JP4645629B2 - 半透過型カラー液晶表示装置用カラーフィルタワーク基板 - Google Patents
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Description
半透過型カラー液晶表示装置300は、図3に示すように、セルカラーフィルタ60とTFT基板70との間に液晶81を封入してカラー液晶パネルを構成したもので、セルカラーフィルタ60はガラス基板11上にブラックマトリクス21、透明パターン層31、着色画素41及び透明電極51を、TFT基板70はTFT基板上に透明電極71及び反射電極72をそれぞれ形成したものである。
ている。
一方、TFT基板70側では、透過領域の着色画素41tに対応する位置に透明電極71を、反射領域の着色画素41rに対応する位置には反射電極72を設けている。これによりセルカラーフィルタ60側から入射した光は反射電極72で反射されて反射領域の着色画素41rを経由して観察者に認識される。すなはち、着色画素41r領域では反射型カラー液晶表示装置を構成する。一方、TFT基板70側から入射した光は透明電極71、透過領域の着色画素41tを経由して観察者に認識されるため、着色画素41t領域では透過型カラー液晶表示装置を構成している。
ここで、カラーフィルタの製造にあっては、生産効率を向上させるため、1枚のワーク基板にカラーフィルタを多面付けして作製した後個々のカラーフィルタ、もしくは、表示装置に断裁する方法が主流となっている。
このブラックマトリクス21は、カラー液晶表示を行う際表示品位のコントラスト向上、不要な部位への光入射を防止するため、各色の着色画素間に設けられる。
この透明パターン層31は、ブラックマトリクス21間に透過領域及び反射領域の着色画素の膜厚を制御し、濃度の異なる着色画素領域を簡易に形成するために設けられているものであって、透明パターン層31上に形成される着色画素膜厚と透明パターン層31両側に形成される着色画素膜厚を変えて、1画素の着色画素濃度を変えるために形成される。透明パターン層31の膜厚はカラーフィルタの種類等により異なるが、2〜3.5μm厚程度が一般的である。
ここで、赤色着色画素41Rは、透明パターン層31の両側に形成された濃度の高い透過領域の着色画素41tと、透明パターン層31上部に形成された濃度の低い反射領域の着色画素41rとで構成されている。
けされたワーク基板200を得る。
このスジ状ムラ91は、上記カラーフィルタ製造工程で赤色、緑色、青色の各着色感光性レジストを塗布する際に発生するもので、今回のような透明パターン層31を形成した後に各着色感光性レジストを塗布する際にセルカラーフィルタのコーナーからスジ状の塗布ムラが発生し易い。
これは、透明パターン層31の膜厚が2〜3.5μmと着色レジスト層の膜厚1〜1.5μmに対して厚いため、スピンコートのような回転塗布で中央に滴下した各着色感光性レジストを基板周辺部に塗り広げる場合透明パターン層31が障壁になり均一なコーティングができず、塗布ムラが発生すると想定される。
また、着色画素が形成された領域を囲むブラック枠22が形成されていると、このブラック枠の厚みが障壁となり、塗り広げられたレジストがブラック枠を乗り越える際に不均一に広がりムラが発生することも想定される。
この塗布ムラは、カラー液晶表示パネルの表示品位の低下をもたらし、カラーフィルタの生産収率を押し下げる要因となり、問題である。
図1(a)は、本発明に係わる半透過型カラー液晶表示装置用カラーフィルタワーク基板100の模式平面図を、図1(b)は、図1(a)の模式平面図をA−A’線で切断した半透過型カラー液晶表示装置用カラーフィルタワーク基板100の模式構成部分断面図である。
本発明に係わる半透過型カラー液晶表示装置用カラーフィルタワーク基板を用いた半透過型カラー液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法は、図1(a)に示すように、ガラス基板11上に多面付けされたセルカラーフィルタ50内の所定位置に透明パターン層31を形成する際にセルカラーフィルタ50の隣接するブラック枠22間に透明層32を同時に形成している。その後各色の着色画素を形成していくものである。これにより、セルカラーフィルタ50間では透明層32の形成により、障壁段差が少なくなり、スピンコートのような回転塗布で中央に滴下した各着色感光性レジストをガラス基板周辺部に塗り広げる際着色感光性レジストがブラック枠を乗り越えるのが容易となり、レジストが均一に広がるようにしたものである。
透明層32はパターン状の透明層32を隣接するブラック枠22間に配置しても良いし、隣接するブラック枠22間を埋め尽くすようなベタ状のパターンであっても良い。
まず、基板サイズ360×465mm、板厚0.7mmのガラス基板11上にスパッタリング等により0.17μm厚のクロム薄膜を形成し、クロム薄膜を公知のパターニングプロセスにてパターン化し、ガラス基板11の所定位置に6μm幅のブラックマトリクス21及び2mm幅のブラック枠22を形成した(図2(a)参照)。
ここで、ブラックマトリクス21は、カラー液晶表示を行った際の表示品位のコントラスト向上、不要な部位への光入射を防止するため、各色の着色画素間に設けるのが一般的である。ブラック枠22はセルカラーフィルタ50の外周辺部に設けられており、セルカラーフィルタ50の外周有効部を構成している。
ここで、赤色着色画素41Rは、透明パターン層31の両側に形成された濃度の高い透過領域の膜厚1.0μmの赤色画素41t、透明パターン層31上部に形成された画素濃度の低い反射領域の膜厚0.5μmの赤色画素41rより構成されている。
さらに、透明層32上にも赤色感光層は形成されるが、パターン露光されないため、透明層32上の赤色感光層は現像処理で除去され、透明層32上には赤色感光層は残らない。
以上、本発明の実施例につき説明したが、これに限定されるものでなく、本発明の主旨に基づき種々の変形を行っても構わない。例えば、ブラック枠、ブラックマトリクスは黒色樹脂で形成することであっても構わない。
21……ブラックマトリクス
22……ブラック枠
31……透明パターン層
32……透明層
41R……赤色着色画素
41G……緑色着色画素
41B……青色着色画素
41t……透過領域の着色画素
41r……反射領域の着色画素
50、60……セルカラーフィルタ
51……透明電極
70……TFT基板
71……透明電極
72……反射電極
81……液晶
91……スジ状ムラ
100……半透過型カラー液晶表示装置用カラーフィルタワーク基板
200……ワーク基板
300……半透過型カラー液晶表示装置
Claims (2)
- 反射電極が形成されたTFT基板に対向して用いられる半透過型液晶表示装置用カラーフィルタワーク基板であって、少なくともブラック枠、ブラックマトリクス、前記ブラックマトリクス間の領域の一部に透明樹脂による透明パターン層を形成し、前記ブラックマトリクス間の領域に、赤色、緑色、青色の何れかの顔料を分散した着色感光性レジストの層を前記透明パターン層の厚さより薄く形成した着色画素からなるセルカラーフィルタが多面付けされ、
前記セルカラーフィルタの外枠を構成しているブラック枠間の前記セルカラーフィルタ同士が隣接する領域を埋め尽くすように前記透明樹脂により前記透明パターン層と同じ厚さの透明層を設けたことを特徴とする半透過型カラー液晶表示装置用カラーフィルタワーク基板。 - 反射電極が形成されたTFT基板に対向して用いられる半透過型液晶表示装置用カラーフィルタワーク基板であって、少なくともブラック枠、ブラックマトリクス、前記ブラックマトリクス間の領域の一部に透明樹脂による透明パターン層を形成し、前記ブラックマトリクス間の領域に、赤色、緑色、青色の何れかの顔料を分散した着色感光性レジストの層を前記透明パターン層の厚さより薄く形成した着色画素からなるセルカラーフィルタが多面付けされ、
前記セルカラーフィルタの外枠を構成しているブラック枠間の前記セルカラーフィルタ同士が隣接する領域に、前記透明樹脂により前記透明パターン層と同じ厚さのパターン状の透明層を設けたことを特徴とする半透過型カラー液晶表示装置用カラーフィルタワーク基板。
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