JP4082106B2 - 半透過型ｌｃｄ用カラーフイルタ及びその製造方法 - Google Patents

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、半透過型ＬＣＤ用カラーフイルタ及びその製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
半透過型液晶表示装置（半透過型ＬＣＤ）は、カラーフイルタ基板と液晶駆動用の画素電極や回路等を形成した基板（アレー基板）とで液晶樹脂を挟持しており、バックライトからの光源を透過して表示する透過表示部と、アレー側に反射板を備え外光を反射させて表示する反射表示部を備えた方式である。
【０００３】
カラーフイルタ基板には、基板上に複数の着色画素層が形成されている。前記着色画素層は、層内を通過する光を所定の色に着色するもので、透明樹脂中に、着色顔料等の着色剤を分散させたものが一般的である（以下着色画素層をＲＧＢ材料層と記す）。半透過型ＬＣＤ用カラーフイルタ基板では、１画素中に、透過表示部用のＲＧＢ材料層と、反射表示部用のＲＧＢ材料層とを有している。半透過型ＬＣＤの画素表示にあたっては、十分に明るい外光が入射する使用環境では反射表示部のみで画素表示を行うことが可能だが、明るい外光が入射しない場合、透過表示部と反射表示部とを併用する使用方法が一般的である。
【０００４】
前記併用する使用方法では、透過表示部で形成する画像と反射表示部で形成する画像を同時に画像として認識するため、画面に写し出された画像が、動きのある画像も含めて自然な画面となることが重要である。当然明るさ、カラーバランス等のカラー特性に付いても技術上はクリアーすることが必要なことである。
【０００５】
アレー側に反射板を備え、半透過型ＬＣＤ内に入射する外光線を反射させて表示する前記反射表示部においては、カラーフイルタ表示面から入射した外光線はカラーフイルタを構成するＲＧＢ材料層内を通過した後、液晶樹脂層内を通過し、アレー側の反射板で反射される。前記反射光は、前記の液晶樹脂を通過後、カラーフイルタのＲＧＢ材料層内を通過し、カラーフイルタ表示面から外部にでる。すなわち、反射表示部にあっては光が往復する。そのため、反射表示部では、光の減衰が生じるため、画素表示が暗くなる等の問題が生じていた。
【０００６】
上記の問題を解決する方法として、従来の技術では、以下の方法が提案されている。
【０００７】
すなわち、図３（ａ）に示すように、透過表示部用の着色材料にて透過表示部３のＲＧＢ材料層１２ａを形成する。また、反射表示部２には、より着色剤の配合比が少く、透過率がより高い反射表示用の着色材料にて反射表示部のＲＧＢ材料層１２ｂを形成する。すなわち、この方法は、各色毎にＲＧＢ材料層の層形成するプロセスを２回繰返し行うもので、例えば、Ｒ（赤）色、Ｇ（緑）色、Ｂ（青）色の３色からなるカラーフイルタでは６色のＲＧＢ材料層を層形成することになる。
【０００８】
しかし、この製造方法では、ＲＧＢ材料層を塗布形成するプロセスが各色毎に２回繰り返されるため、生産設備の負荷が大きく、設備のバランスが崩れる恐れがある。前記プロセスの材料費が割高になり、工数等がダブルに影響するため生産コストが割高となる問題がある。
【０００９】
このため以下の方法が提案されている。すなわち、図３（ｂ）に示すように、同じ着色材料を用いて、透過表示部２と反射表示部３に同時にＲＧＢ材料層を塗布形成するが、反射表示部３のＲＧＢ材料層１２ｂの画素内にスルーホール１４（着色画素層を形成しない貫通領域）をパターン形成し、高い透過率を備えたＲＧＢ材料層とする方法である。前記画素内のスルーホール１４の形状は円パターン、又は、ストライプの溝状パターン等を形成し、前記画素のカラー特性を調整する方法が一般的である。
【００１０】
なお、この製造方法では、画素内にスルーホールのパターン形成したため、前記画素に段差が生じる。そのため、カラーフイルタの全面に透明樹脂を塗布し、ＯＣ層１５を形成し、表面平坦化する必要がある。
【００１１】
次に、従来のスルーホール型の半透過型ＬＣＤ用カラーフイルタの製造方法を説明する。
【００１２】
図４は、従来のスルーホール型の半透過型ＬＣＤ用カラーフイルタの一例を示す製造工程図である。まず、所定の材質で、片側全表面に金属薄膜（遮光膜用）を具備したカラーフイルタ用の基板１９を工程に投入する。
（ａ）最初に、前記基板に所定のパターンとした遮光膜３１を形成する。すなわち、まず前記金属薄膜上に感光性のレジスト樹脂を塗布しレジスト層を形成する。予め準備した遮光膜用パターンを備えた遮光膜用フォトマスクを用いて所定光源を照射露光して、前記レジスト層に遮光膜パターンを転写後、所定の現像処理をする。次に、遮光膜用パターンを備えた前記レジスト層をマスクとして露出した前記金属薄膜部をエッチング処理し、遮光膜３１のパターンを形成する。（図４（ａ）参照）ここで遮光膜３１間の各開口部が各々１画素となる。
（ｂ）前記画素内にＲＧＢ材料層を形成する。すなわち、前記基板上の前記遮光膜から開口部まで全面に１色目の着色材料、例えば感光性樹脂中にＲ（赤）色顔料を分散させたＲ材料レジストを所定の方法で塗布し基板全面にＲ材料レジストの塗布層を形成する。予め準備したＲ層用パターンを備えたＲ層フォトマスクを用いて、前記塗布層に所定光源を照射露光して、前記塗布層にＲ層パターンを転写後、所定の現像処理を行ってＲ層３２のパターンを形成する。前記Ｒ層フォトマスクはＲ層用パターンを備えている。該パターンは所定のスルーホールパターンを具備した反射表示部の画素パターンと、透過表示部の画素パターンである。
（ｃ）次いで、２色目のＲＧＢ材料層を形成する。すなわち、前記基板上の遮光膜から開口部及びＲ層の上全面に２色目の着色材料、例えば感光性樹脂中にＧ色顔料を分散させたＧ（緑）材料レジストを所定の方法で塗布し基板全面にＧ材料レジストの塗布層を形成する。予め準備したＧ層用スルーホールパターンを備えた反射表示部用パターンと、透過表示部用パターンを有するＧ層フォトマスクを用いて、前記塗布層に所定光源を照射露光して、前記塗布層にＧ層パターンを転写後、所定の現像処理を行ってＧ層３３のパターンを形成する。前記Ｇ層は前記Ｒ層を形成した画素の隣の画素に形成されている。
（ｄ）次いで、３色目のＲＧＢ材料層を形成する工程は、前記基板上の遮光膜から開口部及びＲ層、Ｇ層の上全面に３色目の着色材料、例えば感光性樹脂中にＢ（青）色顔料を分散させたＢ材料レジストを所定の方法で塗布し基板全面にＢ材料レジストの塗布層を形成する。予め準備したＢ層用スルーホールパターンを備えた反射表示部用パターンと、透過表示部用パターンとを有するＢ層フォトマスクを用いて、前記塗布層に所定光源を照射露光して、前記塗布層にＢ層パターンを転写後、所定の現像処理を行ってＢ層３４のパターンを形成する。前記Ｂ層は前記Ｒ層、及びＧ層を形成した画素の隣の画素に形成されている。すなわち、Ｒ層３２、Ｇ層３３、Ｂ層３４の順番に配列するＲＧＢ材料層１２を形成する。反射表示部の前記ＲＧＢ材料層はスルーホール１４を形成した画素である。（図４（ｂ）参照）
（ｅ）次に、基板上の全面に透明樹脂層よりなるＯＣ層１５を塗布形成し、平坦とする。（図４（ｃ）参照）
（ｆ）前記画素内に透明電極１３を形成する。前記基板上の遮光膜からＲＧＢ材料まで全面に所定の成膜装置、所定の方法によって導電性の材料からなる透明薄膜を形成する。なお、治具等を用いて成膜するため、前記透明薄膜は所定の形状からなる透明電極１３として形成されている。（図４（ｄ）参照）
【００１３】
上記の処理工程後、基板全体を洗浄して、スルーホール型の半透過型ＬＣＤ用カラーフイルタが完成する。
【００１４】
【発明が解決しようとする課題】
ここで、上述したように、前記反射表示部では、入射した外光線はカラーフイルタの表面から、半透過型ＬＣＤ内部に進入し、アレー側の反射板で反射され後、半透過型ＬＣＤ外部に放出される。一方の透過表示部では、バックライト光線は透過表示部のアレー側からカラーフイルタの表面に透過するため１回しか液晶樹脂層内を通過しない。
【００１５】
すなわち、反射表示部と透過表示部とで液晶樹脂層内を通過する光の光路距離が異なった場合、光の減衰等で満足するカラー特性を得るのは困難であった。例えば、反射表示部では光路距離が２倍となるため黄色味を帯びる等、不要に着色したり、色温度が変化した画面表示となっていた。
【００１６】
そのため、半透過型ＬＣＤにおいては、液晶樹脂を封入する間隙（セルギャップ）を透過表示部と、反射表示部で各々異なったものとする要求がなされている。
【００１７】
従来は、アレー基板に段差を持たせていた。すなわち、アレー基板の液晶樹脂層に接する面側において、反射表示部と透過表示部との表面の段差をもたせたものである。これにより、アレー基板と半透過型用カラーフイルタ基板とで液晶樹脂層を挟持した際に、反射表示部の液晶樹脂層の厚さと、透過表示部の液晶樹脂層の厚さを異なったものとし、液晶樹脂層内を通過する光の光路距離を調整していた。しかし、アレー基板には駆動用回路等を形成しており複雑な構成となっているため、段差の形成は困難であった。
【００１８】
本発明は、アレー基板に段差を形成することなく、半透過型ＬＣＤを組み立て構成した場合であっても、表示画面に不要な着色や色温度の変化や、色ムラの生じることを防止し、良好な表示画面を得ることのできる半透過型ＬＣＤ用カラーフイルタを提供することである。
【００１９】
【課題を解決するための手段】
本発明の請求項１に係る発明は、アレー基板とで液晶樹脂を挟持し、半透過型ＬＣＤを構成する、１画素中に反射表示部と、透過表示部とを有する半透過型ＬＣＤ用カラーフイルタにおいて、前記カラーフィルタの基板の面に遮光膜のパターンを有し、前記遮光膜のパターンの開口部である前記画素内には、スルーホールパターンを有する反射表示部用パターンとスルーホールパターンが無い透過表示部用パターンとから成る同一膜厚のＲ材料と、スルーホールパターンを有する反射表示部用パターンとスルーホールパターンが無い透過表示部用パターンとから成る同一膜厚のＧ材料と、スルーホールパターンを有する反射表示部用パターンとスルーホールパターンが無い透過表示部用パターンとから成る同一膜厚のＢ材料から成るＲＧＢ材料層のパターンを有し、かつ、前記画素の前記反射表示部に、前記ＲＧＢ材料層のスルーホールパターン内を充填する、前記ＲＧＢ材料層上に重なる透明樹脂層のパターンを有し、前記透明樹脂層の上面及び前記ＲＧＢ材料層の上面に導電性の透明薄膜から成る透明電極を有し、前記反射表示部における前記透明樹脂層の前記ＲＧＢ材料層からの高さにより、前記反射表示部と前記透過表示部のアレー基板とのセルギャップ差を調整することを特徴とする半透過型ＬＣＤ用カラーフイルタである。
【００２２】
本発明の請求項２に係る発明は、アレー基板とで液晶樹脂を挟持し、半透過型ＬＣＤを構成する、１画素中に反射表示部と、透過表示部とを有する半透過型ＬＣＤ用カラーフイルタの製造方法において、前記カラーフイルタの基板の面に遮光膜のパターンを形成することで前記遮光膜のパターンの開口部で前記画素を形成する第１の工程と、次に、前記画素内に、スルーホールパターンを有する反射表示部用パターンとスルーホールパターンが無い透過表示部用パターンとから成る同一膜厚のＲ材料を反射表示部と透過表示部に同時に形成し、また、スルーホールパターンを有する反射表示部用パターンとスルーホールパターンが無い透過表示部用パターンとから成る同一膜厚のＧ材料を反射表示部と透過表示部に同時に形成し、また、スルーホールパターンを有する反射表示部用パターンとスルーホールパターンが無い透過表示部用パターンとから成る同一膜厚のＢ材料を反射表示部と透過表示部に同時に形成することでＲＧＢ材料層を形成する第２の工程と、次に、前記画素の前記反射表示部に、前記ＲＧＢ材料層のスルーホールパターン内を充填する、前記ＲＧＢ材料層上に重なる透明樹脂層のパターンを形成する第３の工程と、前記透明樹脂層の上面及び前記ＲＧＢ材料層の上面に導電性の透明薄膜から成る透明電極を形成する第４の工程を有し、前記反射表示部における前記透明樹脂層の前記ＲＧＢ材料層からの高さにより、前記反射表示部と前記透過表示部のアレー基板とのセルギャップ差を調整することを特徴とする半透過型ＬＣＤ用カラーフイルタの製造方法である。
【００２４】
【発明の実施の形態】
本発明に係わるスルーホール型の半透過型ＬＣＤ用カラーフイルタ及びその製造方法について詳細に説明する。
【００２５】
図１は本発明のスルーホール型の半透過型ＬＣＤ用カラーフイルタを用いた半透過型ＬＣＤの一例を示す側断面図である。
【００２６】
図１にしめすように、上部分にアレー基板５があり、下部分にはカラーフイルタ基板４がある。前記の基板（５，４）間に間隙を形成し、該所定の間隙には液晶樹脂８を封入した構造のスルーホール型の半透過型ＬＣＤ１である。図１は、スルーホール型の半透過型ＬＣＤの１画素分の拡大側断面図であり、左側部が反射表示部３であり、右側部は透過表示部２である。また、表示画面は下側のカラーフイルタ用の基板１９面である。左側部の反射表示部３においては、外光線は下方から、前記基板１９の表面より入射し、アレー基板側の反射板７で反射され再び基板１９より射出することで画像を表示する。右側部の透過表示部２では、アレー基板側に設けられたバックライト６の光が基板１９より射出することで画像を表示する。
【００２７】
前記反射表示部３は、スルーホール１４のパターンを有するＲＧＢ材料層１２ｂが積層形成され、スルーホール１４内まで充填し、且つ反射領域上を被覆する透明樹脂層１０、透明電極１３、液晶樹脂８、アレー基板９、反射板７の形成する構造である。また、前記透過表示部２は、基板１９上にＲＧＢ材料層１２ａが積層形成され、ＲＧＢ材料層１２ａ上に、透明電極１３、液晶樹脂８、アレー基板９、さらにバックライト６の形成によって形成する構造である。前記2つの表示部が１画素を形成し半透過型ＬＣＤが構成されている。前記透明電極１３の表面と、アレーの基板９上表面に所定の間隙を構成しており、該間隙がセルギャップ２０である。該セルギャップ２０内に液晶樹脂８が封入された状態である。図１でわかるように、本発明の前記透過表示部３と反射表示部２はそれぞれ異なるセルギャップとなっている。
【００２８】
前記カラーフイルタにおいて、反射表示部と透過表示部とでそれぞれ異なる層の厚さ形成している。すなわち、反射表示部はスルーホール１４を有するＲＧＢ材料層１２ｂ、透明樹脂層１０、透明電極１３の合計の層厚となる。一方、透過表示部はＲＧＢ材料層１２ａ、透明電極１３、の合計の層厚となる。すなわち、反射表示部に形成した前記透明樹脂層１０だけ、反射表示部の層厚が厚くなる。表示画面に不要な着色が生じない様、反射表示部のセルギャップと透過表示部のセルギャップが適正となるよう、半透過ＬＣＤ用仕様に応じて、透明樹脂層１０の層の厚さは適宜設定して構わない。
【００２９】
また、前記透明樹脂層１０に光散乱性をもたせた場合、反射光が散乱するため、視野角の広い良好な画像が得られる効果も期待できる。
【００３０】
図２は、本発明のスルーホール型の半透過型ＬＣＤ用カラーフイルタの一例を示す製造方法の工程の側断面図である。
【００３１】
次に、前記図２を用いて、製造方法を説明する。まず、所定の材質と、片側全表面に金属薄膜を形成した所定のサイズのカラーフイルタ用の基板１９を工程に投入する。
（ａ１）前記金属薄膜上に感光性のレジスト樹脂を塗布しレジスト層を形成する。
（ａ２）予め準備した遮光膜用パターンを備えた遮光膜用フォトマスクを用いて所定光源を照射露光して、前記レジスト層に遮光膜用パターンを転写後、所定の現像処理をする。
（ａ３）遮光膜用パターンを備えた前記レジスト層をマスクとして露出した前記金属薄膜部をエッチング処理し、遮光膜３１のパターンを形成する。（図２ａ参照）
（ｂ１）前記遮光膜から開口部上まで全面に１色目の着色材料、例えば感光性樹脂中にＲ（赤）色顔料を分散させたＲ材料レジストを所定の方法で塗布し基板全面にＲ材料レジストの塗布層を形成する。
（ｂ２）予め準備したスルーホールパターンを備えた反射表示部用パターンと、透過表示部用パターンとを有するＲ層用パターンを備えたＲ層フォトマスクを用いて、前記塗布層に所定光源を照射露光して、前記塗布層にＲ層用パターンを転写後、所定の現像処理を行ってＲ層３２のパターンを形成する。
（ｃ１）次いで、前記の遮光膜から開口部上まで全面に２色目の着色材料、例えば感光性樹脂中にＧ（緑）色顔料を分散させたＧ材料レジストを所定の方法で塗布し基板全面にＧ材料レジストの塗布層を形成する。
（ｃ２）予め準備したスルーホールパターンを備えた反射表示部用パターンと、透過表示部用パターンとを有するＧ層用パターンを備えたＧ層フォトマスクを用いて、前記塗布層に所定光源を照射露光して、前記塗布層にＧ層用パターンを転写後、所定の現像処理を行ってＧ層３３のパターンを形成する。前記Ｇ層は前記Ｒ層を形成した画素の隣の画素に形成されている。
（ｄ１）さらに、前記の遮光膜から開口部上まで全面に３色目の着色材料、例えば感光性樹脂中にＢ（青）色顔料を分散させたＢ材料レジストを所定の方法で塗布し基板全面にＢ材料レジストの塗布層を形成する。
（ｄ２）予め準備したスルーホールパターンを備えた反射表示部用パターンと、透過表示部用パターンとを有するＢ層用パターンを備えたＢ層フォトマスクを用いて、前記塗布層に所定光源を照射露光して、前記塗布層にＢ層用パターンを転写後、所定の現像処理を行ってＢ層３４のパターンを形成する。前記Ｂ層は前記Ｒ層、及びＧ層を形成した画素の隣の画素に形成されている。すなわち、Ｒ層３２、Ｇ層３３、Ｂ層３４の順番に配列するＲＧＢ材料層１２を形成する。（図２ｂ参照）
（ｅ１）次いで、前記遮光膜３１から前記Ｒ層３２、Ｇ層３３、Ｂ層３４上までを覆う全面に感光性透明樹脂からなる塗布層（以下、透明樹脂層をＷ層と記す）を形成する。Ｗ層はスルーホール内を充填し、且つ反射表示部において、所望のセルギャップとなる膜厚とする。
（ｅ２）予め準備したＷ層用パターンを備えたＷ層フォトマスクを用いて、前記塗布層に所定光源を照射露光して、前記塗布層にＷ層用パターンを転写後、所定の現像処理をおこなって、前記スルーホールパターンを備えた反射表示部のＲＧＢ材料層上にＷ層３６を積
層形成する。（図２ｃ参照）
（ｆ１）前記の遮光膜３１からＲＧＢ材料層１２、Ｗ層３６まで全面に所定の成膜装置、所定の方法によって導電性の材料からなる透明薄膜を形成する。なお、治具等を用いて成膜するため、前記透明薄膜は所定の形状からなる透明電極１３として形成されている。（図２ｄ参照）
【００３２】
上記の処理工程後、基板全体を洗浄して、本発明のスルーホール型の半透過型ＬＣＤ用カラーフイルタが完成する。
【００３３】
上記製造工程は、レジスト層を形成する工程と、所定のパターンを前記レジスト層に形成する工程を繰返して順次積層する方法で構成されている。そのため、形成するレジスト層厚が重要となる。すなわち、厚さの中央値、及びそのバラツキの範囲を制御することが大事となる。
【００３４】
前記感光性のレジスト樹脂を塗布しレジスト層を形成する工程は、所定の塗布装置に付与された厚さを制御する特定のパラメーター値、例えば、塗布ｊｏｂ、回転数、隙間の間隙値等を所定の値に設定して、感光性レジストを基板上に形成する工程が一般的に用いられている。装置は、例えばスピンナー、ロールコータが用いられている。
【００３５】
ＲＧＢ材料層は、例えば、０．８μｍ〜１．８μｍ厚に形成する。又スルーホールパターンは、例えば、直径１０μｍ〜５０μｍの円形で形成する。又は、前記スルーホールパターンをストライプの溝状とする場合は、溝幅が８μｍ〜２０μｍ、長さ１０μｍ〜５０μｍの範囲で形成する。反射表示部と透過表示部のＲＧＢ材料層は同時に形成したものであり、同じレジスト、同一膜厚である。反射表示部と透過表示部のＲＧＢ材料層の層厚の差（ギャップ）は、０．０５μｍ〜０．４μｍで形成される場合が一般的である。すなわち、本発明に係る半透過型ＬＣＤ用カラーフイルターで、半透過型ＬＣＤを組み立て構成した場合、反射表示部と透過表示部との液晶樹脂層の層厚差（セルギャップ）は反射表示部と透過表示部で、０．０５μｍ〜０．４μｍ差をもたせることができる。
【００３６】
前記感光性のレジスト樹脂は、一般にアクリル系、やエポキシ系の樹脂が使用されている。Ｗ層用のレジストは、樹脂のみの配合を主体としたもので、その透明性を強調したレジストである。
【００３７】
透明樹脂層３６（Ｗ層）に光散乱性を持たせた散乱膜とする場合、散乱膜用のレジストは、前記Ｗ層用を主成分とし形成後の層が光を散乱するように粒子を所定の量を添加した配合を主体としたもので、その光散乱性を強調したレジストである。
【００３８】
前記Ｗ層３６（透明樹脂層）は最終的に必要とされるセルギャップ量に従って、例えば、１．５μｍ〜３．００μｍ厚で形成する。
【００３９】
ＲＧＢ材料層用の着色レジストは、前記Ｗ層用を主成分に所定色の顔料を所定の量を配合し樹脂分に顔料を分散状態にしたもので、そのカラー特性を強調したレジストである。
【００４０】
予め準備した所定パターンを備えたフォトマスクを用いて、パターンを転写後、所定の現像処理を行ってパターンを形成する工程は、予めフォトマスクを準備する必要がある。また、転写用の露光装置は特殊なものでなくともよい。現像処理は通常のものを使用する。
【００４１】
【発明の効果】
本発明のスルーホールパターンを有する半透過型ＬＣＤ用カラーフイルタでは、反射表示部の層厚を透過表示部の層厚を厚くしている。このため、本発明の半透過型ＬＣＤ用カラーフイルタ基板と、アレー基板を用いて半透過型ＬＣＤを組み立て構成すれば、略表面平坦なアレー基板で液晶樹脂層を挟持しても、反射表示部と透過表示部の液晶樹脂層の層厚さを所望のものとすることが出来る。すなわち、アレー基板に複雑な製造工程を行うことなく、反射表示部の液晶樹脂層内を通過する光と、透過表示部の液晶樹脂層内を通過する光との各光距離を最適にすることができ、不要な着色や、色温度変化の無い良好な画面表示が可能となる。また、従来のスルーホール型の半透過型ＬＣＤ用カラーフイルタではスルーホール部で凹部が生じ、反射表示部の表面を平坦にすることは難しかった。このため、反射表示部でセルギャップが不均一となり色むらが発生していた。しかし、本発明の半透過型ＬＣＤ用カラーフイルタでは、厚めに透明樹脂を塗布形成するため、スルーホール部位を含め表面平坦とした反射表示部とすることが可能となり、色ムラの発生を防止することが可能となる。また、透明樹脂層に光散乱性を持たせければ、不要な着色や色温度の変化や、色ムラの無い良好な画像を広視野角で表示することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図１】 本発明のスルーホール型のカラーフィルタを用いた半透過型ＬＣＤの一例を示す部分側断面図である。
【図２】 （ａ）〜（ｄ）は、本発明のスルーホール型の半透過型ＬＣＤ用カラーフイルタの製造工程の一例を工程順に示す側断面図である。
【図３】 （ａ）、（ｂ）は、従来の半透過型ＬＣＤの一例を示す部分側断面図である。
【図４】 （ａ）〜（ｄ）は、従来のスルーホール型の半透過型ＬＣＤ用カラーフイルタの製造工程の一例を工程順に示す側断面図である。
【符号の説明】
１…半透過型ＬＣＤ
２…透過表示部
３…反射表示部
４…カラーフイルタ基板
５…アレー基板
６…バックライト
７…反射板
８…液晶樹脂、（液晶樹脂層）
９…アレー用の基板
１０…透明樹脂、（透明樹脂層）
１１…散乱膜
１２…ＲＧＢ材料、（ＲＧＢ材料層）
１２ａ…透過表示部のＲＧＢ材料層
１２ｂ…反射表示部のＲＧＢ材料層
１３…透明電極
１４…スルーホール
１５…ＯＣ（ＯＣ層）
１９…カラーフイルタ用の基板
２０…セルギャップ
３１…遮光膜
３２…Ｒ層
３３…Ｇ層
３４…Ｂ層
３６…Ｗ層
３７…ギャップ

Claims (2)

1. アレー基板とで液晶樹脂を挟持し、半透過型ＬＣＤを構成する、１画素中に反射表示部と、透過表示部とを有する半透過型ＬＣＤ用カラーフイルタにおいて、前記カラーフィルタの基板の面に遮光膜のパターンを有し、前記遮光膜のパターンの開口部である前記画素内には、スルーホールパターンを有する反射表示部用パターンとスルーホールパターンが無い透過表示部用パターンとから成る同一膜厚のＲ材料と、スルーホールパターンを有する反射表示部用パターンとスルーホールパターンが無い透過表示部用パターンとから成る同一膜厚のＧ材料と、スルーホールパターンを有する反射表示部用パターンとスルーホールパターンが無い透過表示部用パターンとから成る同一膜厚のＢ材料から成るＲＧＢ材料層のパターンを有し、かつ、前記画素の前記反射表示部に、前記ＲＧＢ材料層のスルーホールパターン内を充填する、前記ＲＧＢ材料層上に重なる透明樹脂層のパターンを有し、前記透明樹脂層の上面及び前記ＲＧＢ材料層の上面に導電性の透明薄膜から成る透明電極を有し、前記反射表示部における前記透明樹脂層の前記ＲＧＢ材料層からの高さにより、前記反射表示部と前記透過表示部のアレー基板とのセルギャップ差を調整することを特徴とする半透過型ＬＣＤ用カラーフイルタ。
2. アレー基板とで液晶樹脂を挟持し、半透過型ＬＣＤを構成する、１画素中に反射表示部と、透過表示部とを有する半透過型ＬＣＤ用カラーフイルタの製造方法において、前記カラーフイルタの基板の面に遮光膜のパターンを形成することで前記遮光膜のパターンの開口部で前記画素を形成する第１の工程と、次に、前記画素内に、スルーホールパターンを有する反射表示部用パターンとスルーホールパターンが無い透過表示部用パターンとから成る同一膜厚のＲ材料を反射表示部と透過表示部に同時に形成し、また、スルーホールパターンを有する反射表示部用パターンとスルーホールパターンが無い透過表示部用パターンとから成る同一膜厚のＧ材料を反射表示部と透過表示部に同時に形成し、また、スルーホールパターンを有する反射表示部用パターンとスルーホールパターンが無い透過表示部用パターンとから成る同一膜厚のＢ材料を反射表示部と透過表示部に同時に形成することでＲＧＢ材料層を形成する第２の工程と、次に、前記画素の前記反射表示部に、前記ＲＧＢ材料層のスルーホールパターン内を充填する、前記ＲＧＢ材料層上に重なる透明樹脂層のパターンを形成する第３の工程と、前記透明樹脂層の上面及び前記ＲＧＢ材料層の上面に導電性の透明薄膜から成る透明電極を形成する第４の工程を有し、前記反射表示部における前記透明樹脂層の前記ＲＧＢ材料層からの高さにより、前記反射表示部と前記透過表示部のアレー基板とのセルギャップ差を調整することを特徴とする半透過型ＬＣＤ用カラーフイルタの製造方法。

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