JP4661388B2 - Inorganic powder-containing resin composition, transfer film, and method for producing plasma display panel member - Google Patents

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Description

本発明は、プラズマディスプレイパネル用部材の製造に好適な無機粉体含有樹脂組成物、該組成物から得られる転写フィルムおよび該転写フィルムを用いた上記プラズマディスプレイパネル用部材の製造方法に関する。   The present invention relates to an inorganic powder-containing resin composition suitable for producing a plasma display panel member, a transfer film obtained from the composition, and a method for producing the plasma display panel member using the transfer film.

近年、平板状の蛍光表示体としてプラズマディスプレイパネル(以下「PDP」ともいう)が注目されている。PDPは、透明電極を形成し、近接した2枚のガラス板の間にアルゴンまたはネオンなどの不活性ガスを封入し、プラズマ放電を起こしてガスを光らせることにより、蛍光体を発光させて情報を表示するディスプレイである。   In recent years, a plasma display panel (hereinafter also referred to as “PDP”) has attracted attention as a flat fluorescent display. A PDP forms a transparent electrode, encloses an inert gas such as argon or neon between two adjacent glass plates, causes plasma discharge to light up the gas, thereby causing phosphors to emit light and display information. It is a display.

図1は従来公知の交流型PDPの断面形状を示す模式図である。図1において、101および102は対抗配置されたガラス基板、103および111は隔壁であり、ガラス基板101、ガラス基板102、背面隔壁103および前面隔壁111によりセルが区画形成されている。104はガラス基板101に固定された透明電極であり、105は透明電極104の抵抗を下げる目的で該透明電極104上に形成されたバス電極であり、106はガラス基板102に固定されたアドレス電極であり、107はセル内に保持された蛍光物質であり、108は透明電極104およびバス電極105を被覆するようガラス基板101の表面に形成された誘電体層であり、109はアドレス電極106を被覆するようガラス基板102の表面に形成された誘電体層であり、110は例えば酸化マグネシウムよりなる保護膜である。また、カラーPDPにおいては、コントラストの高い画像を得るため、ガラス基板と誘電体層との間に、カラーフィルター(赤色・緑色・青色)やブラックマトリックスなどを設けることがある。   FIG. 1 is a schematic diagram showing a cross-sectional shape of a conventionally known AC type PDP. In FIG. 1, reference numerals 101 and 102 denote opposing glass substrates, and reference numerals 103 and 111 denote partition walls. Cells are partitioned by the glass substrate 101, the glass substrate 102, the rear partition wall 103, and the front partition wall 111. 104 is a transparent electrode fixed to the glass substrate 101, 105 is a bus electrode formed on the transparent electrode 104 for the purpose of reducing the resistance of the transparent electrode 104, and 106 is an address electrode fixed to the glass substrate 102. 107 is a fluorescent material held in the cell, 108 is a dielectric layer formed on the surface of the glass substrate 101 so as to cover the transparent electrode 104 and the bus electrode 105, and 109 is an address electrode 106. A dielectric layer is formed on the surface of the glass substrate 102 so as to cover it, and 110 is a protective film made of, for example, magnesium oxide. In a color PDP, a color filter (red / green / blue) or a black matrix may be provided between the glass substrate and the dielectric layer in order to obtain a high contrast image.

このようなPDP用部材、例えば、誘電体層、隔壁、電極、蛍光体、カラーフィルターおよびブラックマトリックスの製造方法としては、無機粉体を含有する感光性樹脂層を基板上に形成し、該樹脂層にフォトマスクを介して紫外線を照射して現像し、基板上に形成されたパターンを焼成する工程からなるフォトリソグラフィー法などが好適に用いられている(特許文献1〜3参照)。   As a method for producing such a PDP member, for example, a dielectric layer, a partition, an electrode, a phosphor, a color filter, and a black matrix, a photosensitive resin layer containing an inorganic powder is formed on a substrate, and the resin A photolithography method or the like including a step of irradiating the layer with ultraviolet rays through a photomask for development and baking a pattern formed on the substrate is suitably used (see Patent Documents 1 to 3).

無機粉体を含有する感光性樹脂層を基板上に形成する方法としては、可撓性を有する支持フィルム上に該樹脂層を形成した転写フィルムを用いて、該樹脂層を転写して形成する方法が好適に用いられている。このように、転写フィルムを用いることにより、厚みの均一性に優れた樹脂層が得られるとともに、作業効率の向上を図ることができる。   As a method for forming a photosensitive resin layer containing an inorganic powder on a substrate, a transfer film in which the resin layer is formed on a flexible support film is used to transfer and form the resin layer. The method is preferably used. Thus, by using a transfer film, a resin layer with excellent thickness uniformity can be obtained, and work efficiency can be improved.

しかしながら、無機粉体を含有する感光性樹脂組成物において、多価金属および/または多価金属酸化物を含有する無機粉体を使用すると、該樹脂組成物がゲル化するという問題点があった。これは、組成物に感光性とアルカリ可溶性を付与するために、通常、結着樹脂として不飽和二重結合を有するアルカリ可溶性ポリマーを使用しているため、ポリマー中の酸性官能基(カルボキシル基など)と、上記無機粉体表面の多価金属水酸化物とが、反応することに起因する。   However, in the photosensitive resin composition containing the inorganic powder, there is a problem that when the inorganic powder containing the polyvalent metal and / or the polyvalent metal oxide is used, the resin composition is gelled. . This is because an alkali-soluble polymer having an unsaturated double bond is usually used as a binder resin in order to impart photosensitivity and alkali-solubility to the composition. ) And the polyvalent metal hydroxide on the surface of the inorganic powder are caused to react with each other.

このように、無機粉体を含有する樹脂組成物がゲル化すると、フィルム化が困難となるだけでなく、仮にフィルム化できたとしても現像処理が不安定になるなどの問題が生じるため、樹脂組成物を長期間保存することができなかった。
特開平9−102273号公報 特開平11−144628号公報 特開平11−162339号公報
As described above, when the resin composition containing the inorganic powder is gelled, not only the film formation becomes difficult, but even if the film can be formed into a film, the development process becomes unstable. The composition could not be stored for a long time.
JP-A-9-102273 Japanese Patent Laid-Open No. 11-144628 Japanese Patent Laid-Open No. 11-162339

本発明は、保存安定性に優れた無機粉体含有樹脂組成物、該樹脂組成物からなる層を有する転写フィルムおよび該転写フィルムを用いたPDP用部材の製造方法を提供することを目的とする。   An object of the present invention is to provide an inorganic powder-containing resin composition having excellent storage stability, a transfer film having a layer comprising the resin composition, and a method for producing a member for PDP using the transfer film. .

本発明に係る無機粉体含有樹脂組成物は、
(A)無機粉体、
(B)下記式(1)で表される構成単位を有する重合体、
Inorganic powder-containing resin composition according to the present invention,
(A) inorganic powder,
(B) a polymer having a structural unit represented by the following formula (1),

Figure 0004661388
Figure 0004661388

(式(1)中、R1 は水素原子またはメチル基であり、R2 は炭素数1〜5のアルキル基であり、mおよびnは1〜5の整数、かつ、m≠nであり、aは1〜100の整数であり、bは0〜100の整数である。)
(C)多官能性(メタ)アクリレート、および
(D)光重合開始剤
を含有することを特徴とする。
(In the formula (1), R 1 is a hydrogen atom or a methyl group, R 2 is an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, m and n are integers of 1 to 5 and m ≠ n. a is an integer of 1 to 100, and b is an integer of 0 to 100.)
It contains (C) a polyfunctional (meth) acrylate and (D) a photopolymerization initiator.

本発明に係る転写フィルムは、上記無機粉体含有樹脂組成物を用いて形成された無機粉体含有樹脂層を有することを特徴とする。
本発明に係るPDP用部材の製造方法は、上記転写フィルムを用いて、該転写フィルムを構成する無機粉体含有樹脂層を基板上に転写する工程、該無機粉体含有樹脂層を露光処理してパターンの潜像を形成する工程、該無機粉体含有樹脂層を現像処理してパターンを形成する工程および該パターンを焼成処理する工程を含むことを特徴とする。
The transfer film according to the present invention has an inorganic powder-containing resin layer formed using the inorganic powder-containing resin composition.
The method for producing a PDP member according to the present invention includes a step of transferring an inorganic powder-containing resin layer constituting the transfer film onto a substrate using the transfer film, and subjecting the inorganic powder-containing resin layer to an exposure treatment. Forming a latent image of the pattern, developing the inorganic powder-containing resin layer to form a pattern, and baking the pattern.

本発明によれば、長期間保存してもゲル化による粘度の上昇を抑制することができる無機粉体含有樹脂組成物を含有する樹脂組成物が得られる。
上記樹脂組成物から形成された感光性樹脂層を有する本発明の転写フィルムは転写性に優れており、該転写フィルムを用いることにより、パターン形状に優れたPDP用部材を形成することができる。
ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the resin composition containing the inorganic powder containing resin composition which can suppress the raise of the viscosity by gelatinization even if it preserve | saves for a long period of time is obtained.
The transfer film of the present invention having the photosensitive resin layer formed from the resin composition is excellent in transferability, and by using the transfer film, a member for PDP having an excellent pattern shape can be formed.

以下、本発明に係る無機粉体含有樹脂組成物、該樹脂組成物からなる層を有する転写フィルムおよび該転写フィルムを用いたPDP用部材の製造方法について詳細に説明する。
<無機粉体含有樹脂組成物>
本発明の無機粉体含有樹脂組成物は、(A)無機粉体、(B)特定の構成単位を有する
重合体、(C)多官能性(メタ)アクリレートおよび(D)光重合開始剤を含有してなるペースト状の組成物である。
Hereinafter, an inorganic powder-containing resin composition according to the present invention, a transfer film having a layer made of the resin composition, and a method for producing a PDP member using the transfer film will be described in detail.
<Inorganic powder-containing resin composition>
The inorganic powder-containing resin composition of the present invention comprises (A) inorganic powder, (B) a polymer having a specific structural unit, (C) a polyfunctional (meth) acrylate, and (D) a photopolymerization initiator. It is the paste-like composition formed.

(A)無機粉体
本発明の無機粉体含有樹脂組成物に用いられる無機粉体(A)は、形成する構成部材の種類によって異なるが、いずれも金属および/または金属酸化物を含有する無機粉体である。
(A) Inorganic powder The inorganic powder (A) used in the inorganic powder-containing resin composition of the present invention varies depending on the type of constituent member to be formed, but any inorganic containing metal and / or metal oxide. It is a powder.

例えば、PDPを構成する「誘電体層」および「隔壁」を形成するための組成物に用いられる無機粉体としては、ガラス粉末が挙げられる。上記ガラス粉末は、その軟化点が400〜650℃の範囲内にあるものが好ましい。ガラス粉末の軟化点が上記範囲にあることにより、PDP用部材を製造する際の焼成工程を良好に行うことができる。その結果、結着樹脂などの有機物質が構成部材中に残留することがないため、アウトガスのパネル内への拡散による蛍光体の寿命低下を引き起こさず、またガラス基板の歪みなどを生じることもない。   For example, glass powder is mentioned as an inorganic powder used for the composition for forming the "dielectric layer" and "partition" which comprise PDP. The glass powder preferably has a softening point in the range of 400 to 650 ° C. When the softening point of the glass powder is in the above range, the firing step in producing the PDP member can be performed satisfactorily. As a result, an organic substance such as a binder resin does not remain in the constituent member, so that the lifetime of the phosphor is not reduced due to diffusion of outgas into the panel, and the glass substrate is not distorted. .

本発明の樹脂組成物に好適に用いられるガラス粉末としては、
(1)酸化鉛、酸化ホウ素、酸化ケイ素、酸化カルシウム系(PbO−B23−SiO2
−CaO 系)、
(2)酸化亜鉛、酸化ホウ素、酸化ケイ素系(ZnO−B23−SiO2系)、
(3)酸化鉛、酸化ホウ素、酸化ケイ素、酸化アルミニウム系(PbO−B23−SiO2−Al23系)、
(4)酸化鉛、酸化亜鉛、酸化ホウ素、酸化ケイ素系(PbO−ZnO−B23−SiO2系)、
(5)酸化鉛、酸化亜鉛、酸化ホウ素、酸化ケイ素、酸化チタン系(PbO−ZnO−B23−SiO2−TiO2系)、
(6)酸化ビスマス、酸化ホウ素、酸化ケイ素系(Bi23−B23−SiO2系)、
(7)酸化亜鉛、酸化リン、酸化ケイ素系(ZnO−P25−SiO2系)、
(8)酸化亜鉛、酸化ホウ素、酸化カリウム系(ZnO−B23−K2O系)、
(9)酸化リン、酸化ホウ素、酸化アルミニウム系(P25−B23−Al23系)、
(10)酸化亜鉛、酸化リン、酸化チタン系(ZnO−P25−TiO2系)混合物
などが挙げられる。
As the glass powder suitably used for the resin composition of the present invention,
(1) Lead oxide, boron oxide, silicon oxide, calcium oxide (PbO—B 2 O 3 —SiO 2
-CaO system),
(2) Zinc oxide, boron oxide, silicon oxide type (ZnO—B 2 O 3 —SiO 2 type),
(3) Lead oxide, boron oxide, silicon oxide, aluminum oxide system (PbO—B 2 O 3 —SiO 2 —Al 2 O 3 system),
(4) Lead oxide, zinc oxide, boron oxide, silicon oxide system (PbO—ZnO—B 2 O 3 —SiO 2 system),
(5) Lead oxide, zinc oxide, boron oxide, silicon oxide, titanium oxide system (PbO—ZnO—B 2 O 3 —SiO 2 —TiO 2 system),
(6) Bismuth oxide, boron oxide, silicon oxide system (Bi 2 O 3 —B 2 O 3 —SiO 2 system),
(7) Zinc oxide, phosphorus oxide, silicon oxide type (ZnO—P 2 O 5 —SiO 2 type),
(8) Zinc oxide, boron oxide, potassium oxide (ZnO—B 2 O 3 —K 2 O),
(9) Phosphorus oxide, boron oxide, aluminum oxide system (P 2 O 5 —B 2 O 3 —Al 2 O 3 system),
(10) Zinc oxide, phosphorus oxide, titanium oxide (ZnO—P 2 O 5 —TiO 2 ) mixture and the like can be mentioned.

上記ガラス粉末に、例えば、酸化アルミニウム、酸化クロム、酸化マンガンなどの無機酸化物粉末を混合して用いてもよい。
上記ガラス粉末は、他の構成部材、例えば電極、抵抗体、蛍光体、カラーフィルターおよびブラックマトリックスを形成するための組成物中に含有(併用)されていてもよい。本発明の樹脂組成物に上記ガラス粉末と該ガラス粉末以外の無機粉体とを併用する場合、該ガラス粉末は、無機粉体全量に対して、通常90質量%以下の量で用いられる。
You may mix and use inorganic oxide powders, such as aluminum oxide, chromium oxide, manganese oxide, for example to the said glass powder.
The glass powder may be contained (combined) in a composition for forming another component, for example, an electrode, a resistor, a phosphor, a color filter, and a black matrix. When using together the said glass powder and inorganic powders other than this glass powder with the resin composition of this invention, this glass powder is normally used in the quantity of 90 mass% or less with respect to the inorganic powder whole quantity.

PDPを構成する「電極」、例えば、図1における透明電極104、バス電極105、アドレス電極106などを形成するための組成物に用いられる無機粉体としては、Ag、Au、Al、Ni、Ag−Pd合金、Cu、Crなどからなる金属粉が挙げられる。   Examples of the inorganic powder used in the composition for forming the “electrode” constituting the PDP, for example, the transparent electrode 104, the bus electrode 105, and the address electrode 106 in FIG. 1 include Ag, Au, Al, Ni, and Ag. -Metal powder made of -Pd alloy, Cu, Cr or the like.

PDPを構成する「抵抗体」を形成するための組成物に用いられる無機粉体としては、RuO2などの無機粉体が挙げられる。
PDPを構成する「蛍光体」を形成するための組成物に用いられる無機粉体としては、Y23:Eu3+、Y2SiO5:Eu3+、Y3Al512:Eu3+、YVO4:Eu3+、(Y
,Gd)BO3:Eu3+、Zn3(PO42:Mnなどの組成を有する赤色用蛍光物質;
Zn2SiO4:Mn、BaAl1219:Mn、BaMgAl1423:Mn、LaPO4
(Ce,Tb)、Y3(Al,Ga)512:Tbなどの組成を有する緑色用蛍光物質;
2SiO5:Ce、BaMgAl1017:Eu2+、BaMgAl1423:Eu2+、(Ca,Sr,Ba)10(PO4612:Eu2+、(Zn,Cd)S:Agなどの組成を有する青色用蛍光物質などからなる無機粉体が挙げられる。
Examples of the inorganic powder used in the composition for forming the “resistor” constituting the PDP include inorganic powders such as RuO 2 .
Examples of the inorganic powder used in the composition for forming the “phosphor” constituting the PDP include Y 2 O 3 : Eu 3+ , Y 2 SiO 5 : Eu 3+ , Y 3 Al 5 O 12 : Eu. 3+ , YVO 4 : Eu 3+ , (Y
, Gd) red fluorescent material having a composition such as BO 3 : Eu 3+ , Zn 3 (PO 4 ) 2 : Mn;
Zn 2 SiO 4 : Mn, BaAl 12 O 19 : Mn, BaMgAl 14 O 23 : Mn, LaPO 4 :
A green phosphor having a composition such as (Ce, Tb), Y 3 (Al, Ga) 5 O 12 : Tb;
Y 2 SiO 5 : Ce, BaMgAl 10 O 17 : Eu 2+ , BaMgAl 14 O 23 : Eu 2+ , (Ca, Sr, Ba) 10 (PO 4 ) 6 C 12 : Eu 2+ , (Zn, Cd) S: Inorganic powder made of a fluorescent material for blue having a composition such as Ag.

PDPを構成する「カラーフィルター」を形成するための組成物に用いられる無機粉体としては、Fe23、Pb34などの赤色用物質、Cr23などの緑色用物質、2(Al2Na2Si310)・Na24などの青色用物質などからなる無機粉体が挙げられる。 Inorganic powders used in the composition for forming the “color filter” constituting the PDP include red materials such as Fe 2 O 3 and Pb 3 O 4 , green materials such as Cr 2 O 3 , 2 Examples thereof include inorganic powders made of blue materials such as (Al 2 Na 2 Si 3 O 10 ) · Na 2 S 4 .

PDPを構成する「ブラックマトリックス」を形成するための組成物に用いられる無機粉体としては、Mn、Fe、Crなどからなる金属粉を挙げることができる。
(B)重合体
本発明で用いられる重合体(B)は、下記式(1)で表される構成単位(以下「構成単位(1)」ともいう)を有する水溶性重合体であり、結着樹脂としての役割を有する。なお、本発明における「水溶性」とは、後述する本発明のPDP用部材の製造方法における現像工程によって、目的とする現像処理が遂行される程度に溶解性を有する性質をいう。
Examples of the inorganic powder used in the composition for forming the “black matrix” constituting the PDP include metal powder made of Mn, Fe, Cr and the like.
(B) Polymer The polymer (B) used in the present invention is a water-soluble polymer having a structural unit represented by the following formula (1) (hereinafter also referred to as “structural unit (1)”). It has a role as a resin. The “water-soluble” in the present invention refers to a property that is soluble to such an extent that a target development process is performed by a development step in the method for producing a PDP member of the present invention described later.

Figure 0004661388
Figure 0004661388

上記式(1)中、R1は水素原子またはメチル基であり、R2は炭素数1〜5のアルキル基であり、たとえば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、i−プロピル基、n−ブチル基、i−ブチル基、t−ブチル基などが挙げられ、特にメチル基が好ましい。また、mおよびnは1〜5の整数、好ましくは1〜3の整数であり、かつ、m≠nであり、aは1〜100の整数、好ましくは1〜20の整数であり、bは0〜100の整数、好ましくは0〜20の整数である。 In said formula (1), R < 1 > is a hydrogen atom or a methyl group, R < 2 > is a C1-C5 alkyl group, for example, a methyl group, an ethyl group, n-propyl group, i-propyl group, An n-butyl group, an i-butyl group, a t-butyl group and the like can be mentioned, and a methyl group is particularly preferable. M and n are integers of 1 to 5, preferably an integer of 1 to 3, and m ≠ n, a is an integer of 1 to 100, preferably an integer of 1 to 20, and b is It is an integer of 0 to 100, preferably an integer of 0 to 20.

重合体(B)における上記構成単位(1)の含有量は、特に制限されないが、好ましくは20〜99.9モル%、より好ましくは25〜90モル%、特に好ましくは30〜80モル%である。   The content of the structural unit (1) in the polymer (B) is not particularly limited, but is preferably 20 to 99.9 mol%, more preferably 25 to 90 mol%, and particularly preferably 30 to 80 mol%. is there.

上記のような重合体(B)を用いることにより、他の樹脂に比べて無機粉体との相互作用が強すぎないため、保存安定性に優れた無機粉体含有樹脂組成物が得られる。
上記構成単位(1)を有する重合体(B)は、下記式(2)で表される化合物を(共)重合させることにより得られる。
By using the polymer (B) as described above, since the interaction with the inorganic powder is not too strong as compared with other resins, an inorganic powder-containing resin composition having excellent storage stability can be obtained.
The polymer (B) having the structural unit (1) can be obtained by (co) polymerizing a compound represented by the following formula (2).

Figure 0004661388
Figure 0004661388

式(2)中、R1 は水素原子またはメチル基であり、R2 は炭素数1〜5のアルキル基であり、mおよびnは1〜5の整数、かつ、m≠nであり、aは1〜100の整数であり、bは0〜100の整数である。 In Formula (2), R 1 is a hydrogen atom or a methyl group, R 2 is an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, m and n are integers of 1 to 5, and m ≠ n, Is an integer from 1 to 100, and b is an integer from 0 to 100.

上記式(2)で表される化合物としては、
メトキシポリエチレングリコールモノ(メタ)アクリレート(m=2、b=0)、
メトキシポリプロピレングリコールモノ(メタ)アクリレート(m=3、b=0)、
メトキシポリブチレングリコールモノ(メタ)アクリレート(m=4、b=0)、
メトキシポリ(エチレングリコール−プロピレングリコール)モノ(メタ)アクリレート(m=2、n=3)、および
メトキシポリ(プロピレングリコール−ブチレングリコール)モノ(メタ)アクリレート(m=3、n=4)などが挙げられる。これらの中では、メトキシポリエチレングリコールモノ(メタ)アクリレートが特に好ましい。
As the compound represented by the above formula (2),
Methoxy polyethylene glycol mono (meth) acrylate (m = 2, b = 0),
Methoxy polypropylene glycol mono (meth) acrylate (m = 3, b = 0),
Methoxypolybutylene glycol mono (meth) acrylate (m = 4, b = 0),
And methoxypoly (ethylene glycol-propylene glycol) mono (meth) acrylate (m = 2, n = 3) and methoxypoly (propylene glycol-butylene glycol) mono (meth) acrylate (m = 3, n = 4). . Of these, methoxypolyethylene glycol mono (meth) acrylate is particularly preferred.

上記化合物の市販品としては、日本油脂(株)製「ブレンマー」シリーズが挙げられ、特に「ブレンマーPME−100」、「同PME−200」、「同PME−350」等が挙げられる。   Examples of commercially available products of the above-mentioned compounds include “Blemmer” series manufactured by Nippon Oil & Fats Co., Ltd., particularly “Blemmer PME-100”, “Same PME-200”, “Same PME-350” and the like.

本発明で用いられる重合体(B)における他の構成モノマーとしては、例えば、
(メタ)アクリル酸2−ヒドロキシエチル、(メタ)アクリル酸2−ヒドロキシプロピル、(メタ)アクリル酸3−ヒドロキシプロピルなどの水酸基含有モノマー類;
o−ヒドロキシスチレン、m−ヒドロキシスチレン、p−ヒドロキシスチレン等のフェノール性水酸基含有モノマー類などのアクリレート類;
(メタ)アクリルアミド、N,N-ジメチルアクリルアミド、N,N-ジメチルアミノプロピルアクリルアミド、N,N-ジエチルアクリルアミド、N-イソプロピルアクリルアミド、
アクリロイルモルホリンなどのアミド基含有モノマー類;
メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、プロピル(メタ)アクリレート、ビニルアセテート、ビニルプロピオネート、ビニルブチレート、ビニルトリメチルアセテート、ビニルフェニルアセテートなどが挙げられる。
As other constituent monomers in the polymer (B) used in the present invention, for example,
Hydroxyl group-containing monomers such as 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 3-hydroxypropyl (meth) acrylate;
Acrylates such as phenolic hydroxyl group-containing monomers such as o-hydroxystyrene, m-hydroxystyrene, and p-hydroxystyrene;
(Meth) acrylamide, N, N-dimethylacrylamide, N, N-dimethylaminopropylacrylamide, N, N-diethylacrylamide, N-isopropylacrylamide,
Amide group-containing monomers such as acryloylmorpholine;
Examples include methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, propyl (meth) acrylate, vinyl acetate, vinyl propionate, vinyl butyrate, vinyl trimethyl acetate, and vinyl phenyl acetate.

上記他の構成モノマーの中では、水酸基含有モノマー類、フェノール性水酸基含有モノマー類およびアミド基含有モノマー類が好ましく、水酸基含有モノマー類およびアミド基含有モノマー類がより好ましく、特に水酸基含有モノマー類とアミド基含有モノマー類とを併用することが好ましい。   Among the other constituent monomers, hydroxyl group-containing monomers, phenolic hydroxyl group-containing monomers and amide group-containing monomers are preferred, hydroxyl group-containing monomers and amide group-containing monomers are more preferred, and particularly hydroxyl group-containing monomers and amides. It is preferable to use together with group-containing monomers.

重合体(B)における上記他の構成モノマー由来の構成単位の含有量は、特に制限されないが、好ましくは0.1〜70モル%、より好ましくは5〜65モル%、特に好ましくは10〜60モル%である。このような範囲で上記他の構成モノマー由来の構成単位を含有することにより、転写フィルムにしたときのハンドリング性および基板への転写性が共
に優れ、水現像性、パターン密着性およびフィルムの保存安定性が良好な転写フィルムを得ることができる。
The content of the structural unit derived from the other constituent monomer in the polymer (B) is not particularly limited, but is preferably 0.1 to 70 mol%, more preferably 5 to 65 mol%, and particularly preferably 10 to 60. Mol%. By containing the structural unit derived from the above other constituent monomers in such a range, both handling property when transferred to a transfer film and transfer property to a substrate are excellent, water developability, pattern adhesion, and film storage stability. A transfer film with good properties can be obtained.

他の構成モノマーとして水酸基含有モノマー類を用いる場合、当該モノマー由来の構成単位の含有量は、好ましくは40モル%以下、より好ましくは10〜30モル%である。このような範囲で水酸基含有モノマー由来の構成単位を含有することにより、水現像性およびパターン密着性に優れた組成物および転写フィルムを得ることができる。   When using a hydroxyl group-containing monomer as another constituent monomer, the content of the constituent unit derived from the monomer is preferably 40 mol% or less, more preferably 10 to 30 mol%. By containing the structural unit derived from a hydroxyl group-containing monomer in such a range, a composition and a transfer film excellent in water developability and pattern adhesion can be obtained.

また、他の構成モノマーとしてアミド基含有モノマー類を用いる場合、当該モノマー由来の構成単位の含有量は、好ましくは50モル%以下、より好ましくは10〜40モル%である。このような範囲でアミド基含有モノマー由来の構成単位を含有することにより、水現像性および解像性に優れた組成物および転写フィルムを得ることができる。   Moreover, when using an amide group containing monomer as another structural monomer, content of the structural unit derived from the monomer is preferably 50 mol% or less, more preferably 10 to 40 mol%. By containing a structural unit derived from an amide group-containing monomer in such a range, a composition and a transfer film excellent in water developability and resolution can be obtained.

さらに、上記他の構成モノマーとして水酸基含有モノマー類とアミド基含有モノマー類とを併用する場合、水酸基含有モノマー由来の構成単位の含有量と、アミド基含有モノマー由来の構成単位の含有量とのモル比(水酸基:アミド基)は、1:5〜5:1、好ましくは1:4〜4:1、特に好ましくは1:3〜3:1である。このようなモル比で水酸基含有モノマー類とアミド基含有モノマー類とを併用することにより、水現像性およびパターン密着性に優れた組成物および転写フィルムが得られ、さらに転写フィルムにしたときにハンドリング性に優れるという利点がある。   Further, when the hydroxyl group-containing monomer and the amide group-containing monomer are used in combination as the other constituent monomer, the moles of the content of the structural unit derived from the hydroxyl group-containing monomer and the content of the structural unit derived from the amide group-containing monomer. The ratio (hydroxyl group: amide group) is 1: 5 to 5: 1, preferably 1: 4 to 4: 1, particularly preferably 1: 3 to 3: 1. By using a hydroxyl group-containing monomer and an amide group-containing monomer in such a molar ratio, a composition and transfer film excellent in water developability and pattern adhesion can be obtained, and further handled when formed into a transfer film. There is an advantage of superiority.

上記重合体(B)の重量平均分子量(Mw)は、好ましくは5,000〜5,000,000、特に好ましくは10,000〜300,000である。Mwが上記範囲にあることにより、転写フィルムとしたときのフィルム形成性がよく、パターニング性にも優れる。なお、上記Mwは、GPC測定によるポリスチレン換算の重量平均分子量である。   The polymer (B) has a weight average molecular weight (Mw) of preferably 5,000 to 5,000,000, particularly preferably 10,000 to 300,000. When Mw is in the above range, the film-forming property when the transfer film is formed is good, and the patterning property is also excellent. In addition, said Mw is the weight average molecular weight of polystyrene conversion by GPC measurement.

また、重合体(B)のガラス転移温度(Tg)は、好ましくは0〜70℃であり、さらに好ましくは10〜50℃である。Tgがこのような範囲にあることにより、転写フィルムにしたときのハンドリング性、保存安定性および基板への転写性が良好となる。   Moreover, the glass transition temperature (Tg) of a polymer (B) becomes like this. Preferably it is 0-70 degreeC, More preferably, it is 10-50 degreeC. When Tg is in such a range, handling property, storage stability, and transfer property to a substrate are improved when the transfer film is formed.

本発明の組成物における上記重合体(B)の含有量は、上記無機粉体100重量部に対して、通常、1〜50重量部、好ましくは10〜45重量部、特に好ましくは20〜40重量部である。重合体(B)の含有量が上記範囲にあることにより、本発明の効果が充分に発現される。   The content of the polymer (B) in the composition of the present invention is usually 1 to 50 parts by weight, preferably 10 to 45 parts by weight, particularly preferably 20 to 40 parts by weight based on 100 parts by weight of the inorganic powder. Parts by weight. When the content of the polymer (B) is in the above range, the effects of the present invention are sufficiently exhibited.

なお、本発明の組成物には、結着樹脂として、本発明の効果が損なわれず、PDP用部材形成の際に水現像が可能な範囲で、重合体(B)以外の重合体を併用してもよい。
(C)多官能性(メタ)アクリレート
本発明の組成物を構成する多官能性(メタ)アクリレート(C)は、露光により重合化されて、露光部分が現像液に不溶性または難溶性になる性質を有する。
In the composition of the present invention, as the binder resin, a polymer other than the polymer (B) is used in combination as long as the effect of the present invention is not impaired and water development is possible when forming the PDP member. May be.
(C) Polyfunctional (meth) acrylate The polyfunctional (meth) acrylate (C) constituting the composition of the present invention is polymerized by exposure, and the exposed portion becomes insoluble or hardly soluble in the developer. Have

本発明で用いられる多官能性(メタ)アクリレート(C)としては、たとえば、エチレングリコール、プロピレングリコールなどのアルキレングリコールのジ(メタ)アクリレート類;ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコールなどのポリアルキレングリコールのジ(メタ)アクリレート類;両末端ヒドロキシポリブタジエン、両末端ヒドロキシポリイソプレン、両末端ヒドロキシポリカプロラクトンなどの両末端ヒドロキシル化重合体のジ(メタ)アクリレート類;グリセリン、1,2,4−ブタントリオール、トリメチロールアルカン、テトラメチロールアルカン、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトールなどの3価以上の多価アルコールのポリ(メタ)アクリレート類;3価以上の多価アルコールのポリアルキレングリコール付加物のポリ(メタ)アクリレート類;1,4
−シクロヘキサンジオール、1,4−ベンゼンジオール類などの環式ポリオールのポリ(メタ)アクリレート類;ポリエステル(メタ)アクリレート、エポキシ(メタ)アクリレート、ウレタン(メタ)アクリレート、アルキド樹脂(メタ)アクリレート、シリコーン樹脂(メタ)アクリレート、スピラン樹脂(メタ)アクリレート等のオリゴ(メタ)アクリレート類などが挙げられる。これらは単独で用いても、2種以上を組み合わせて用いてもよい。上記多官能性(メタ)アクリレート(C)の分子量は100〜2,000であることが好ましい。
Examples of the polyfunctional (meth) acrylate (C) used in the present invention include di (meth) acrylates of alkylene glycol such as ethylene glycol and propylene glycol; di (meth) acrylate of polyalkylene glycol such as polyethylene glycol and polypropylene glycol ( (Meth) acrylates; di (meth) acrylates of hydroxylated polymers at both ends such as both ends hydroxypolybutadiene, both ends hydroxypolyisoprene, and both ends hydroxypolycaprolactone; glycerin, 1,2,4-butanetriol, trimethylol Poly (meth) acrylates of trihydric or higher polyhydric alcohols such as alkane, tetramethylolalkane, pentaerythritol, dipentaerythritol, etc .; polyalkylenes of trihydric or higher polyhydric alcohols Poly (meth) acrylates of recall adducts; 1,4
-Poly (meth) acrylates of cyclic polyols such as cyclohexanediol and 1,4-benzenediol; polyester (meth) acrylate, epoxy (meth) acrylate, urethane (meth) acrylate, alkyd resin (meth) acrylate, silicone Examples include oligo (meth) acrylates such as resin (meth) acrylate and spiraline resin (meth) acrylate. These may be used alone or in combination of two or more. The molecular weight of the polyfunctional (meth) acrylate (C) is preferably 100 to 2,000.

本発明の組成物における上記多官能性(メタ)アクリレート(C)の含有量は、上記無機粉体(A)100重量部に対して、通常、0.1〜50重量部、好ましくは1〜40重量部である。   The content of the polyfunctional (meth) acrylate (C) in the composition of the present invention is usually 0.1 to 50 parts by weight, preferably 1 to 100 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the inorganic powder (A). 40 parts by weight.

(D)光重合開始剤
本発明の組成物を構成する光重合開始剤(D)としては、ベンジル、ベンゾイン、ベンゾフェノン、カンファーキノン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2,2−ジメトキシ−2−フェニルアセトフェノン、2−メチル−1−〔4−(メチルチオ)フェニル〕−2−モルフォリノ−1−プロパノン、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)−ブタン−1−オン、1−[4−(2−ヒドロキシエトキシ)−フェニル]−2−ヒドロキシ−2−メチル−1−プロパン−1−オン、2,4,6−トリメチルベンゾイル−ジフェニル−ホスフィンオキサイドなどのカルボニル化合物;アゾイソブチロニトリル、4−アジドベンズアルデヒドなどのアゾ化合物あるいはアジド化合物;メルカプタンジスルフィドなどの有機硫黄化合物;ベンゾイルパーオキシド、ジ−tert−ブチルパーオキシド、tert−ブチルハイドロパーオキシド、クメンハイドロパーオキシド、パラメタンハイドロパーオキシドなどの有機パーオキシド;1,3−ビス(トリクロロメチル)−5−(2’−クロロフェニル)−1,3,5−トリアジン、2−〔2−(2−フラニル)エチレニル〕−4,6−ビス(トリクロロメチル)−1,3,5−トリアジンなどのトリハロメタン類;2,2’−ビス(2−クロロフェニル)4,5,4’,5’−テトラフェニル1,2’−ビイミダゾールなどのイミダゾール二量体などを挙げることができる。
(D) Photopolymerization initiator As the photopolymerization initiator (D) constituting the composition of the present invention, benzyl, benzoin, benzophenone, camphorquinone, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone, 2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholino-1-propanone, 2-benzyl-2-dimethylamino -1- (4-morpholinophenyl) -butan-1-one, 1- [4- (2-hydroxyethoxy) -phenyl] -2-hydroxy-2-methyl-1-propan-1-one, 2, Carbonyl compounds such as 4,6-trimethylbenzoyl-diphenyl-phosphine oxide; azoisobutyronitrile, 4- Azo compounds or azide compounds such as azidobenzaldehyde; organic sulfur compounds such as mercaptan disulfide; organic compounds such as benzoyl peroxide, di-tert-butyl peroxide, tert-butyl hydroperoxide, cumene hydroperoxide, and paraffin hydroperoxide Peroxide; 1,3-bis (trichloromethyl) -5- (2′-chlorophenyl) -1,3,5-triazine, 2- [2- (2-furanyl) ethylenyl] -4,6-bis (trichloromethyl) ) Trihalomethanes such as 1,3,5-triazine; imidazole dimers such as 2,2′-bis (2-chlorophenyl) 4,5,4 ′, 5′-tetraphenyl1,2′-biimidazole And so on.

上記光重合開始剤は1種単独で用いても、2種以上を組み合わせて用いてもよい。本発明の組成物における上記光重合開始剤(D)の含有量は、上記多官能性(メタ)アクリレート(C)100重量部に対して、通常0.01〜100重量部、好ましくは0.1〜50重量部である。   The said photoinitiator may be used individually by 1 type, or may be used in combination of 2 or more type. Content of the said photoinitiator (D) in the composition of this invention is 0.01-100 weight part normally with respect to 100 weight part of said polyfunctional (meth) acrylate (C), Preferably it is 0.00. 1 to 50 parts by weight.

(E)溶解促進剤
本発明の組成物は、後述する現像液への十分な溶解性を発現させる目的で、溶解促進剤(E)を含有することが好ましい。溶解促進剤(E)としては、界面活性剤が好ましく用いられる。このような界面活性剤としては、たとえば、フッ素系界面活性剤、シリコーン系界面活性剤、ノニオン系界面活性剤などが挙げられる。
(E) Dissolution Accelerator The composition of the present invention preferably contains a dissolution accelerator (E) for the purpose of expressing sufficient solubility in a developer described later. As the dissolution accelerator (E), a surfactant is preferably used. Examples of such surfactants include fluorine-based surfactants, silicone-based surfactants, and nonionic surfactants.

上記フッ素系界面活性剤としては、たとえば、BM CHIMIE社製「BM−1000」、「BM−1100」、大日本インキ化学工業(株)社製「メガファックF142D」、「同F172」、「同F173」、「同F183」、住友スリーエム(株)社製「フロラードFC−135」、「同FC−170C」、「同FC−430」、「同FC−431」、旭硝子(株)社製「サーフロンS−112」、「同S−113」、「同S−131」、「同S−141」、「同S−145」、「同S−382」、「同SC−101」、「同SC−102」、「同SC−103」、「同SC−104」、「同SC−105」、「同SC−106」等の市販品を挙げることができる。   Examples of the fluorosurfactant include “BM-1000” and “BM-1100” manufactured by BM CHIMIE, “Megafac F142D”, “Same F172”, and “Same F172” manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc. "F173", "F183", "Florard FC-135", "FC-170C", "FC-430", "FC-431" manufactured by Sumitomo 3M Limited, "Asahi Glass Co., Ltd." “Surflon S-112”, “S-113”, “S-131”, “S-141”, “S-145”, “S-382”, “SC-101”, “Same” Commercial products such as “SC-102”, “SC-103”, “SC-104”, “SC-105”, and “SC-106” can be mentioned.

上記シリコーン系界面活性剤としては、たとえば、東レ・ダウコーニング・シリコーン(株)社製「SH−28PA」、「SH−190」、「SH−193」、「SZ−6032」、「SF−8428」、「DC−57」、「DC−190」、信越化学工業(株)社製「KP341」、新秋田化成(株)社製「エフトップEF301」、「同EF303」、「同EF352」等の市販品を挙げることができる。   Examples of the silicone surfactant include “SH-28PA”, “SH-190”, “SH-193”, “SZ-6032”, and “SF-8428” manufactured by Toray Dow Corning Silicone Co., Ltd. ”,“ DC-57 ”,“ DC-190 ”,“ KP341 ”manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.,“ Ftop EF301 ”,“ same EF303 ”,“ same EF352 ”manufactured by Shin-Akita Kasei Co., Ltd., etc. Can be mentioned.

上記ノニオン系界面活性剤としては、例えば、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル、ポリオキシエチレンオレイルエーテル等のポリオキシエチレンアルキルエーテル類;ポリオキシエチレンジスチレン化フェニルエーテル、ポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル等のポリオキシエチレンアリールエーテル類;ポリオキシエチレンジラウレート、ポリオキシエチレンジステアレートなどのポリオキシエチレンジアルキルエステル類などが挙げられる。   Examples of the nonionic surfactant include polyoxyethylene alkyl ethers such as polyoxyethylene lauryl ether, polyoxyethylene stearyl ether, and polyoxyethylene oleyl ether; polyoxyethylene distyrenated phenyl ether, polyoxyethylene octyl Examples include polyoxyethylene aryl ethers such as phenyl ether and polyoxyethylene nonylphenyl ether; polyoxyethylene dialkyl esters such as polyoxyethylene dilaurate and polyoxyethylene distearate.

上記ノニオン系界面活性剤の市販品としては、例えば、花王(株)社製「エマルゲンA-60」、「A-90」、「A-500」、「B-66」、「PP-290」、共栄社化学(株)社製「(メタ)
アクリル酸系共重合体ポリフローNo.57」、「同No.90」などを挙げることができる。
Examples of commercially available nonionic surfactants include “Emulgen A-60”, “A-90”, “A-500”, “B-66”, and “PP-290” manufactured by Kao Corporation. Manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.
Acrylic acid copolymer polyflow no. 57 "," No. 90 ", and the like.

上記界面活性剤の中では、現像時に未露光部の無機粉体含有樹脂層の除去が容易であることから、ノニオン系界面活性剤、具体的にはポリオキシエチレンアリールエーテル類が好ましく、特に下記式(i)で表される化合物が好ましい。   Among the above surfactants, nonionic surfactants, specifically polyoxyethylene aryl ethers, are preferred, since the removal of the unexposed portion of the inorganic powder-containing resin layer is easy during development. A compound represented by formula (i) is preferred.

Figure 0004661388
Figure 0004661388

上記式(i)中、R3は炭素数1〜5のアルキル基、好ましくはメチル基であり、pは
1〜5の整数であり、sは1〜5の整数、好ましくは2であり、tは1〜100の整数、好ましくは10〜20の整数である。
In said formula (i), R < 3 > is a C1-C5 alkyl group, Preferably it is a methyl group, p is an integer of 1-5, s is an integer of 1-5, Preferably it is 2, t is an integer of 1 to 100, preferably an integer of 10 to 20.

本発明の組成物における溶解促進剤(E)の含有量は、上記結着樹脂100重量部に対して、好ましくは0.001〜20重量部、より好ましくは0.01〜15重量部、特に好ましくは0.1〜10重量部である。溶解促進剤(E)の含有量が上記範囲にあることにより、現像液への溶解性に優れた組成物が得られる。   The content of the dissolution accelerator (E) in the composition of the present invention is preferably 0.001 to 20 parts by weight, more preferably 0.01 to 15 parts by weight, particularly preferably 100 parts by weight of the binder resin. Preferably it is 0.1-10 weight part. When the content of the dissolution accelerator (E) is in the above range, a composition excellent in solubility in a developer can be obtained.

(F)その他の成分
本発明の組成物には、通常、適当な流動性または可塑性および良好な膜形成性を付与するために溶剤が含有される。本発明で用いられる溶剤としては、無機粉体との親和性および結着樹脂の溶解性が良好であり、本組成物に適度な粘性を付与することができるとともに、乾燥により容易に蒸発除去できる溶剤であることが好ましい。
(F) Other components The composition of the present invention usually contains a solvent for imparting appropriate fluidity or plasticity and good film-forming properties. As the solvent used in the present invention, the affinity with the inorganic powder and the solubility of the binder resin are good, the composition can be imparted with an appropriate viscosity, and can be easily removed by evaporation. A solvent is preferred.

本発明で用いられる溶剤としては、上記特性を有する溶剤であれば特に制限されないが
、例えば、エーテル類、エステル類、エーテルエステル類、ケトン類、ケトンエステル類、アミド類、アミドエステル類、ラクタム類、ラクトン類、スルホキシド類、スルホン類、炭化水素類、ハロゲン化炭化水素類などが挙げられる。
The solvent used in the present invention is not particularly limited as long as it has the above characteristics. For example, ethers, esters, ether esters, ketones, ketone esters, amides, amide esters, lactams. Lactones, sulfoxides, sulfones, hydrocarbons, halogenated hydrocarbons and the like.

より具体的には、テトラヒドロフラン、アニソール、ジオキサン、エチレングリコールモノアルキルエーテル類、ジエチレングリコールジアルキルエーテル類、プロピレングリコールモノアルキルエーテル類、プロピレングリコールジアルキルエーテル類、酢酸エステル類、ヒドロキシ酢酸エステル類、アルコキシ酢酸エステル類、プロピオン酸エステル類、ヒドロキシプロピオン酸エステル類、アルコキシプロピオン酸エステル類、乳酸エステル類、エチレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類、プロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類、アルコキシ酢酸エステル類、環式ケトン類、非環式ケトン類、アセト酢酸エステル類、ピルビン酸エステル類、N,N−ジアルキルホルムアミド類、N,N−ジアルキルアセトアミド類、N−アルキルピロリドン類、γ−ラクトン類、ジアルキルスルホキシド類、ジアルキルスルホン類、ターピネオール、N−メチル−2−ピロリドンなどが挙げられる。これらは単独で用いても、2種以上を組み合わせて用いてもよい。   More specifically, tetrahydrofuran, anisole, dioxane, ethylene glycol monoalkyl ethers, diethylene glycol dialkyl ethers, propylene glycol monoalkyl ethers, propylene glycol dialkyl ethers, acetate esters, hydroxyacetate esters, alkoxyacetate esters , Propionic acid esters, hydroxypropionic acid esters, alkoxypropionic acid esters, lactic acid esters, ethylene glycol monoalkyl ether acetates, propylene glycol monoalkyl ether acetates, alkoxyacetic acid esters, cyclic ketones, acyclic Ketones, acetoacetic esters, pyruvates, N, N-dialkylformamides, N, N-dialkylamides Toamido acids, N- alkylpyrrolidones, .gamma.-lactones, dialkyl sulfoxides, dialkyl sulfones, terpineol, etc. N- methyl-2-pyrrolidone. These may be used alone or in combination of two or more.

本発明の組成物における上記溶剤の含有量は、良好な膜形成性(流動性または可塑性)が得られる範囲内において適宜選択すればよい。
本発明の組成物には、さらに、紫外線吸収剤が含有されていることが好ましい。紫外線吸収剤としては、焼成後の部材中に残存せず部材特性を低下させないことから、有機系染料からなるものが好ましく、中でも400〜500nmの波長範囲で高UV吸収係数を有する有機系染料が好ましく用いられる。
What is necessary is just to select suitably content of the said solvent in the composition of this invention in the range in which favorable film-forming property (fluidity or plasticity) is obtained.
The composition of the present invention preferably further contains an ultraviolet absorber. The ultraviolet absorber is preferably made of an organic dye because it does not remain in the fired member and does not deteriorate the member characteristics. Among them, an organic dye having a high UV absorption coefficient in the wavelength range of 400 to 500 nm is preferable. Preferably used.

具体的には、アゾ化合物、トリアジン化合物、アミノケトン化合物、キサンテン化合物、キノリン化合物、キノン化合物、ベンゾフェノン化合物、安息香酸化合物、シアノアクリレート化合物、スピロ化合物、フルオレノン化合物、フルギド化合物、イミダゾール化合物、ペリレン化合物、フェナジン化合物、フェノチアジン化合物、ポリエン化合物、ジフェニルメタン化合物、トリフェニルメタン化合物、ポリメチン化合物、アクリジン化合物、アクリジンノン化合物、カルボオスチリル化合物、クマリン化合物、ジフェニルアミン化合物、キナクリドン化合物、キノフタロン化合物、フェノキサジン化合物、フタロペリノン化合物、フタロシアニン化合物などを使用できる。中でも、1−フェニルアゾ−2−ナフトール、1−フェニル−3−メチル−4−(4−メチルフェニルアゾ)−5−オキシピラゾール等に代表されるアゾ化合物、1,4−ジアミルアミノアントラキノンに代表されるキノン化合物、クルクミンに代表されるフェノール化合物が特に好ましい。   Specifically, azo compounds, triazine compounds, amino ketone compounds, xanthene compounds, quinoline compounds, quinone compounds, benzophenone compounds, benzoic acid compounds, cyanoacrylate compounds, spiro compounds, fluorenone compounds, fulgide compounds, imidazole compounds, perylene compounds, phenazines Compound, phenothiazine compound, polyene compound, diphenylmethane compound, triphenylmethane compound, polymethine compound, acridine compound, acridinenon compound, carboostyryl compound, coumarin compound, diphenylamine compound, quinacridone compound, quinophthalone compound, phenoxazine compound, phthaloperinone compound, A phthalocyanine compound can be used. Among them, azo compounds represented by 1-phenylazo-2-naphthol, 1-phenyl-3-methyl-4- (4-methylphenylazo) -5-oxypyrazole and the like, represented by 1,4-diamilaminoanthraquinone Particularly preferred are quinone compounds and phenolic compounds represented by curcumin.

有機系染料を使用する場合、その添加量は、重合体(B)、多官能性(メタ)アクリレート(C)および光重合開始剤(D)の合計含有量に対して、0.05〜10重量%、好ましくは0.5〜5重量%程度である。添加量が、上記範囲よりも少ないと、紫外線吸収剤の添加効果があまりなく、上記範囲を越えると、得られるPDP用部材の特性を低下させる場合がある。   When using organic dye, the addition amount is 0.05-10 with respect to the total content of a polymer (B), a polyfunctional (meth) acrylate (C), and a photoinitiator (D). % By weight, preferably about 0.5 to 5% by weight. If the addition amount is less than the above range, the effect of adding the ultraviolet absorber is not so much. If the addition amount exceeds the above range, the characteristics of the obtained PDP member may be deteriorated.

本発明の組成物には、さらに任意成分として、分散剤、可塑剤、現像促進剤、接着助剤、ハレーション防止剤、保存安定剤、消泡剤、酸化防止剤、フィラー等の各種添加剤が含有されていてもよい。   The composition of the present invention further includes various additives such as a dispersant, a plasticizer, a development accelerator, an adhesion assistant, an antihalation agent, a storage stabilizer, an antifoaming agent, an antioxidant, and a filler as optional components. It may be contained.

<転写フィルム>
本発明の転写フィルムは、支持フィルム上に、本発明の無機粉体含有樹脂組成物からなる層が形成されてなる。前記無機粉体含有樹脂層(以下、単に「樹脂層」または「感光性樹脂層」ともいう)は、前記組成物を支持フィルム状に塗布して塗膜を形成し、該塗膜を
乾燥することにより得られる。
<Transfer film>
The transfer film of the present invention is formed by forming a layer made of the inorganic powder-containing resin composition of the present invention on a support film. The inorganic powder-containing resin layer (hereinafter also simply referred to as “resin layer” or “photosensitive resin layer”) is formed by applying the composition to a support film to form a coating film, and then drying the coating film. Can be obtained.

転写フィルムを構成する支持フィルムは、耐熱性および耐溶剤性を有するとともに可撓性を有する樹脂フィルムであることが好ましい。支持フィルムが可撓性を有することにより、ロールコータによってペースト状組成物を塗布することができ、無機粉体含有樹脂層をロール状に巻回した状態で保存し、供給することができる。なお、支持フィルムの厚さとしては、使用に適した範囲であればよく、例えば20〜100μmである。   The support film constituting the transfer film is preferably a resin film having heat resistance and solvent resistance and flexibility. When the support film has flexibility, the paste-like composition can be applied by a roll coater, and the inorganic powder-containing resin layer can be stored and supplied in a state of being wound in a roll. In addition, as thickness of a support film, it should just be a range suitable for use, for example, is 20-100 micrometers.

支持フィルムを形成する樹脂としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエステル、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリイミド、ポリビニルアルコール、ポリ塩化ビニル、ポリフロロエチレンなどの含フッ素樹脂、ナイロン、セルロースなどが挙げられる。   Examples of the resin that forms the support film include polyethylene terephthalate, polyester, polyethylene, polypropylene, polystyrene, polyimide, polyvinyl alcohol, polyvinyl chloride, polyfluoroethylene, and other fluorine-containing resins, nylon, and cellulose.

本発明の組成物を支持フィルム上に塗布する方法としては、膜厚が大きく(例えば10μm以上)、かつ、均一性に優れた塗膜を効率よく形成することができる方法であれば特に限定されず、例えば、ロールコータによる塗布方法、ドクターブレードによる塗布方法、カーテンコータによる塗布方法、ダイコータによる塗布方法、ワイヤーコータによる塗布方法などが挙げられる。   The method of applying the composition of the present invention on the support film is not particularly limited as long as it is a method capable of efficiently forming a coating film having a large film thickness (for example, 10 μm or more) and excellent uniformity. For example, a coating method using a roll coater, a coating method using a doctor blade, a coating method using a curtain coater, a coating method using a die coater, and a coating method using a wire coater.

なお、本発明の組成物が塗布される支持フィルムの表面には離型処理が施されていることが好ましい。これにより、PDP構成部材形成の際に、支持フィルムの剥離操作を容易に行うことができる。   In addition, it is preferable that the mold release process is given to the surface of the support film with which the composition of this invention is apply | coated. Thereby, the peeling operation of a support film can be easily performed in the case of PDP structural member formation.

塗膜の乾燥条件は、乾燥後における溶剤の残存割合(樹脂層中の溶剤含有率)が2質量%以内となるように適宜調整すればよく、例えば、50〜150℃の乾燥温度で、0.5〜30分間程度である。   What is necessary is just to adjust the drying conditions of a coating film suitably so that the residual ratio of the solvent after drying (solvent content rate in a resin layer) may be within 2 mass%, for example, at the drying temperature of 50-150 degreeC, it is 0 About 5 to 30 minutes.

上記のようにして支持フィルム上に形成される樹脂層の厚さは、無機粉体の含有率やサイズなどによっても異なるが、例えば5〜500μmである。
なお、樹脂層の表面に設けられることのある保護フィルム層としては、ポリエチレンフィルム、ポリビニルアルコール系フィルムなどが挙げられる。
The thickness of the resin layer formed on the support film as described above varies depending on the content and size of the inorganic powder, but is, for example, 5 to 500 μm.
In addition, as a protective film layer which may be provided on the surface of a resin layer, a polyethylene film, a polyvinyl alcohol-type film, etc. are mentioned.

<PDP用部材の製造方法>
本発明の製造方法は、PDP構成部材の製造に用いることが好ましい。これらの部材は、本発明の無機粉体含有樹脂組成物または本発明の転写フィルムを用いて無機粉体含有樹脂層を基板上に形成し、該樹脂層を露光処理してパターンの潜像を形成し、該樹脂層を現像処理してパターン層を形成し、該パターン層を焼成処理することにより形成される。
<Method for producing member for PDP>
The manufacturing method of the present invention is preferably used for manufacturing a PDP component. These members are formed by forming an inorganic powder-containing resin layer on a substrate using the inorganic powder-containing resin composition of the present invention or the transfer film of the present invention, and exposing the resin layer to form a latent image of the pattern. Then, the resin layer is developed to form a pattern layer, and the pattern layer is baked.

(i)無機粉体含有樹脂層の形成工程
無機粉体含有樹脂層は、本発明の無機粉体含有樹脂組成物を基板上に塗布するか、本発明の転写フィルムを用いて該転写フィルムの無機粉体含有樹脂層を転写することによって形成することができる。
(I) Step of forming inorganic powder-containing resin layer The inorganic powder-containing resin layer is formed by applying the inorganic powder-containing resin composition of the present invention on a substrate or using the transfer film of the present invention. It can be formed by transferring an inorganic powder-containing resin layer.

転写フィルムを用いる方法によれば、膜厚均一性に優れた樹脂層を容易に形成することができ、形成されるパターンの膜厚均一化を図ることができる。また、上記転写フィルムを用いてn回転写を繰り返すことで、n層(nは2以上の整数を示す)の樹脂層を有する積層体を形成してもよい。あるいは、n層の樹脂層からなる積層体が支持フィルム上に形成された転写フィルムを用いて基板上に一括転写することにより、上記積層体を形成してもよい。   According to the method using a transfer film, a resin layer excellent in film thickness uniformity can be easily formed, and the film thickness of the formed pattern can be made uniform. Moreover, you may form the laminated body which has a resin layer of n layer (n shows an integer greater than or equal to 2) by repeating transcription | transfer n times using the said transfer film. Or you may form the said laminated body by batch-transferring on the board | substrate using the transfer film in which the laminated body which consists of a resin layer of n layers was formed on the support film.

本発明の組成物を基板上に塗布する方法としては、スクリーン印刷法、ロール塗布法、回転塗布法、流延塗布法など種々の方法が挙げられる。このような方法により組成物を塗布した後、塗膜を乾燥することにより、樹脂層を形成することができる。なお、上記工程をn回繰り返すことでn層からなる積層体を形成してもよい。   Examples of the method for applying the composition of the present invention on a substrate include various methods such as screen printing, roll coating, spin coating, and cast coating. After applying the composition by such a method, the resin layer can be formed by drying the coating film. In addition, you may form the laminated body which consists of n layer by repeating the said process n times.

転写フィルムを用いた転写工程の一例を示せば以下のとおりである。必要に応じて用いられる転写フィルムの保護フィルム層を剥離した後、基板の表面に樹脂層の表面が当接するように転写フィルムを重ね合わせ、この転写フィルムを加熱ローラなどにより熱圧着した後、樹脂層から支持フィルムを剥離除去する。これにより、基板の表面に樹脂層が転写されて密着した状態となる。   An example of a transfer process using a transfer film is as follows. After peeling off the protective film layer of the transfer film used as necessary, the transfer film is overlaid so that the surface of the resin layer is in contact with the surface of the substrate, and this transfer film is thermocompression bonded with a heating roller, etc. The support film is peeled off from the layer. As a result, the resin layer is transferred and adhered to the surface of the substrate.

転写条件としては、例えば、加熱ローラの表面温度が40〜140℃、加熱ローラによるロール圧が0.1〜10kg/cm2、加熱ローラの移動速度が0.1〜10m/分で
ある。また、基板は予熱されていてもよく、予熱温度は、例えば40〜140℃である。
As the transfer conditions, for example, the surface temperature of the heating roller is 40 to 140 ° C., the roll pressure by the heating roller is 0.1 to 10 kg / cm 2 , and the moving speed of the heating roller is 0.1 to 10 m / min. Moreover, the board | substrate may be preheated and the preheating temperature is 40-140 degreeC, for example.

(ii)露光工程
無機粉体含有樹脂層の表面に、露光用マスクを介して、紫外線などの放射線を選択的に照射(露光)して、樹脂層にパターンの潜像を形成する。露光の際に用いられる放射線照射装置としては、特に限定されないが、フォトリソグラフィー法で一般的に使用されている紫外線照射装置、半導体または液晶表示装置を製造する際に使用されている露光装置などが挙げられる。
(Ii) Exposure Step The surface of the inorganic powder-containing resin layer is selectively irradiated (exposed) with radiation such as ultraviolet rays through an exposure mask to form a pattern latent image on the resin layer. The radiation irradiation apparatus used in the exposure is not particularly limited, but an ultraviolet irradiation apparatus generally used in a photolithography method, an exposure apparatus used in manufacturing a semiconductor or a liquid crystal display device, and the like. Can be mentioned.

なお、無機粉体含有樹脂層を転写により形成した場合には、該樹脂層上に被覆されている支持フィルムを剥離しない状態で露光を行うのが好ましい。
(iii)現像工程
露光された樹脂層を現像して、樹脂層のパターンを形成する。現像方法(例えば浸漬法、揺動法、シャワー法、スプレー法、パドル法など)および現像処理条件(例えば、現像液の種類・組成・濃度、現像時間、現像温度など)などは、無機粉体含有樹脂層の種類に応じて適宜選択、設定すればよい。
In addition, when the inorganic powder-containing resin layer is formed by transfer, it is preferable to perform the exposure without peeling off the support film coated on the resin layer.
(Iii) Development step The exposed resin layer is developed to form a resin layer pattern. Development methods (for example, immersion method, rocking method, shower method, spray method, paddle method, etc.) and development processing conditions (for example, developer type / composition / concentration, development time, development temperature, etc.) are inorganic powders. What is necessary is just to select and set suitably according to the kind of containing resin layer.

(vi)焼成工程
現像後の樹脂層残留部における有機物質を焼失させるために、形成された樹脂層のパターンを焼成処理する。焼成処理条件は、無機粉体含有樹脂層(残留部)中の有機物質が焼失されることが必要であり、通常、焼成温度が400〜600℃、焼成時間が10〜90分間である。
(Vi) Firing Step In order to burn off the organic substance in the resin layer remaining portion after development, the pattern of the formed resin layer is subjected to a firing treatment. The firing treatment condition requires that the organic substance in the inorganic powder-containing resin layer (residual part) be burned off, and the firing temperature is usually 400 to 600 ° C. and the firing time is 10 to 90 minutes.

以上の工程を含む本発明の製造方法により、隔壁、電極、抵抗体、誘電体、蛍光体、カラーフィルター、ブラックマトリックス等のPDP用部材を形成することができる。なお、本発明の製造方法は、これらの中でも隔壁、誘電体および電極を形成する方法として好ましく、特に前面隔壁を形成する方法として好ましい。本発明により得られるパターンの膜厚としては、用途や無機粉体の含有率などによっても異なるが、例えば1〜200μmである。   By the manufacturing method of the present invention including the steps described above, PDP members such as partition walls, electrodes, resistors, dielectrics, phosphors, color filters, and black matrices can be formed. In addition, the manufacturing method of this invention is preferable as a method of forming a partition, a dielectric material, and an electrode among these, and is especially preferable as a method of forming a front partition. The film thickness of the pattern obtained according to the present invention is, for example, 1 to 200 μm, although it varies depending on the use and the content of the inorganic powder.

次に、上記各工程で用いられる材料、各種条件などについて説明する。
(基板)
本発明で用いられる基板材料としては、例えば、ガラス、シリコーン、ポリカーボネート、ポリエステル、芳香族アミド、ポリアミドイミド、ポリイミドなどの絶縁性材料からなる板状部材が挙げられる。この板状部材の表面には、必要に応じて、シランカップリング剤などによる薬品処理;プラズマ処理;イオンプレーティング法、スパッタリング法、気相反応法、真空蒸着法などによる薄膜形成処理などの前処理が施されていてもよい。
Next, materials and various conditions used in the above steps will be described.
(substrate)
Examples of the substrate material used in the present invention include a plate-like member made of an insulating material such as glass, silicone, polycarbonate, polyester, aromatic amide, polyamideimide, and polyimide. If necessary, the surface of the plate-like member may be subjected to chemical treatment with a silane coupling agent or the like; plasma treatment; thin film formation treatment by an ion plating method, a sputtering method, a gas phase reaction method, a vacuum deposition method, or the like. Processing may be performed.

なお、本発明においては、基板として、耐熱性を有するガラス基板を用いることが好ましい。このようなガラス基板としては、例えば旭硝子(株)製PD200が挙げられる。
(露光用マスク)
本発明の製造方法における露光工程で用いられる露光用マスクの露光パターンとしては、材料によって異なるが、一般的に10〜500μm幅のストライプである。
In the present invention, a glass substrate having heat resistance is preferably used as the substrate. An example of such a glass substrate is PD200 manufactured by Asahi Glass Co., Ltd.
(Exposure mask)
The exposure pattern of the exposure mask used in the exposure step in the production method of the present invention is generally a stripe having a width of 10 to 500 μm, although it varies depending on the material.

(現像液)
本発明の製造方法における現像工程で用いられる現像液としては、水、特に超純水が好適に用いられる。上記無機粉体含有樹脂層に含まれる無機粉体は、結着樹脂により均一に分散されているため、結着樹脂を構成する重合体(B)を上記現像液で溶解させ、洗浄することにより、無機粉体も同時に除去される。また、現像液としては、アルカリ現像液を用いてもよい。
(Developer)
As the developer used in the development step in the production method of the present invention, water, particularly ultrapure water is preferably used. Since the inorganic powder contained in the inorganic powder-containing resin layer is uniformly dispersed by the binder resin, the polymer (B) constituting the binder resin is dissolved in the developer and washed. The inorganic powder is also removed at the same time. Further, an alkaline developer may be used as the developer.

アルカリ現像液の有効成分としては、例えば、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、リン酸水素ナトリウム、リン酸水素二アンモニウム、リン酸水素二カリウム、リン酸水素二ナトリウム、リン酸二水素アンモニウム、リン酸二水素カリウム、リン酸二水素ナトリウム、ケイ酸リチウム、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウム、炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、ホウ酸リチウム、ホウ酸ナトリウム、ホウ酸カリウム、アンモニアなどの無機アルカリ性化合物;テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、トリメチルヒドロキシエチルアンモニウムヒドロキシド、モノメチルアミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン、モノエチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、モノイソプロピルアミン、ジイソプロピルアミン、エタノールアミンなどの有機アルカリ性化合物などが挙げられる。アルカリ現像液には、ノニオン系界面活性剤や有機溶剤などの添加剤が含有されていてもよい。なお、アルカリ現像液による現像処理がなされた後は、通常、水洗処理が施される。   As an active ingredient of the alkaline developer, for example, lithium hydroxide, sodium hydroxide, potassium hydroxide, sodium hydrogen phosphate, diammonium hydrogen phosphate, dipotassium hydrogen phosphate, disodium hydrogen phosphate, dihydrogen phosphate Ammonium, potassium dihydrogen phosphate, sodium dihydrogen phosphate, lithium silicate, sodium silicate, potassium silicate, lithium carbonate, sodium carbonate, potassium carbonate, lithium borate, sodium borate, potassium borate, ammonia, etc. Inorganic alkaline compounds: tetramethylammonium hydroxide, trimethylhydroxyethylammonium hydroxide, monomethylamine, dimethylamine, trimethylamine, monoethylamine, diethylamine, triethylamine, monoisopropylamine, diisopropyl Piruamin, and organic alkaline compounds such as ethanol amine. The alkaline developer may contain additives such as nonionic surfactants and organic solvents. In addition, after the development process with an alkali developer is performed, a washing process is usually performed.

〔実施例〕
以下、実施例に基づいて本発明をより具体的に説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。なお、以下において「部」は「重量部」を示し、重量平均分子量(Mw)は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)を用いて以下の条件で測定したポリスチレン換算の重量平均分子量であり、得られた組成物の保存安定性の評価方法は下記のとおりである。
〔Example〕
EXAMPLES Hereinafter, although this invention is demonstrated more concretely based on an Example, this invention is not limited to these Examples. In the following, “part” means “part by weight”, and the weight average molecular weight (Mw) is a polystyrene equivalent weight average molecular weight measured under the following conditions using gel permeation chromatography (GPC). The method for evaluating the storage stability of the obtained composition is as follows.

(GPC測定条件)
GPC測定装置:東ソー株式会社製HLC−8220GPC
GPCカラム:東ソー株式会社製TSKgelSuperHZN−M
測定溶媒:テトラヒドロフラン
測定温度:40℃
(保存安定性)
まず、調製直後の組成物の粘度を、回転式粘度計(東京計器製EMD−R型)を用いて25℃で測定し、これを初期粘度とした。次に、該組成物を5℃、遮光の条件下で保存しながら、定期的に粘度を測定し、粘度が初期粘度より50%増加するまでの日数により、保存安定性を評価した。
(GPC measurement conditions)
GPC measuring device: HLC-8220 GPC manufactured by Tosoh Corporation
GPC column: TSKgelSuperHZN-M manufactured by Tosoh Corporation
Measuring solvent: Tetrahydrofuran Measuring temperature: 40 ° C
(Storage stability)
First, the viscosity of the composition immediately after preparation was measured at 25 ° C using a rotary viscometer (EMD-R type, manufactured by Tokyo Keiki Co., Ltd.), and this was used as the initial viscosity. Next, the viscosity of the composition was periodically measured while being stored at 5 ° C. under shading conditions, and the storage stability was evaluated by the number of days until the viscosity increased by 50% from the initial viscosity.

<合成例1>
メトキシポリエチレングリコールモノメタクリレート(日本油脂(株)製「ブレンマーPME−100」 式(2)で表されるm=2、a=2、b=0の化合物)80mol、メチルメタクリレート10mol、2−ヒドロキシプロピルメタクリレート10molおよびN,N’−アゾビスイソブチロニトリル0.5部を、攪拌機付きオートクレーブに仕
込み、窒素雰囲気下において室温で均一になるまで攪拌した。攪拌後、70℃で3時間重合させ、さらにN,N’−アゾビスイソブチロニトリル0.25部を加えて1時間重合し、70℃で1時間重合反応を継続させた後、室温まで冷却してポリマー溶液を得た。得られたポリマー溶液は、重合率が100%であり、このポリマー溶液から析出した共重合体〔樹脂(1)〕のMwは160,000であった。
<Synthesis Example 1>
Methoxypolyethylene glycol monomethacrylate (“Blemmer PME-100” manufactured by NOF Corporation) m = 2, a = 2, b = 0 represented by formula (2) 80 mol, methyl methacrylate 10 mol, 2-hydroxypropyl 10 mol of methacrylate and 0.5 part of N, N′-azobisisobutyronitrile were charged into an autoclave equipped with a stirrer and stirred at room temperature in a nitrogen atmosphere until uniform. After stirring, the mixture is polymerized at 70 ° C. for 3 hours, further added with 0.25 part of N, N′-azobisisobutyronitrile, polymerized for 1 hour, and the polymerization reaction is continued at 70 ° C. for 1 hour, and then to room temperature. Upon cooling, a polymer solution was obtained. The obtained polymer solution had a polymerization rate of 100%, and the Mw of the copolymer [resin (1)] precipitated from this polymer solution was 160,000.

<合成例2>
合成例1におけるモノマー組成を下記表1に示すモノマー組成に変更したこと以外は、合成例1と同様にして共重合体〔樹脂(2)〜(10)〕を得た。なお、表1中、HPMAは2−ヒドロキシプロピルメタクリレート、MMAはメチルメタクリレート、ACMOはアクリロイルモルホリン、MAmはメタクリルアミド、DMAAはN,N−ジメチルアクリルアミドである。
<Synthesis Example 2>
A copolymer [resins (2) to (10)] was obtained in the same manner as in Synthesis Example 1 except that the monomer composition in Synthesis Example 1 was changed to the monomer composition shown in Table 1 below. In Table 1, HPMA is 2-hydroxypropyl methacrylate, MMA is methyl methacrylate, ACMO is acryloylmorpholine, MAm is methacrylamide, and DMAA is N, N-dimethylacrylamide.

Figure 0004661388
Figure 0004661388

<合成例3>
合成例1にけるモノマー組成を、メチル−2−エチルヘキシルメタクリレート40部、メタクリル酸20部、n−ブチルメタクリレート30部、2−ヒドロキシプロピルメタクリレート10部に変更したこと以外は、合成例1と同様にしてMwが100,000の共重合体〔樹脂(11)〕を得た。
<Synthesis Example 3>
Except that the monomer composition in Synthesis Example 1 was changed to 40 parts of methyl-2-ethylhexyl methacrylate, 20 parts of methacrylic acid, 30 parts of n-butyl methacrylate, and 10 parts of 2-hydroxypropyl methacrylate, the same as in Synthesis Example 1. Thus, a copolymer [resin (11)] having Mw of 100,000 was obtained.

<実施例1>
(1)無機粉体含有樹脂組成物の調製
無機粉体(A)として、ZnO−B23−SiO2系低融点ガラスフリット(不定形、軟
化点570℃)100部、
水溶性樹脂(B)として、合成例1で得られた樹脂(1)35部、
多官能性(メタ)アクリレート化合物(C)として、エチレンオキシド変成トリメチロールプロパントリアクリレート(東亞合成(株)製「アロニクスM−360」)7部、
光重合開始剤(D)として、1−[4−(2−ヒドロキシエトキシ)−フェニル]−2−
ヒドロキシ−2−メチル−1−プロパン−1−オン1.5部、
溶剤として、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート40部、
分散剤として、ノルマルデシルトリメトキシシラン1.5部、
溶解促進剤(界面活性剤)(E)として、花王(株)製「エマルゲンA-60」2部、
紫外線吸収剤として、1−フェニル−3−メチル−4−(4−メチルフェニルアゾ)−5−オキシピラゾール0.1部
をビーズミルで混練りした後、ステンレスメッシュ(400メッシュ、38μm径)でフィルタリングすることにより、無機粉体含有樹脂組成物を調製した。得られた組成物について保存安定性の評価を行ったところ、90日以上の保存安定性が得られた。
<Example 1>
(1) Preparation of Resin Composition Containing Inorganic Powder As inorganic powder (A), 100 parts of ZnO—B 2 O 3 —SiO 2 low melting point glass frit (indefinite shape, softening point 570 ° C.),
As water-soluble resin (B), 35 parts of resin (1) obtained in Synthesis Example 1;
As the polyfunctional (meth) acrylate compound (C), 7 parts of ethylene oxide-modified trimethylolpropane triacrylate (“Aronix M-360” manufactured by Toagosei Co., Ltd.),
As a photopolymerization initiator (D), 1- [4- (2-hydroxyethoxy) -phenyl] -2-
1.5 parts hydroxy-2-methyl-1-propan-1-one,
As a solvent, 40 parts of propylene glycol monomethyl ether acetate,
As a dispersant, 1.5 parts of normal decyltrimethoxysilane,
As a dissolution accelerator (surfactant) (E), 2 parts of “Emulgen A-60” manufactured by Kao Corporation,
As a UV absorber, 0.1 part of 1-phenyl-3-methyl-4- (4-methylphenylazo) -5-oxypyrazole was kneaded with a bead mill, and then filtered with a stainless mesh (400 mesh, 38 μm diameter). Thus, an inorganic powder-containing resin composition was prepared. When the storage stability of the obtained composition was evaluated, storage stability of 90 days or more was obtained.

(2)転写フィルムの作製
得られた無機粉体含有樹脂組成物をPETフィルムよりなる支持フィルム(幅200mm、長さ30m、厚さ38μm)上にブレードコーターを用いて塗布し、塗膜を100℃で5分間乾燥して溶剤を完全に除去することにより、平均膜厚46μmの無機粉体含有感光性樹脂層を形成した。次いで、前記樹脂層上に、予め離型処理したPETフィルムよりなる保護フィルムを熱圧着し、支持フィルム、無機粉体含有感光性樹脂層および保護フィルムがこの順に積層された転写フィルムを作製した。
(2) Preparation of transfer film The obtained inorganic powder-containing resin composition was applied onto a support film (width 200 mm, length 30 m, thickness 38 μm) made of a PET film using a blade coater, and the coating film was coated with 100 By drying at 5 ° C. for 5 minutes to completely remove the solvent, an inorganic powder-containing photosensitive resin layer having an average film thickness of 46 μm was formed. Next, a protective film made of a PET film that had been subjected to a release treatment in advance was thermocompression-bonded on the resin layer, thereby preparing a transfer film in which a support film, an inorganic powder-containing photosensitive resin layer, and a protective film were laminated in this order.

(3)部材の形成
(i) 無機粉体含有樹脂層の転写工程
得られた転写フィルムの保護フィルムを剥離除去した後、6インチパネル用ガラス基板の表面に形成された誘電体層(膜厚20μm)に、転写フィルムを樹脂層表面が当接するように重ね合わせ、この転写フィルムを加熱ローラにより熱圧着した。このときの圧着条件は、加熱ローラの表面温度を90℃、ロール圧を2kg/cm2 、加熱ローラの移動速度を0.5m/分とした。これにより、ガラス基板の表面に無機粉体を含有する感光性樹脂層が転写されて密着した状態となった。
(3) Formation of members
(i) Transfer process of inorganic powder-containing resin layer After peeling off and removing the protective film of the obtained transfer film, the transfer film is applied to the dielectric layer (film thickness 20 μm) formed on the surface of the glass substrate for 6-inch panels. Were laminated so that the surface of the resin layer was in contact, and this transfer film was thermocompression bonded with a heating roller. The pressure bonding conditions at this time were such that the surface temperature of the heating roller was 90 ° C., the roll pressure was 2 kg / cm 2 , and the moving speed of the heating roller was 0.5 m / min. As a result, the photosensitive resin layer containing the inorganic powder was transferred and adhered to the surface of the glass substrate.

(ii) 感光性樹脂層の露光工程および現像工程
上記のようにして形成された感光性樹脂層に対して、露光用マスク(400μm幅のストライプパターン)を介して、超高圧水銀灯により、i線(波長365nmの紫外線)を照射量100mJ/cm2で照射した。
(ii) Exposure process and development process of photosensitive resin layer The photosensitive resin layer formed as described above is subjected to i-line by an ultrahigh pressure mercury lamp through an exposure mask (a stripe pattern having a width of 400 μm). (Ultraviolet light having a wavelength of 365 nm) was irradiated at an irradiation amount of 100 mJ / cm 2 .

露光工程の終了後、樹脂層より支持フィルムを剥離除去した後、露光処理された樹脂層に対して、超純水(30℃)を現像液として用いたシャワー法による現像処理を40秒間行った。これにより、紫外線が照射されていない未硬化の樹脂層が除去され、無機粉体を含有する樹脂層のパターンを形成した。   After completion of the exposure step, the support film was peeled off from the resin layer, and then the exposed resin layer was subjected to a development process by a shower method using ultrapure water (30 ° C.) as a developer for 40 seconds. . Thereby, the uncured resin layer that was not irradiated with ultraviolet rays was removed, and a pattern of the resin layer containing inorganic powder was formed.

(iii) 樹脂層パターンの焼成工程
誘電体層上に樹脂層パターンが形成されたガラス基板を、焼成炉内で580℃の温度雰囲気下で50分間にわたり焼成処理を行った。得られたパネル材料における隔壁の断面形状を走査型電子顕微鏡により観察し、当該断面形状の底面の幅および高さを測定したところ、底面の幅400μm、高さが15μmであり、良好な形状の焼成パターンが得られた。これにより、誘電体層上に隔壁が形成されてなるパネル材料が得られた。
(iii) Baking process of resin layer pattern The glass substrate on which the resin layer pattern was formed on the dielectric layer was baked in a baking furnace in a temperature atmosphere of 580 ° C for 50 minutes. When the cross-sectional shape of the partition wall in the obtained panel material was observed with a scanning electron microscope and the width and height of the bottom surface of the cross-sectional shape were measured, the width of the bottom surface was 400 μm and the height was 15 μm. A fired pattern was obtained. As a result, a panel material in which partition walls were formed on the dielectric layer was obtained.

<実施例2〜10、比較例1>
アルカリ可溶性樹脂(B)を表1に示すものに変更したこと以外は、実施例1と同様にして無機粉体含有樹脂組成物を調製し、保存安定性を評価した。次いで、該組成物を用いて転写フィルムを製造し、その転写フィルムを用いて現像時間を表1に示す通りに変更したこと以外は実施例1と同様にしてパネル材料を作製して、現像性およびパターン形状の評価を行った。結果を表1に示す。なお、現像性およびパターン形状の評価方法および評
価基準は以下のとおりである。
<Examples 2 to 10, Comparative Example 1>
Except for changing the alkali-soluble resin (B) to that shown in Table 1, an inorganic powder-containing resin composition was prepared in the same manner as in Example 1, and the storage stability was evaluated. Next, a transfer film was produced using the composition, and a panel material was produced in the same manner as in Example 1 except that the development time was changed as shown in Table 1 using the transfer film. And the pattern shape was evaluated. The results are shown in Table 1. The developing method and pattern shape evaluation methods and evaluation criteria are as follows.

(現像性)
評価方法:シャワー法により、30〜180秒間の範囲で水現像を行った。
評価基準:良好なものをAA、未露光部の溶け残りがあるものをBB、未露光部が不溶のものをCCとした。
(Developability)
Evaluation method: Water development was performed in the range of 30 to 180 seconds by the shower method.
Evaluation criteria: AA was good, BB was undissolved unexposed part, and CC was unexposed part insoluble.

(パターン形状)
評価方法:電子顕微鏡を用いてパターンの断面形状を観察した。
評価基準:良好なもの(断面が台形状、順テーパー形状のもの)をAA、サイドエッジがある逆テーパー形状のものをBBとした。
(Pattern shape)
Evaluation method: The cross-sectional shape of the pattern was observed using an electron microscope.
Evaluation criteria: AA having a good cross section (trapezoidal shape and forward tapered shape) was designated as AA, and a reverse tapered shape having side edges was designated as BB.

Figure 0004661388
Figure 0004661388

一般的なPDPの構成を示す説明用断面図である。It is sectional drawing for description which shows the structure of a general PDP.

符号の説明Explanation of symbols

101 ガラス基板
102 ガラス基板
103 背面隔壁
104 透明電極
105 バス電極
106 アドレス電極
107 蛍光体
108 誘電体層
109 誘電体層
110 保護膜
111 前面隔壁
DESCRIPTION OF SYMBOLS 101 Glass substrate 102 Glass substrate 103 Back partition 104 Transparent electrode 105 Bus electrode 106 Address electrode 107 Phosphor 108 Dielectric layer 109 Dielectric layer 110 Protective film 111 Front partition

Claims (8)

(A)無機粉体、
(B)下記式(1)で表される構成単位と、アミド基含有モノマー由来の構成単位および水酸基含有モノマー由来の構成単位からなる群より選ばれる少なくとも1種の構成単位とを有し、前記水酸基含有モノマーが(メタ)アクリル酸2−ヒドロキシエチル、(メタ)アクリル酸2−ヒドロキシプロピルおよび(メタ)アクリル酸3−ヒドロキシプロピルからなる群より選ばれる重合体、
Figure 0004661388
(式(1)中、R1 は水素原子またはメチル基であり、R2 は炭素数1〜5のアルキル基であり、mおよびnは1〜5の整数、かつ、m≠nであり、aは1〜100の整数であり、bは0〜100の整数である。)
(C)多官能性(メタ)アクリレート、および
(D)光重合開始剤
を含有することを特徴とする無機粉体含有樹脂組成物。
(A) inorganic powder,
(B) possess a structural unit represented by the following formula (1), and at least one structural unit selected from the group consisting of structural units and hydroxyl group-containing monomer-derived constituent units derived from the amide group-containing monomer, wherein hydroxyl group-containing monomer is 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl and (meth) polymers Ru is selected from the group consisting of acrylic acid 3-hydroxypropyl,
Figure 0004661388
(In the formula (1), R 1 is a hydrogen atom or a methyl group, R 2 is an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, m and n are integers of 1 to 5 and m ≠ n. a is an integer of 1 to 100, and b is an integer of 0 to 100.)
An inorganic powder-containing resin composition comprising (C) a polyfunctional (meth) acrylate and (D) a photopolymerization initiator.
前記重合体(B)が、前記式(1)で表される構成単位と、アミド基含有モノマー由来の構成単位と、水酸基含有モノマー由来の構成単位とを有し、前記水酸基含有モノマーが(メタ)アクリル酸2−ヒドロキシエチル、(メタ)アクリル酸2−ヒドロキシプロピルおよび(メタ)アクリル酸3−ヒドロキシプロピルからなる群より選ばれることを特徴とする請求項1に記載の無機粉体含有樹脂組成物。The polymer (B) has a structural unit represented by the formula (1), a structural unit derived from an amide group-containing monomer, and a structural unit derived from a hydroxyl group-containing monomer. 2. The inorganic powder-containing resin composition according to claim 1, wherein the resin composition is selected from the group consisting of 2-hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate and 3-hydroxypropyl (meth) acrylate. object. さらに(E)溶解促進剤を含有することを特徴とする請求項1または2に記載の無機粉体含有樹脂組成物。 Further (E) inorganic powder-containing resin composition according to claim 1 or 2, characterized in that it contains a solubility enhancer. 前記溶解促進剤(E)がポリオキシエチレンアリールエーテル類であることを特徴とする請求項に記載の無機粉体含有樹脂組成物。 The inorganic powder-containing resin composition according to claim 3 , wherein the dissolution accelerator (E) is a polyoxyethylene aryl ether. 前記無機粉体(A)が400〜650℃の軟化点を有するガラス粉末であることを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載の無機粉体含有樹脂組成物。 The inorganic powder-containing resin composition according to any one of claims 1 to 4, wherein the inorganic powder (A) is a glass powder having a softening point of 400 to 650 ° C. 請求項1〜のいずれかに記載の無機粉体含有樹脂組成物を用いて形成された無機粉体含有樹脂層を有することを特徴とする転写フィルム。 Transfer film characterized by having an inorganic powder-containing resin layer formed by using an inorganic powder-containing resin composition according to any one of claims 1-5. 請求項に記載の転写フィルムを用いて、該転写フィルムを構成する無機粉体含有樹脂層を基板上に転写する工程、
該無機粉体含有樹脂層を露光処理してパターンの潜像を形成する工程、
該無機粉体含有樹脂層を現像処理してパターンを形成する工程、および
該パターンを焼成処理する工程
を含むことを特徴とするプラズマディスプレイパネル用部材の製造方法。
A step of transferring the inorganic powder-containing resin layer constituting the transfer film onto the substrate using the transfer film according to claim 6 ;
A step of exposing the inorganic powder-containing resin layer to form a latent image of a pattern,
A method for producing a member for a plasma display panel, comprising: a step of developing the inorganic powder-containing resin layer to form a pattern; and a step of baking the pattern.
前記プラズマディスプレイパネル用部材が、隔壁、電極、抵抗体、誘電体、蛍光体、カラーフィルターおよびブラックマトリックスから選ばれる少なくとも1種の部材であることを特徴とする請求項に記載のプラズマディスプレイパネル用部材の製造方法。 8. The plasma display panel according to claim 7 , wherein the plasma display panel member is at least one member selected from a partition, an electrode, a resistor, a dielectric, a phosphor, a color filter, and a black matrix. Method for manufacturing a member.
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