２ないしＧＥｎの数ｎに一致する数の二次元のデータセットｉが確認され、これらのデータセットが二次元のフーリエ変換の後に二次元のデータセット（ｉ）の数に相応する数ｎのファントムの複素二次元像を与える。
【００２９】
全ての複素データセットｉは時点ｔ_iで参照データセットにより、このセットから時点ｔ_iでの渦電流Ｉ_Eの時間的低下を表す位相像が計算可能であるように、位相補正される。参照データセットとして、好ましくは渦電流がほぼ減衰し終えたデータセットが選ばれる。
【００３０】
座標（ｘ，ｙ）を有する各々のデータセットｉに関し、各画素に対する位相位置φ_i（ｘ，ｙ）は、下記の式により与えられる：
【数１】

【００３１】
位相φ_i（ｘ，ｙ）は、こうして層選択のための高周波励起パルスＲＦ１、ＲＦ２およびＲＦｎと勾配エコーＳ１、Ｓ２ないしＳｎとの間の磁界Ｂに関する積分と、一定の位相誤差φ０（ｘ，ｙ）との和に比例しており、その際に比例係数γは磁気回転定数である。
【００３２】
磁界Ｂは時間的に一定な磁界分布Ｂ₀と、測定勾配ＧＭから発生される時間的に変化する渦電流磁界Ｂ_Mと、勾配エコーブロックＧＥ１、ＧＥ２ないしＧＥｎ自体から発生される渦電流磁界Ｂ_Sとから成っている：
Ｂ（ｘ，ｙ，ｔ）＝Ｂ₀（ｘ，ｙ）＋Ｂ_M（ｘ，ｙ，ｔ）＋Ｂ_S（ｘ，ｙ，ｔ）
【００３３】
座標（ｘ，ｙ）を有する各々のデータセットｉの位相位置φ_i（ｘ，ｙ）に関して、次いで：
φ_i（ｘ，ｙ）＝γ（Ｂ₀（ｘ，ｙ）＋Ｂ_M（ｘ，ｙ，ｔ_i））Ｔ_E＋φ₀＋φ_S（ｘ，ｙ）
が得られる。
【００３４】
時間的に一定な磁界分布Ｂ₀および時間的に変化する渦電流磁界Ｂ_Mに関しては積分が、測定勾配パルスＧＭの渦電流Ｉ_Eがエコー時間Ｔ_Eの間にわたり一定であるという仮定のもとに計算された。勾配エコーブロックＧＥ１、ＧＥ２ないしＧＥｎ自体により生ずる位相成分φ_Sは全ての勾配エコーブロックに関して等しい。いま第ｎ勾配エコーＧＥｎを全ての他のものの位相補正のために使用すると、測定勾配パルスＧＭの渦電流磁界Ｂ _Mのみが残る。
φ_i（ｘ，ｙ）−φ_n（ｘ，ｙ）＝γＢ_M（ｘ，ｙ，ｔ_i）Ｔ_E−γＢ_M（ｘ，ｙ，ｔ_n）Ｔ_E≒γＢ_M（ｘ，ｙ，ｔ_i）Ｔ_E
【００３５】
時間ｔ_nが渦電流Ｉ_Eの時定数にくらべて大きいならば、位相差Δφ_iは時点ｔ_iでの渦電流Ｉ_Eに比例する。
【００３６】
いま時点ｔ_iでの渦電流の画像を得るために、各複素二次元像が時点ｔ_nでのデータセットにより位相補正される。それから次いで、時点ｔ_nからｔ_n-1迄の渦電流の時間的低下を表す位相像が計算される。
【００３７】
生ずる渦電流Ｉ_Eの非直線成分は、いま球関数に従う磁界分布の展開から計算できる。位相像は位相跳躍を有し得るので、一般に位相データへの直接的なデータフィットは可能でない。
【００３８】
評価の形式は、位相跳躍を公知の方法でデータセットから計算し、また次いで球関数に従う展開をフィットすることにある。
【００３９】
代替的な方法はドイツ特許第 195 11 791号明細書に記載されている。この方法では、データセットの隣接する画素の位相差が計算され、また球関数の空間的な導関数がフィット法により形成される。
【００４０】
その際両方の方法は、時点ｔ_iでの球関数の係数を与える。これらの係数への時間的に低下する指数関数ａ・ｅｘｐ（−ｔ／τ）のフィットにより、各々の係数に対して振幅各々の時定数が得られる。
【００４１】
非直線的な渦電流成分の計算が終了すると、次いでこれらが補償される。好ましくは補償は、勾配チャネルの中に発生する勾配パルスのフィルタリングにより行われ、それによってこれらの非直線的な渦電流の振幅および時定数が補償される。フィルタリングの結果として、補償パルスが得られ、この補償パルスが両方の他の勾配チャネルおよび／または核スピン共鳴装置のシムコイルに与えられる。
【００４２】
渦電流の交差項は第１次の球関数により記述可能である。こうして、例えばｘ勾配がｚ勾配に相当するＡ１０渦電流を発生する。文献中に記載されているように、このような項は相応の勾配（例ではこれはｚ勾配）の逆パルスにより補償される。
【００４３】
渦電流の中のより高い次数の項は、核スピン共鳴装置のシムコイルのパルスにより補償される。実際にはそのために、第２次および第３次の項に制限できる。なぜならば、より高い次数の項は小さい渦電流磁界しか生じないからである。
【００４４】
超伝導磁石を有する核スピン共鳴装置では、３００ないし５００ｍｓの時定数を有する寒冷シールドの中の渦電流が優勢である。すなわち測定勾配パルスＧＭは例えば２秒の長さを有するべきであろうし、また測定勾配パルスＧＭからの勾配エコーブロックＧＥｎの間隔ｔ_nは３秒であるべきであろう。それによって反復時間Ｔ_Rに対して５秒の値が生ずる。ただ１つの時定数を決定するべきであれば、４つないし８つのデータセットで十分である。位相像はわずかなバリエーションを有するのみなので、１６×１６のマトリックスで十分であり、それによって８０秒の測定時間が必要となる。
【００４５】
第２次までの渦電流を決定するためには、単に選択された層の測定では十分でなく、少なくとも１つの別の選択された層を測定しなければならない。両方の選択された層は、例えば±５０ｍｍの層のずれを持つ。
【００４６】
測定時間延長を避けるためには、勾配エコーブロックが互いの中に入り組んでいるべきであろう。勾配エコーブロックの入り組みは、例えば最初に層１からのエコー１を、次いで層２からのエコー１を、次いで層１からのエコー２を、次いで層２からのエコー２を（以下同様に）測定することにより達成される。
【００４７】
本発明の範囲内で別のバリエーションが考えられる。例えば三次元の測定（渦電流の経過に関する時間的な情報および三次元の位置情報）が、選択方向の追加的な位相コーディング勾配により達成される。
【００４８】
さらに、位相補正を、最後の勾配エコーＳｎにより実行するのではなく、測定勾配ＧＭが、例えば０または反転（負の測定勾配パルス）のように他の強さを有する追加的な測定により実行することも可能である。
【００４９】
さらに、測定勾配パルスＧＭは、必ずしも層選択勾配パルスＧＳでなくてもよい。測定勾配パルスＧＭは、本発明の範囲内で任意の方位を有し得る。
【００５０】
さらに、位相補正は、測定勾配パルスＧＭの前に位置する勾配エコーによっても行える。
【００５１】
さらに、読出し勾配ＧＲの省略により、ＦＩＤ（ｆｒｅｅｉｎｄｕｃｔｉｏｎｄｅｃａｙ、自由な誘導崩壊）を発生させ、周波数または位相を評価し（時間情報）、そして二次元または三次元の位置情報を読出し方向の追加的な位相コーディング勾配により、相応に長い測定時間の際に発生させることができる。
【００５２】
以上に挙げた実施例から明らかなように、本発明による原理は多面的に構成される。こうして簡単な方法で、非常にわずかな時間費用により、上記渦電流の検出が行われる。追加的に、ごく僅かな時間を費やすことで、渦電流に関するその他の情報を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の好ましい実施例を説明するための線図である。
【符号の説明】
ＧＤデフェージング勾配
ＧＥ１、ＧＥ２、ＧＥｎ勾配エコー‐ブロック
ＧＭ測定勾配パルス
ＧＰ１、ＧＰ２、ＧＰｎ位相コーディング勾配
ＧＲ１、ＧＲ２、ＧＲｎ読出し勾配
ＧＳ１、ＧＳ２、ＧＳｎ層選択‐勾配パルス
ＧＳ^- リフェージング勾配
Ｉ_E 渦電流
ＲＦ１、ＲＦ２、ＲＦｎ層選択‐ＨＦパルス
Ｓ１、Ｓ２、Ｓｎ勾配エコー（撮像信号）
ｔ₁、ｔ₁、ｔ_n 間隔
ｔ_E エコー時間
ｔ_G パルス幅
Ｔ_R 反復時間、繰り返し時間

Claims

核スピン共鳴装置のスイッチングされる磁界勾配により惹起され、交差項を含んでいる渦電流を検出する方法において、
ａ）空間的に広げられたファントムが核スピン共鳴装置の検査範囲の中に入れられるステップ、
ｂ）予め定めたパルス幅（ｔ_G）を有する測定勾配パルス（ＧＭ）がスイッチオンされるステップ、
ｃ）測定勾配パルス（ＧＭ）のスイッチオフの後に、間隔（ｔ₁、ｔ₂、ｔ_n ）をおいて相続く少なくとも２つの勾配エコーブロック（ＧＥ１、ＧＥ２、ＧＥｎ）が発生され、それらの勾配エコー（Ｓ１、Ｓ２、Ｓｎ）から少なくとも二次元の複素データセットが発生されるステップ
を含み、渦電流がほぼ減衰し終えた時点の位相データをも取得し、それを参照データとしてそれ以外の時点で取得した位相データから差し引くことで、測定勾配パルスＧＭの渦電流磁界Ｂ _M のみの影響を算出する
ことを特徴とする核スピン共鳴装置における渦電流を検出する方法。
ステップｃ）において、各勾配エコーブロック（ＧＥ１、ＧＥ２、ＧＥｎ）の中に、
ｃ１）層選択勾配パルス幅（ＧＳ１、ＧＳ２、ＧＳｎ）の作用のもとに第１の層選択ＨＦパルス（ＲＦ１、ＲＦ２、ＲＦｎ）が入射され、
ｃ２）それにより発生された勾配エコー（Ｓ１、Ｓ２、Ｓｎ）が測定勾配パルス（ＧＭ）により惹起される渦電流（ＩＥ）の減衰時間の間に検出され、
ｃ３）各々の勾配エコー（Ｓ１、Ｓ２、Ｓｎ）の前に位相コーディング勾配（ＧＰ１、ＧＰ２、ＧＰｎ）が置かれ、
ｃ４）勾配エコー（Ｓ１、Ｓ２、Ｓｎ）が読出し勾配（ＧＲ１、ＧＲ２、ＧＲｎ）のもとに位相コーディング勾配（ＧＰ１、ＧＰ２、ＧＰｎ）に対して垂直な方向に読出され、
ｄ）ステップｂ）およびｃ）が引き続いてスイッチングされる位相コーディング勾配（ＧＰ１、ＧＰ２、ＧＰｎ）により繰り返されるステップを含んでいる
ことを特徴とする請求項１記載の方法。
ｅ）ステップｂ）およびｃ）が、より高い次数の項を含んでいる渦電流を検出するため、選択された層の少なくとも１つの他の層により繰り返されるステップ
を含んでいることを特徴とする請求項１記載の方法。
ｅ）ステップｂ）ないしｄ）が、より高い次数の項を含んでいる渦電流を検出するため、選択された層の少なくとも１つの他の層により繰り返されるステップ
を含んでいることを特徴とする請求項２記載の方法。