JP4656262B2 - 薄膜トランジスタの製造方法 - Google Patents
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Description
下地層の表面に、該下地層の表面の所定の領域を囲むように、半導体溶液に対し該所定の領域よりも高い撥液性を有する撥液層を形成する工程と、
前記所定の領域に、前記半導体溶液を塗布し、前記半導体膜を形成する工程と、
前記半導体膜が形成された後、前記撥液層の撥液性を低下させる工程と、
前記撥液層の撥液性が低下された後、前記半導体膜を覆うように、保護膜材料溶液を塗布し、保護膜を形成する工程と、を有することを特徴とする薄膜トランジスタの製造方法。
前記下地層は、ソース電極およびドレイン電極が形成された基板であり、
前記所定の領域は、前記ソース電極と前記ドレイン電極の間のチャネル領域であることを特徴とする前記1から4の何れか1項に記載の薄膜トランジスタの製造方法。
前記下地層は、ゲート電極を覆うゲート絶縁膜であり、
前記所定の領域は、前記ゲート電極に対応する領域であることを特徴とする前記1から4の何れか1項に記載の薄膜トランジスタの製造方法。
前記下地層は、ソース電極およびドレイン電極が形成された基板であり、
前記所定の領域は、前記ソース電極と前記ドレイン電極の間のチャネル領域であることを特徴とする前記1から4の何れか1項に記載の薄膜トランジスタの製造方法。
前記下地層は、ソース電極およびドレイン電極が形成されるべき基板であり、
前記所定の領域は、前記基板に形成される前記ソース電極と前記ドレイン電極の間のチャネル領域に対応する領域であることを特徴とする前記1から4の何れか1項に記載の薄膜トランジスタの製造方法。
ボトムゲートボトムコンタクト型のTFT1の製造方法の実施例1−1を図2を用いて説明する。図2(a)〜図2(h)は、実施例1−1におけるボトムゲートボトムコンタクト型のTFT1の製造工程を示す模式図である。尚、各図において、上図は断面模式図、下図は平面模式図である。
(実施例1−2)
次に、ボトムゲートボトムコンタクト型のTFT1の製造方法の実施例1−2を図3を用いて説明する。図3(a)〜図3(h)は、実施例1−2におけるボトムゲートボトムコンタクト型のTFT1の製造工程を示す模式図である。尚、各図において、上図は断面模式図、下図は平面模式図である。
(実施例2)
ボトムゲートトップコンタクト型のTFT1の製造方法の実施例2を図4を用いて説明する。図4(a)〜図4(h)は、実施例2におけるボトムゲートトップコンタクト型のTFT1の製造工程を示す模式図である。尚、各図において、上図は断面模式図、下図は平面模式図である。
(実施例3)
トップゲートボトムコンタクト型のTFT1の製造方法の実施例3を図5を用いて説明する。図5(a)〜図5(g)は、実施例3におけるトップゲートボトムコンタクト型のTFT1の製造工程を示す模式図である。尚、各図において、上図は断面模式図、下図は平面模式図である。
(実施例4)
トップゲートトップコンタクト型のTFT1の製造方法の実施例4を図6を用いて説明する。図6(a)〜図6(g)は、実施例4におけるトップゲートトップコンタクト型のTFT1の製造工程を示す模式図である。尚、各図において、上図は断面模式図、下図は平面模式図である。
CF 撥液層
D ドレイン電極
G ゲート電極
IF ゲート絶縁膜
IK インク(有機半導体溶液)
LF 下地層
P 基板
PF 保護膜
S ソース電極
SF 半導体膜
Claims (8)
- 半導体膜を保護する保護膜を有する薄膜トランジスタの製造方法において、
下地層の表面に、該下地層の表面の所定の領域を囲むように、半導体溶液に対し該所定の領域よりも高い撥液性を有する撥液層を形成する工程と、
前記所定の領域に、前記半導体溶液を塗布し、前記半導体膜を形成する工程と、
前記半導体膜が形成された後、前記撥液層の撥液性を低下させる工程と、
前記撥液層の撥液性が低下された後、前記半導体膜を覆うように、保護膜材料溶液を塗布し、保護膜を形成する工程と、を有することを特徴とする薄膜トランジスタの製造方法。 - 前記半導体溶液は、有機半導体材料を溶解した溶液であることを特徴とする請求項1に記載の薄膜トランジスタの製造方法。
- 前記半導体溶液および保護膜材料溶液は、インクジェット法を用いて塗布されることを特徴とする請求項1または2に記載の薄膜トランジスタの製造方法。
- 前記撥液層の撥液性を低下させる工程では、前記撥液層に紫外線を照射することを特徴とする請求項1から3の何れか1項に記載の薄膜トランジスタの製造方法。
- 前記薄膜トランジスタは、ボトムゲートボトムコンタクト構造であり、
前記下地層は、ソース電極およびドレイン電極が形成された基板であり、
前記所定の領域は、前記ソース電極と前記ドレイン電極の間のチャネル領域であることを特徴とする請求項1から4の何れか1項に記載の薄膜トランジスタの製造方法。 - 前記薄膜トランジスタは、ボトムゲートトップコンタクト構造であり、
前記下地層は、ゲート電極を覆うゲート絶縁膜であり、
前記所定の領域は、前記ゲート電極に対応する領域であることを特徴とする請求項1から4の何れか1項に記載の薄膜トランジスタの製造方法。 - 前記薄膜トランジスタは、トップゲートボトムコンタクト構造であり、
前記下地層は、ソース電極およびドレイン電極が形成された基板であり、
前記所定の領域は、前記ソース電極と前記ドレイン電極の間のチャネル領域であることを特徴とする請求項1から4の何れか1項に記載の薄膜トランジスタの製造方法。 - 前記薄膜トランジスタは、トップゲートトップコンタクト構造であり、
前記下地層は、ソース電極およびドレイン電極が形成されるべき基板であり、
前記所定の領域は、前記基板に形成される前記ソース電極と前記ドレイン電極の間のチャネル領域に対応する領域であることを特徴とする請求項1から4の何れか1項に記載の薄膜トランジスタの製造方法。
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