JP4650299B2 - 粒子線治療装置 - Google Patents
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- イオンビーム発生装置と、
前記イオンビーム発生装置で発生したイオンビームが導かれる照射装置とを備え、
前記照射装置が、走査電磁石と、走査電磁石に取り囲まれた不活性ガスチェンバと、前記不活性ガスチェンバ内に不活性ガスを供給するガス供給管と、前記ガス供給管に設けられた流量調節弁と、前記不活性ガスチェンバ内の圧力に基づいて、前記不活性ガスチェンバの外部である大気圧よりも前記不活性ガスチェンバ内の圧力が高くなるように前記流量調節弁の開度を制御する制御装置とを有していることを特徴とする粒子線治療装置。 - 前記照射装置が回転ガントリーに設置されている請求項1に記載の粒子線治療装置。
- 前記不活性ガスチャンバに接続されたガス排出管と、前記ガス排出管に設けられたオリフィスとを備えた請求項1または請求項2に記載の粒子線治療装置。
- 前記オリフィスよりも上流側で前記ガス排出管に設けられたバリアブルリークバルブを有する請求項3に記載の粒子線治療装置。
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