JP4655509B2 - 接触処理物、付加重合用触媒成分、付加重合用触媒および付加重合体の製造方法 - Google Patents
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Description
かかる状況のもと、本発明が解決しようとする課題は、重合活性に優れる付加重合用触媒の成分に用いられる接触処理物、該接触処理物からなる付加重合用触媒成分、該付加重合用触媒成分を用いてなる付加重合用触媒、および、該付加重合用触媒を用いる付加重合体の製造方法を提供することにある。
(a):フタロシアニン系錯体および/またはポルフィリン系錯体
(b):界面活性剤
本発明の第二は、上記接触処理物からなる付加重合用触媒成分にかかるものである。
本発明の第三は、上記付加重合用触媒成分を用いてなる付加重合用触媒にかかるものである。
本発明の第四は、上記付加重合用触媒を用いる付加重合体の製造方法にかかるものである。
上記一般式[2]のM1は周期律表(IUPAC無機化学命名法改訂版1989)第2〜12族またはランタノイド系列の原子を表し、具体例としては、スカンジウム原子、イットリウム原子、チタン原子、ジルコニウム原子、バナジウム原子、クロム原子、モリブデン原子、マンガン原子、レニウム原子、鉄原子、ルテニウム原子、コバルト原子、ロジウム原子、ニッケル原子、パラジウム原子、白金原子、銅原子、銀原子、金原子、亜鉛原子、カドミウム原子、水銀原子、サマリウム原子、イッテルビウム原子等が挙げられる。好ましくは第9族または第12族の原子であり、特に好ましくはコバルト原子または亜鉛原子である。
<一般式群(I)>
Mがマンガン原子、mが3であり、Xが塩素原子、フッ素原子あるいは臭素原子である錯体;Mがレニウム原子、mが3であり、Xが塩素原子、フッ素原子あるいは臭素原子である錯体;Mが鉄原子、mが3であり、Xが塩素原子、フッ素原子あるいは臭素原子である錯体;Mがルテニウム原子、mが3であり、Xが塩素原子、フッ素原子あるいは臭素原子である錯体;Mがコバルト原子、mが3であり、Xが塩素原子、フッ素原子あるいは臭素原子である錯体;Mがロジウム原子、mが3であり、Xが塩素原子、フッ素原子あるいは臭素原子である錯体;Mがニッケル原子、mが3であり、Xが塩素原子、フッ素原子あるいは臭素原子である錯体;Mがパラジウム原子、mが3であり、Xが塩素原子、フッ素原子あるいは臭素原子である錯体;Mが白金原子、mが3であり、Xが塩素原子、フッ素原子あるいは臭素原子である錯体;Mが銅原子、mが3であり、Xが塩素原子、フッ素原子あるいは臭素原子である錯体;Mが銀原子、mが3であり、Xが塩素原子、フッ素原子あるいは臭素原子である錯体;Mが金原子、mが3であり、Xが塩素原子、フッ素原子あるいは臭素原子である錯体;Mが亜鉛原子、mが3であり、Xが塩素原子、フッ素原子あるいは臭素原子である錯体;Mがカドミウム原子、mが3であり、Xが塩素原子、フッ素原子あるいは臭素原子である錯体;Mが水銀原子、mが3であり、Xが塩素原子、フッ素原子あるいは臭素原子である錯体;Mがサマリウム原子、mが3であり、Xが塩素原子、フッ素原子あるいは臭素原子である錯体;Mがイッテルビウム原子、mが3であり、Xが塩素原子、フッ素原子あるいは臭素原子である錯体などを挙げることができる。
最も好ましくは、上記一般式群(I)において、Mがコバルト原子、亜鉛原子、mが2である錯体である。
ZR1 m [1]
上記一般式[1]中、Zは窒素原子、酸素原子または硫黄原子を表し、mはZの原子価を表し、R1は水素原子または炭化水素基を表し、それぞれのR1は互いに同じであっても異なっていてもよい。
LaM3X3 b [4]
(式中、aは0<a≦8を満足する数を、bは0<b≦8を満足する数を表す。M3は元素の周期律表の第3〜12族またはランタノイド系列の金属原子を表す。Lはシクロペンタジエン形アニオン骨格を有する基またはヘテロ原子を有する基を表し、Lが複数ある場合は、それらは互いに同じであっても異なってもよく、複数のLは、炭素原子、ケイ素原子、窒素原子、酸素原子、硫黄原子およびリン原子から選ばれる原子を有する残基を介して、あるいは直接連結されていてもよい。X3はハロゲン原子、炭化水素基(但し、シクロペンタジエン形アニオン骨格を有する基を除く。)または炭化水素オキシ基を表し、X3が複数ある場合は、それらは互いに同じであっても異なってもよい。)
R4 3P=N− [5]
(式中、R4は水素原子、ハロゲン原子または炭化水素基を表し、夫々のR4は互いに同じであっても異なっていてもよく、それら2つ以上が互いに結合していてもよく、環を形成していてもよい。)
(式中、R5は、水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基、炭化水素オキシ基、シリル基またはアミノ基を表し、それぞれのR5は互いに同じであっても異なっていてもよく、それら2つ以上が互いに結合して環を形成していてもよい。)
これらのアルキル基はいずれも、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などのハロゲン原子で置換されていてもよい。ハロゲン原子で置換されたアルキル基としては、例えばフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、クロロメチル基、トリクロロメチル基、フルオロエチル基、ペンタフルオロエチル基、パーフルオロプロピル基、パーフルオロブチル基、パーフルオロヘキシル基、パーフルオロオクチル基、パークロロプロピル基、パークロロブチル基、パーブロモプロピル基などが挙げられる。
またこれらのアルキル基はいずれも、メトキシ基、エトキシ基等のアルコキシ基;フェノキシ基などのアリールオキシ基;ベンジルオキシ基などのアラルキルオキシ基などで置換されていてもよい。
これらのアラルキル基はいずれも、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などのハロゲン原子;メトキシ基、エトキシ基等のアルコキシ基;フェノキシ基などのアリールオキシ基;ベンジルオキシ基などのアラルキルオキシ基などで置換されていてもよい。
これらのアリール基はいずれも、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などのハロゲン原子;メトキシ基、エトキシ基等のアルコキシ基;フェノキシ基などのアリールオキシ基;ベンジルオキシ基などのアラルキルオキシ基などで置換されていてもよい。
(tert−ブチルアミド)テトラメチルシクロペンタジエニルジメチルシランチタンジクロライド、(tert−ブチルアミド)テトラメチルシクロペンタジエニルジメチルシランチタンジメチル、(tert−ブチルアミド)テトラメチルシクロペンタジエニルジメチルシランチタンジベンジル、(ベンジルアミド)テトラメチルシクロペンタジエニルジメチルシランチタンジクロライド、(フェニルフォスファイド)テトラメチルシクロペンタジエニルジメチルシランチタンジベンジル、
(tert−ブチルアミド)インデニルジメチルシランチタンジクロライド、(tert−ブチルアミド)インデニルジメチルシランチタンジメチル、(tert−ブチルアミド)テトラヒドロインデニルジメチルシランチタンジクロライド、(tert−ブチルアミド)テトラヒドロインデニルジメチルシランチタンジメチル、(tert−ブチルアミド)フルオレニルジメチルシランチタンジクロライド、(tert−ブチルアミド)フルオレニルジメチルシランチタンジメチル、
(B−ジメチルアミノボラベンゼン)シクロペンタジエニルジルコニウムジクロライド、シクロペンタジエニル(9−メシチルボラアントラセニル)ジルコニウムジクロライド、
[ビス(トリイソプロピルシリル)ナフタレンジアミド]チタンジクロライド、[ビス(トリメチルシリル)ナフタレンジアミド]チタンジクロライド、[ビス(tert−ブチルジメチルシリル)ナフタレンジアミド]チタンジクロライド、[ビス(tert−ブチルジメチルシリル)ナフタレンジアミド]チタンジブロマイド、
メチレンビス[スピロ{(4R)−4−メチルオキサゾリン−5,1’−シクロブタン}]ニッケルジブロマイド、メチレンビス[スピロ{(4R)−4−メチルオキサゾリン−5,1’−シクロペンタン}]ニッケルジブロマイド、メチレンビス[スピロ{(4R)−4−メチルオキサゾリン−5,1’−シクロヘキサン}]ニッケルジブロマイド、メチレンビス[スピロ{(4R)−4−メチルオキサゾリン−5,1’−シクロヘプタン}]ニッケルジブロマイド、
2,2’−メチレンビス[スピロ{(4R)−4−イソプロピルオキサゾリン−5,1’−シクロブタン}]ニッケルジブロマイド、2,2’−メチレンビス[スピロ{(4R)−4−イソプロピルオキサゾリン−5,1’−シクロペンタン}]ニッケルジブロマイド、2,2’−メチレンビス[スピロ{(4R)−4−イソプロピルオキサゾリン−5,1’−シクロヘキサン}]ニッケルジブロマイド、2,2’−メチレンビス[スピロ{(4R)−4−イソプロピルオキサゾリン−5,1’−シクロヘプタン}]ニッケルジブロマイド、
2,2’−メチレンビス[スピロ{(4R)−4−イソブチルオキサゾリン−5,1’−シクロブタン}]ニッケルジブロマイド、2,2’−メチレンビス[スピロ{(4R)−4−イソブチルオキサゾリン−5,1’−シクロペンタン}]ニッケルジブロマイド、2,2’−メチレンビス[スピロ{(4R)−4−イソブチルオキサゾリン−5,1’−シクロヘキサン}]ニッケルジブロマイド、2,2’−メチレンビス[スピロ{(4R)−4−イソブチルオキサゾリン−5,1’−シクロヘプタン}]ニッケルジブロマイド、
2,2’−メチレンビス[スピロ{(4R)−4−tert−ブチルオキサゾリン−5,1’−シクロブタン}]ニッケルジブロマイド、2,2’−メチレンビス[スピロ{(4R)−4−tert−ブチルオキサゾリン−5,1’−シクロペンタン}]ニッケルジブロマイド、2,2’−メチレンビス[スピロ{(4R)−4−tert−ブチルオキサゾリン−5,1’−シクロヘキサン}]ニッケルジブロマイド、2,2’−メチレンビス[スピロ{(4R)−4−tert−ブチルオキサゾリン−5,1’−シクロヘプタン}]ニッケルジブロマイド、
[ヒドロトリス(3,5−ジエチルピラゾリル)ボレート]ニッケルクロライド、[ヒドロトリス(3,5−ジエチルピラゾリル)ボレート]ニッケルブロマイド、[ヒドロトリス(3,5−ジエチルピラゾリル)ボレート]ニッケルアイオダイド、[ヒドロトリス(3,5−ジエチルピラゾリル)ボレート]ニッケルメチル、[ヒドロトリス(3,5−ジエチルピラゾリル)ボレート]ニッケルエチル、[ヒドロトリス(3,5−ジエチルピラゾリル)ボレート]ニッケルアリル、[ヒドロトリス(3,5−ジエチルピラゾリル)ボレート]ニッケルメタリル、
[ヒドロトリス(3,5−ジ−tert−ブチルピラゾリル)ボレート]ニッケルクロライド、[ヒドロトリス(3,5−ジ−tert−ブチルピラゾリル)ボレート]ニッケルブロマイド、[ヒドロトリス(3,5−ジ−tert−ブチルピラゾリル)ボレート]ニッケルアイオダイド、[ヒドロトリス(3,5−ジ−tert−ブチルピラゾリル)ボレート]ニッケルメチル、[ヒドロトリス(3,5−ジ−tert−ブチルピラゾリル)ボレート]ニッケルエチル、[ヒドロトリス(3,5−ジ−tert−ブチルピラゾリル)ボレート]ニッケルアリル、[ヒドロトリス(3,5−ジ−tert−ブチルピラゾリル)ボレート]ニッケルメタリルなどが挙げられる。
(式中、R6およびR7はそれぞれ2,6−ジイソプロピルフェニル基であり、X4、X5、R8およびR9は下記の表1に表わされる置換基の組み合わせのいずれかである。)
[ヒドロトリス(3,5−ジメチルピラゾリル)ボレート]鉄クロライド、[ヒドロトリス(3,5−ジメチルピラゾリル)ボレート]鉄ブロマイド、[ヒドロトリス(3,5−ジメチルピラゾリル)ボレート]鉄アイオダイド、[ヒドロトリス(3,5−ジメチルピラゾリル)ボレート]鉄メチル、[ヒドロトリス(3,5−ジメチルピラゾリル)ボレート]鉄エチル、[ヒドロトリス(3,5−ジメチルピラゾリル)ボレート]鉄アリル、[ヒドロトリス(3,5−ジメチルピラゾリル)ボレート]鉄メタリル、
[ヒドロトリス(3,5−ジエチルピラゾリル)ボレート]鉄クロライド、[ヒドロトリス(3,5−ジエチルピラゾリル)ボレート]鉄ブロマイド、[ヒドロトリス(3,5−ジエチルピラゾリル)ボレート]鉄アイオダイド、[ヒドロトリス(3,5−ジエチルピラゾリル)ボレート]鉄メチル、[ヒドロトリス(3,5−ジエチルピラゾリル)ボレート]鉄エチル、[ヒドロトリス(3,5−ジエチルピラゾリル)ボレート]鉄アリル、[ヒドロトリス(3,5−ジエチルピラゾリル)ボレート]鉄メタリル、
[ヒドロトリス(3,5−ジ−tert−ブチルピラゾリル)ボレート]鉄クロライド、[ヒドロトリス(3,5−ジ−tert−ブチルピラゾリル)ボレート]鉄ブロマイド、[ヒドロトリス(3,5−ジ−tert−ブチルピラゾリル)ボレート]鉄アイオダイド、[ヒドロトリス(3,5−ジ−tert−ブチルピラゾリル)ボレート]鉄メチル、[ヒドロトリス(3,5−ジ−tert−ブチルピラゾリル)ボレート]鉄エチル、[ヒドロトリス(3,5−ジ−tert−ブチルピラゾリル)ボレート]鉄アリル、[ヒドロトリス(3,5−ジ−tert−ブチルピラゾリル)ボレート]鉄メタリルなどが挙げられる。
また、上記の鉄化合物において、鉄をコバルトまたはニッケルに置き換えた化合物も同様に例示することができる。
また、金属原子がサマリウム原子である化合物の具体例としてはビス(ペンタメチルシクロペンタジエニル)サマリウムメチルテトラヒドロフランなどが挙げられる。
金属原子がイッテルビウム原子である化合物の具体例としてはビス(ペンタメチルシクロペンタジエニル)イッテルビウムメチルテトラヒドロフランなどが挙げられる。
R10 dAlQ3-d [8]
(式中、dは0<d≦3を満足する数を表す。R10は炭化水素基を表し、R10が複数ある場合は、夫々のR10は同じであっても異なっていてもよい。Qは水素原子、ハロゲン原子または炭化水素オキシ基を表し、Qが複数ある場合は、夫々のQは同じであっても異なっていてもよい。)
これらのアルコキシ基はいずれもフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などのハロゲン原子;メトキシ基、エトキシ基などのアルコキシ基;フェノキシ基等のアリールオキシ基等で置換されていてもよい。
これらのアリールオキシ基はいずれもフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などのハロゲン原子;メトキシ基、エトキシ基などのアルコキシ基;フェノキシ基等のアリールオキシ基等で置換されていてもよい。
これらのアラルキルオキシル基はいずれもフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などのハロゲン原子;メトキシ基、エトキシ基などのアルコキシ基;フェノキシ基等のアリールオキシ基等で置換されていてもよい。
実施例中の各項目の測定値は、下記の方法で測定した。
(1)重合体中のα−オレフィン単位含有量
得られた重合体中のα−オレフィン単位含有量(炭素原子1000個当たりの短鎖分岐度)は、赤外吸収スペクトルから求めた。尚、測定ならびに計算は、文献(Die Makromoleculare Chemie, 177, 449 (1976) McRae, M. A., Madams, W. F. )記載の方法に従い、α−オレフィン由来の特性吸収を利用して実施し、炭素原子1000個当たりの短鎖分岐数(短鎖分岐度)で表した。赤外吸収スペクトルは、赤外分光光度計(日本分光工業社製 FT−IR7300)を用いて測定した。
ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)により、下記の条件で測定した。検量線は標準ポリスチレンを用いて作成した。分子量分布は重量平均分子量(Mw)と数平均分子量(Mn)との比(Mw/Mn)で評価した。
機種 : ミリポアウオーターズ社製 150C型
カラム : 東ソー社製TSK−GEL GMH−HT 7.5×600×2本
測定温度: 140℃
溶媒 : オルトジクロロベンゼン
試料濃度: 5mg/5ml
(1)接触処理物の製造
アルゴン置換した100mlの4口フラスコに、コバルトヘキサデカフルオロフタロシアニン90.2mg(0.105mol)、テトラヒドロフラン20ml、ジオクタデシルメチルアミン55.1mg(0.103mmol)、テトラヒドロフラン10mlを入れて、還流条件下で9時間反応を行った後、室温で14時間反応させ、次に還流条件下で9時間反応を行い、室温で14時間反応させた後、更に還流条件下で6時間反応を行った。次に、室温にて、減圧下、溶媒を蒸留し、接触処理物を得た。
内容積 400mlの撹拌機付きオートクレーブを真空乾燥してアルゴンで置換後、溶媒としてヘキサン 190ml、コモノマーとして1−ヘキセン 10mlを仕込み、反応器を70℃まで昇温した。昇温後、エチレン圧を6kg/cm2に調整しながらフィードし、系内が安定した後、トリイソブチルアルミニウム 0.25mmolをトルエン溶液(濃度:1mmol/ml)として投入し、続いてエチレンビス(インデニル)ジルコニウムジクロライド 0.2μmolをトルエン溶液(濃度:2μmol/ml)として投入し、さらに上記の実施例1(1)で製造した接触処理物0.6μmolを懸濁液(液体:トルエン、濃度:0.23μmol−Co/ml)として投入し、重合を開始し、30分間重合を行った。
重合の結果、7.46gのエチレン/1−ヘキセン共重合体が得られた。Zr当たりの重合活性=7.5×107g/molZr/h、Co当たりの重合活性=2.5×107g/molCo/hであった。
(1)接触処理物の製造
アルゴン置換した50mlの4口フラスコに、コバルトヘキサデカフルオロフタロシアニン93.4mg(0.109mmol)、ジオクタデシルメチルアミン29.8mg(0.0556mmol)、イミダゾール3.7mg(0.0544mmol)、テトラヒドロフラン30mlを入れて、還流条件下24時間攪拌した。次に、室温にて、減圧下、溶媒を蒸留し、接触処理物を得た。
内容積 400mlの撹拌機付きオートクレーブを真空乾燥してアルゴンで置換後、溶媒としてヘキサン 190ml、コモノマーとして1−ヘキセン 10mlを仕込み、反応器を70℃まで昇温した。昇温後、エチレン圧を6kg/cm2に調整しながらフィードし、系内が安定した後、トリイソブチルアルミニウム 0.25mmolをトルエン溶液(濃度:1mmol/ml)として投入し、続いてエチレンビス(インデニル)ジルコニウムジクロライド 0.2μmolをトルエン溶液(濃度:2μmol/ml)として投入し、さらに上記の実施例2(1)で製造した接触処理物0.6μmolを懸濁液(液体:トルエン、濃度:3.6μmol−Co/ml)として投入し、重合を開始し、30分間重合を行った。
重合の結果、3.62gのエチレン/1−ヘキセン共重合体が得られた。Zr当たりの重合活性=3.6×107g/molZr/h、Co当たりの重合活性=6.0×106g/molCo/hであった。
実施例2(1)で製造した接触処理物の投入量を0.2μmol(懸濁液(液体:トルエン、濃度:3.6μmol−Co/ml)として投入)とする以外は、実施例2と同様に重合を行った。
重合の結果、1.29gのエチレン/1−ヘキセン共重合体が得られた。Zr当たりの重合活性=1.3×107g/molZr/h、Co当たりの重合活性=6.5×106g/molCo/hであった。
エチレンビス(インデニル)ジルコニウムジクロライドの投入量を1.0μmol(トルエン溶液(濃度:2μmol/ml)として投入)とし、実施例2(1)で製造した接触処理物の投入量を9.9μmol(懸濁液(液体:トルエン、濃度:3.6μmol−Co/ml)として投入)とする以外は、実施例2と同様に重合を行った。
重合の結果、16.1gのエチレン/1−ヘキセン共重合体が得られた。Zr当たりの重合活性=3.2×107g/molZr/h、Co当たりの重合活性=1.6×106g/molCo/h、Mw=69000、Mw/Mn=1.9、SCB=27.0であった。
エチレンビス(インデニル)ジルコニウムジクロライドの投入量を1.0μmol(トルエン溶液(濃度:2μmol/ml)として投入)とし、実施例2(1)で製造した接触処理物の投入量を3.0μmol(懸濁液(液体:トルエン、濃度:3.6μmol−Co/ml)として投入)とする以外は、実施例2と同様に重合を行った。
重合の結果、19.9gのエチレン/1−ヘキセン共重合体が得られた。Zr当たりの重合活性=4.0×107g/molZr/h、Co当たりの重合活性=6.6×106g/molCo/h、Mw=59000、Mw/Mn=1.9、SCB=35.9であった。
エチレンビス(インデニル)ジルコニウムジクロライド 1.0μmolに代えて、ビス(n−ブチルシクロペンタジエニル)ジルコニウムジクロライド 1.0μmol(トルエン溶液(濃度:2μmol/ml)として投入)とする以外は、実施例5と同様に重合を行った。
重合の結果、5.74gのエチレン/1−ヘキセン共重合体が得られた。Zr当たりの重合活性=1.1×107g/molZr/h、Co当たりの重合活性=1.9×106g/molCo/h、Mw=140000、Mw/Mn=2.1、SCB=12.2であった。
実施例2(1)で製造した接触処理物の代わりに、コバルトヘキサデカフルオロフタロシアニン 8.7μmol(粉末として投入)とする以外は、実施例5と同様に重合を行った。
重合の結果、0.51gのエチレン/1−ヘキセン共重合体が得られた。Zr当たりの重合活性=1.0×106g/molZr/h、Co当たりの重合活性=5.9×104g/molCo/h、Mw=98000、Mw/Mn=2.1であった。
実施例2(1)で製造した接触処理物の代わりに、コバルトヘキサデカフルオロフタロシアニン 100μmol(粉末として投入)とする以外は、実施例2と同様に重合を行った。
重合の結果、9.38gのエチレン/1−ヘキセン共重合体が得られた。Zr当たりの重合活性=9.4×107g/molZr/h、Co当たりの重合活性=9.4×104g/molCo/h、Mw=81000、Mw/Mn=2.2であった。
Claims (10)
- 下記成分(a)および(b)を接触させてなる接触処理物よりなる付加重合用触媒成分。
(a):下記一般式[2]で表される錯体
(式中、M 1 は周期律表第2〜12族またはランタノイド系列の原子を表し、Tは炭素原子または窒素原子を表し、全てのTは同一原子であり、R 2 およびR 3 はそれぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子または炭化水素基を表し、それぞれのR 2 は互いに同じであっても異なっていてもよく、R 2 は任意に結合して環を形成してもよく、それぞれのR 3 は互いに同じであっても異なっていてもよい。なお、Tが窒素原子の場合、該Tに結合するR 3 はないものとする。mはM 1 の原子価を表し、X 1 は水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基または炭化水素オキシ基を表し、X 1 が複数存在する場合は、それらは互いに同じであっても異なっていてもよい。)
(b):界面活性剤 - 成分(b)が下記一般式[1]で表される化合物である請求項1に記載の付加重合用触媒成分。
ZR1 m [1]
(式中、Zは窒素原子、酸素原子または硫黄原子を表し、mはZの原子価を表す。R1は水素原子または炭化水素基を表し、夫々のR1は互いに同じであっても異なっていてもよい。) - 一般式[1]において、少なくとも1つのR 1 が、炭素原子数12〜100のアルキル基である、請求項2に記載の付加重合用触媒成分。
- 一般式[2]のmまたは一般式[3]のnが2である請求項1〜4のいずれかに記載の付加重合用触媒成分。
- 極性溶媒の存在下、成分(a)および(b)を接触させてなる請求項1〜5のいずれかに記載の付加重合用触媒成分。
- 請求項1〜6のいずれかに記載の付加重合用触媒成分、および第3〜12族もしくはランタノイド系列金属化合物を接触させてなる付加重合用触媒。
- 請求項1〜6のいずれかに記載の付加重合用触媒成分、第3〜12族もしくはランタノイド系列金属化合物、および有機アルミニウム化合物を接触させてなる付加重合用触媒。
- 第3〜12族もしくはランタノイド系列金属化合物がメタロセン系金属化合物である請求項7または8に記載の付加重合用触媒。
- 請求項7〜9のいずれかに記載の付加重合用触媒を用いる付加重合体の製造方法。
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