JP4663663B2 - リソグラフィ装置およびデバイス製造方法 - Google Patents
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Description
[0015] 図1は、本発明の一実施形態によるリソグラフィ装置1を概略的に示す。リソグラフィ装置は、放射ビームB(例えば、UV放射またはその他適切な放射)を調整するように構成された照明システム(イルミネータ)ILと、パターニングデバイス(例えば、マスク)MAを支持するように構成され、また特定のパラメータに従ってパターニングデバイスを正確に位置付けるように構成された第1位置決めデバイスPMに連結されたマスク支持構造体(例えば、マスクテーブル)MTとを有する。リソグラフィ装置は、さらに、基板(例えば、レジストコートウェーハ)Wを保持するように構成され、また特定のパラメータに従って基板を正確に位置付けるように構成された第2位置決めデバイスPWに連結された基板テーブル(例えば、ウェーハテーブル)WTまたは「基板支持体」を備える。リソグラフィ装置は、さらに、パターニングデバイスMAによって放射ビームBに付けられたパターンを基板Wのターゲット部分C(例えば、1つ以上のダイを含む)上に投影するように構成された投影システム(例えば、屈折投影レンズシステム)PSを備える。
パラメータ=α1 .PQ1 + α2 .PQ2 + α3 .PQ1 2 + α4 .PQ2 2 + α5 .PQ1 .PQ2 + α6
ここで、α1、 α2、 α3、 α4、 α5 およびα6 は、パラメータのPQ1および/またはPQ2に対する所望の依存度を得るために選択される定数である。
Claims (18)
- リソグラフィ装置であって、
前記リソグラフィ装置内のX方向における基板テーブルの位置を規定する第1物理量を制御するための第1制御システムと、
前記リソグラフィ装置内のY方向における前記基板テーブルの位置を規定する第2物理量を制御するための第2制御システムと、を備え、
前記第1制御システムは、利得係数パラメータを有する第1フィードフォワード経路を備え、
前記第1制御システムと前記第2制御システムとは、前記第2制御システムから前記第1制御システムへフィードフォワード信号を提供する第2フィードフォワード経路で接続されており、
前記第1制御システムにおける前記利得係数パラメータ、または、前記第2制御システムから前記第1制御システムへの前記フィードフォワード信号の少なくとも一方を、前記第2制御システム内の信号に二乗的に依存するように構成することによって、外乱の影響を相殺し、前記第1制御システムと前記第2制御システムとのクロストークを補償する、
リソグラフィ装置。 - 前記第1物理量および前記第2物理量は、それぞれ、位置、速度、加速度、およびジャークのうち少なくとも一つを備える、
請求項1に記載のリソグラフィ装置。 - 前記利得係数パラメータは前記第2フィードフォワード経路内の利得係数を含み、
前記利得係数は、速度利得、加速度利得、ジャーク利得、スナップ利得、クラックル利得、ポップ利得のうち少なくとも一つを決定する、
請求項1に記載のリソグラフィ装置。 - 前記第1物理量および前記第2物理量は、それぞれ、次元位置、次元速度および次元加速度のうちの一つを備え、
前記第2物理量の次元は、前記第1物理量の次元に実質的に垂直である、
請求項1に記載のリソグラフィ装置。 - 前記利得係数パラメータは、前記第2物理量に線形的に依存する、
請求項1に記載のリソグラフィ装置。 - 前記利得係数パラメータは、閉ループ制御経路内に備えられている、
請求項1に記載のリソグラフィ装置。 - 前記第1制御システムを励起するテスト信号発生器と、
前記テスト信号発生器によるテスト信号に起因する、前記第1制御システム内のエラー信号を検出するためのデータ取得部と、
前記エラー信号を使用して、前記利得係数パラメータの新しい値を決定するための計算機と、
をさらに備える請求項1に記載のリソグラフィ装置。 - 前記テスト信号発生器が、インパルス信号発生器および制御システム設定点信号発生器の一方を備える、
請求項7に記載のリソグラフィ装置。 - 前記リソグラフィ装置を診断するための診断部をさらに備え、
前記診断部は、前記利得係数パラメータの前記新しい値を有するとともに、前記利得係数パラメータの前記新しい値を所望の範囲と比較して前記新しい値が前記所望範囲外であった際に診断警告メッセージを出す比較器を備える、
請求項7に記載のリソグラフィ装置。 - リソグラフィ装置によって、パターニングデバイスから基板テーブルに支持された基板上にパターンを転写する工程と、
第1制御システムによって、前記リソグラフィ装置内のX方向における前記基板テーブルの位置を規定する第1物理量を制御する工程と、
第2制御システムによって、前記リソグラフィ装置内のY方向における前記基板テーブルの位置を規定する第2物理量を制御する工程と、を備え、
前記第1制御システムは、利得係数パラメータを有する第1フィードフォワード経路を備え、
前記第1制御システムと前記第2制御システムとは、前記第2制御システムから前記第1制御システムへフィードフォワード信号を提供する第2フィードフォワード経路で接続されており、
前記第1制御システムにおける前記利得係数パラメータ、または、前記第2制御システムから前記第1制御システムへの前記フィードフォワード信号の少なくとも一方を、前記第2制御システム内の信号に二乗的に依存するように制御することによって、外乱の影響を相殺し、前記第1制御システムと前記第2制御システムとのクロストークを補償する、
デバイス製造方法。 - 前記第1物理量および前記第2物理量は、それぞれ、位置、速度、加速度、およびジャークのうち少なくとも一つを備える、
請求項10に記載のデバイス製造方法。 - 前記利得係数パラメータは前記第2フィードフォワード経路内の利得係数を備え、
前記利得係数は、速度利得、加速度利得、ジャーク利得、スナップ利得、クラックル利得、ポップ利得のうち少なくとも一つを決定する、
請求項10に記載のデバイス製造方法。 - 前記第1物理量および前記第2物理量は、それぞれ、一次元位置、一次元速度および一次元加速度のうちの一つを備え、
前記第2物理量の次元は、前記第1物理量の次元に実質的に垂直である、
請求項10に記載のデバイス製造方法。 - 前記利得係数パラメータは、前記第2物理量に線形的に依存する、
請求項10に記載のデバイス製造方法。 - 前記利得係数パラメータは、閉ループ制御経路内に備えられている、
請求項10に記載のデバイス製造方法。 - テスト信号によって前記第1制御システムを励起する工程と、
前記テスト信号に起因する、前記第1制御システム内のエラー信号を検出する工程と、
前記エラー信号を使用して、前記利得係数パラメータの新しい値を決定する工程と、
をさらに備える請求項10に記載のデバイス製造方法。 - 前記テスト信号が、インパルス信号および制御システム設定点信号の一方を備える、
請求項16に記載のデバイス製造方法。 - 前記利得係数パラメータの前記新しい値を使用して、前記リソグラフィ装置を診断する工程をさらに備え、
前記診断工程は、
前記利得係数パラメータの前記新しい値を所望の範囲と比較する工程と、
前記新しい値が前記所望範囲外であった際に診断警告メッセージを出す工程と、
を備える、
請求項16に記載のデバイス製造方法。
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