JP4644174B2 - 超伝導フィルタ及びフィルタ特性調整方法 - Google Patents

超伝導フィルタ及びフィルタ特性調整方法 Download PDF

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Description

本発明は、超伝導フィルタ及びフィルタ特性調整方法に関し、特に、誘電体基板上に形成された共振器パターンの形状を変化させることなく、フィルタの帯域を変化させることができる超伝導フィルタ及びフィルタ特性調整方法に関する。
近年、携帯電話の普及に伴い、高速、大容量の伝送技術が不可欠となってきている。超伝導体は、高周波領域においても、通常の電気良導体に比べて表面抵抗が非常に小さいため、平面回路型フィルタの導電パターンに適した材料である。酸化物高温超電導体の発見、及び冷凍機の開発により、超伝導体を冷却しなければならないという課題は大幅に改善されている。
下記の特許文献1に、超伝導材料からなるストリップライン上に誘電体膜を形成したり、ストリップラインの線幅をトリミングしたりすることにより、インピーダンスを調整する技術が開示されている。特許文献2に、超伝導フィルタの温度を制御することによってフィルタの帯域通過特性を変化させる技術が開示されている。特許文献3に、超伝導フィルタパターンの上方に配置した常伝導体または超伝導体からなる調整板を上下させることによって、フィルタ特性を変化させる技術が開示されている。
特許文献4に、超伝導フィルタパターンの上方に配置した誘電体板を、圧電アクチュエータを用いて上下させることによって、フィルタ特性を変化させる技術が開示されている。特許文献5に開示された超伝導フィルタは、直線に沿ってほぼ等間隔で配列した複数の1/2波長型ヘアピン型パターンにより構成される。ヘアピン型パターンの各々を、圧電アクチュエータを用いて横方向にスライドさせることにより、各段の結合度が調整される。
特開平10−209722号公報 特開2004−64359号公報 特開2005−354657号公報 特開2002−204102号公報 特開2002−57506号公報
特許文献1に開示された方法では、ストリップライン上に誘電体膜を形成したり、ストリップラインの線幅をトリミングしたりするために、誘電体膜の成膜工程や、レーザアブレーション工程を追加しなければならない。特許文献2に開示された方法では、温度調整のための装置を追加しなければならない。
特許文献3及び4に開示された方法では、調整板の上下のみで、通過帯域の中心周波数を変化させることができる。ところが、中心周波数の移動に伴って、フィルタ特性の波形が、理想的な形状からずれてしまう場合がある。
特許文献5に開示された方法は、ヘアピン型パターンが多段に結合されたフィルタの特性を調整することができるが、他の構成のフィルタに適用することができない。
本発明の目的は、簡便な方法で、フィルタの帯域の中心周波数を移動させると共に、フィルタ特性の波形の乱れを抑制することができる超伝導フィルタを提供することである。本発明の他の目的は、フィルタの帯域の中心周波数を移動させると共に、フィルタ特性の波形の乱れを抑制することができるフィルタ特性調整方法を提供することである。
本発明の一観点によると、
誘電体からなるベース基板と、
前記ベース基板の第1の表面上に超伝導材料で形成された共振器パターンと、
前記第1の表面に対向するように、該第1の表面からある間隔を隔てて配置された誘電体からなる調整用基板と、
前記第1の表面と、前記調整用基板の、前記ベース基板に対向する面とのなす角度が変化可能なように、前記調整用基板を支持する支持機構と
を有する超伝導フィルタが提供される。
本発明の他の観点によると、
誘電体からなるベース基板と、
前記ベース基板の第1の表面上に超伝導材料で形成された共振器パターンと、
前記第1の表面に対向するように、該第1の表面からある間隔を隔てて配置された誘電体からなる調整用基板とを有する超伝導フィルタのフィルタ特性調整方法であって、
前記ベース基板の第1の表面に対する前記調整用基板の姿勢を変化させる工程を含むフィルタ特性調整方法が提供される。
調整用基板の、ベース基板に対向する面と、第1の表面とのなす角度を変化させることにより、フィルタ特性を調整することができる。角度を変化させることにより、間隔のみを変化させる場合に比べて調整の自由度が増す。
図1Aに、第1の実施例による超伝導フィルタの断面図を示す。図1B及び図1Cに、それぞれ図1Aの一点鎖線B1−B1、及びC1−C1における平断面図を示す。図1B及び図1Cの一点鎖線A1−A1における断面図が図1Aに相当する。
表面に共振器パターン、裏面にグランド膜15が形成されたベース基板10が、パッケージ30の本体30Aの底面に配置されている。グランド膜15がパッケージ本体30Aの底面に接触する。ベース基板10の上に、付加基板17が配置されている。
パッケージ本体30Aは、上方が開口された直方体状の容器であり、開口部は、天板30Bで塞がれている。パッケージ本体30Aと天板30Bとにより、内部に閉じた空間を画定するパッケージ30が構成される。パッケージ30は、熱伝導性に優れる無酸素銅で形成されている。なお、無酸素銅の他に、純アルミニウム、アルミニウム合金、銅合金等で形成してもよい。さらに、熱収縮率がベース基板10のそれに近いコバール、インバー、42アロイ等で形成してもよい。
図2Aに、ベース基板10の平面図を示す。ベース基板10は単結晶MgO等の誘電体で形成されており、その平面形状は、長辺の長さが36mm、短辺の長さが22mmの長方形であり、その厚さは0.5mmである。ベース基板10の表面に、直径約12.8mm、厚さ500nmの円形の共振器パターン13及び14が、長辺に平行な方向に並んで配置されている。一方の共振器パターン13に、信号入出力用のフィーダ11及び12が結合している。フィーダ11及び12の線幅は0.5mmであり、共振器パターン13に対向する端部の幅が広げられている。一方のフィーダ11は、2つの共振器パターン13及び14の中心を通る第1の仮想直線L1に沿って配置されている。もう一方のフィーダ12は、この第1の仮想直線L1に直交し、共振器パターン13の中心を通る第2の仮想直線L2に沿って配置されている。さらに、表面の所定の場所に、位置合せマーク16が形成されている。
これらのパターンは、Y−Ba−Cu−O系超伝導材料(以下、YBCOと表記する。)で形成される。なお、YBCO以外の酸化物超伝導材料、例えばR−Ba−Cu−O系(Rは、Nb、Ym、Sm、またはHo)材料、Bi−Sr−Ca−Cu−O系材料、Pb−Bi−Sr−Ca−Cu−O系材料、CuBaCaCu系材料(1.5<p<2.5、2.5<q<3.5、3.5<r<4.5)等で形成してもよい。ベース基板10の裏面には、全面にグランド膜15が形成されている。
以下、ベース基板10、共振器パターン13、14、フィーダ11、12、及びグランド膜15の作製方法について説明する。
まず、直径2インチ、厚さ0.5mmの単結晶MgO基板の両側の表面上に、レーザ蒸着法によりYBCOからなる膜を形成する。一方の表面上のYBCO膜を、通常のフォトリソグラフィ技術を用いてパターニングし、図2Aに示した共振器パターン13、14、フィーダ11、12、及び位置合せマーク16を形成する。フィーダ11及び12の、共振器パターン13とは反対側の端部の表面上に、リフトオフ法を用いてCr膜、Pd膜、Au膜がこの順番に積層された電極を形成する。反対側の面(裏面)に形成されているYBCO膜の全面に、Agを蒸着する。最後に、MgO基板を、ダイシングソーを用いて所定の大きさに切断する。
図2Bに、付加基板17の平面図を示す。付加基板17はLaAlO等の誘電体で形成されており、その平面形状は、長辺の長さが33mm、短辺の長さが20mmの長方形であり、その厚さは0.5mmである。すなわち、ベース基板10よりもやや小さい。付加基板17の表面に、直径約2.8mm、厚さ500nmの付加パターン18が形成されている。さらに、所定の位置に位置合せマーク19が形成されている。これらのパターンは、YBCO等の超伝導材料で形成される。
以下、付加基板17及び付加パターン18の作製方法について説明する。
まず、直径2インチ、厚さ0.5mmのLaAlO基板の片面に、厚さ500nmのYBCO膜を形成する。通常のフォトリソグラフィ技術を用いてYBCO膜をパターニングし、付加パターン18及び位置合せマーク19を形成する。最後に、ダイシングソーにより所定の大きさに切断する。
図2Cに、ベース基板10と付加基板17とを重ねた状態の平面図を示す。ベース基板10に形成された位置合せマーク16と、付加基板17に形成された位置合せマーク19とが重なるように、2枚の基板が位置合せされる。この状態で、付加パターン18は、第1の仮想直線L1から外れた位置で、共振器パターン14の外周線と重なる。例えば、共振器パターン14の中心から第1の仮想直線L1に対して45°の方向に伸びる直線と、共振器パターン14の外周線との交差箇所に、付加パターン18が配置される。フィーダ11及び12の端部は、付加基板17と重ならず、露出した状態になる。
図1A〜図1Cに戻って説明を続ける。ベース基板10及び付加基板17は、図2Cに示した位置関係を維持した状態で、パッケージ本体30A内に装填される。ベース基板10及び付加基板17は、押さえばね38によりその位置が固定される。パッケージ本体30Aの表面には金メッキが施されている。
付加基板17の上方に、調整用基板20が配置されている。調整用基板20は、LaAlO等の誘電体で形成されており、その平面形状は、長辺の長さが36mm、短辺の長さが22mmの長方形であり、その厚さは0.5mmである。すなわち、ベース基板10と同じ大きさである。
調整用基板20は、付加基板17に対向するように、支軸21によりパッケージ本体30Aに支持されている。支軸21は、調整用基板20よりも誘電率の小さな誘電体で形成されている。支軸21は、調整用基板20の長辺に直交し、その中心を通過するように配置され、調整用基板20の、付加基板17に対向する面とは反対側の面に固定されている。
支軸21は、パッケージ本体30Aの壁を貫通する貫通孔37を通ってパッケージの外まで導出されている。支軸21を回転させると、調整用基板20の、付加基板17に対向する面と、ベース基板10の表面とのなす角度が変化するように、調整用基板20の姿勢が変化する。
パッケージ本体30Aの側壁に、入力コネクタ35及び出力コネクタ36が取り付けられている。入力コネクタ35の中心導体及び出力コネクタ36の中心導体が、それぞれ直径25μmのAu線により、フィーダ11及び12に接続されている。なお、Au線に代えて、Auリボン、Al線を用いてもよい。また、フィーダ11及び12には、ボンディングにより接続してもよいし、はんだを用いて接続してもよい。
第1の実施例による超伝導フィルタにおいては、共振器パターン13が1段目のディスク型共振器を構成し、もう一方の共振器パターン14が2段目のディスク型共振器を構成する。共振器パターン14の外周線に重なる付加パターン18により、お互いに直交した電磁界モードの縮退が解かれて共振周波数が分離し、デュアルモードフィルタとして動作する。
共振器パターン14と付加パターン18との相対位置関係によって、中心周波数や、相互に直交する電磁界モードが干渉する度合(カップリング)、すなわち帯域幅が異なる。例えば、付加パターン18が共振器パターン14の外側に向かって移動すると、カップリングが強くなり、帯域幅が広くなる。逆に、付加パターン18が共振器パターン14の内側に入り込むと、カップリングが弱くなり、帯域幅が狭くなる。デュアルモードで共振を生じさせるためには、付加パターン17と共振器パターン14とが同心円とならないような位置関係にする必要がある。
第1の実施例による超伝導フィルタの中心周波数の目標値は4GHzであり、帯域幅の目標値は0.08GHzである。
次に、図3A〜図5Bを参照して、第1の実施例による超伝導フィルタの調整用基板20の機能について説明する。
図3Aに、調整用基板20が配置されていない超伝導フィルタの断面図を示す。この超伝導フィルタは、調整用基板20が配置されていないことを除くと、第1の実施例による超伝導フィルタを同一の構造である。
図3Bに、図3Aに示した超伝導フィルタの透過特性及び反射特性を示す。特性の測定は、超伝導フィルタを70Kまで冷却した状態で行った。横軸は周波数を単位「GHz」で表し、縦軸は信号強度を単位「dB」で表す。後述する図4B及び図5Bのグラフも、これと同様である。図3B中の曲線T1及びR1は、それぞれ透過波及び反射波の強度を示す。図3Bからわかるように、中心周波数が約4.03GHzであり、目標値から0.03GHz程度ずれている。
図4Aに、調整用基板20を、ベース基板10の表面に対して平行になるように配置した超伝導フィルタの断面図を示す。付加基板17の上面から調整用基板20までの高さは3.5mmとした。
図4Bに、図4Aに示した超伝導フィルタの透過特性及び反射特性を示す。図4B中の曲線T2及びR2は、それぞれ透過波及び反射波の強度を示す。中心周波数がやや低下して目標値に近づいているが、透過特性及び反射特性の波形が歪み、対称性が崩れている。
図5Aに、第1の実施例による超伝導フィルタの調整用基板20を、1段目の共振器パターン13側が持ち上がるように5°だけ傾けた状態の断面図を示す。付加基板17の上面から、調整用基板20の中心までの高さは、3.5mmとした。
図5Bに、図5Aに示した超伝導フィルタの透過特性及び反射特性を示す。図5B中の曲線T3及びR3は、それぞれ透過波及び反射波の強度を示す。中心周波数がほぼ目標値の4GHzになっている。透過特性及び反射特性の形状は、ほぼ対称性を維持している。
調整用基板20を、ベース基板10及び付加基板17と平行に配置し、両者の間隔を調整することによって、中心周波数を移動させることができる。ところが、調整用基板20の姿勢を維持したまま間隔のみを調整すると、図4Bに示したように、透過特性及び反射特性の波形が崩れてしまう。調整用基板20の姿勢を変化させることにより、波形の歪を抑制しつつ、中心周波数を移動させることができる。
図6Aに、第2の実施例による超伝導フィルタの正面図を示し、図6Bに、図6Aの一点鎖線B6−B6における断面図を示す。以下、図1A〜図2Cに示した第1の実施例による超伝導フィルタとの相違点に着目して説明し、同一構造の部分については説明を省略する。
パッケージ30の、相互に対向する一組の側壁にスリット32が形成されており、支軸21がスリット32を通過してパッケージ30内から外部に導出されている。スリット32の内周面は、ベース基板10の表面に対して垂直な方向に延在するガイド面を含む。支軸21は、このガイド面に案内されて、ベース基板10からの高さが変化する方向(上下方向)に移動することができる。
パッケージ30の側壁の内部に、スリット32の上端からパッケージ30の上面まで達する貫通孔45が形成され、スリット32下端からある深さまで有底の凹部46が形成されている。凹部46内にコイルばね40の一部が挿入され、残りの部分がスリット32内に配置され、支軸21を支える。貫通孔45内に調整ネジ42が挿入され、その先端がスリット32内の支軸21に接する。調整ネジ42の挿入の深さを調整することにより、支軸21の端部の高さを変化させることができる。支軸21の両端の高さを異ならせることにより、調整用基板20を傾けることもできる。
第2の実施例では、調整用基板20の姿勢を維持したまま高さを調整することが可能である。さらに、1方向のみならず、相互に直交する2方向に傾けることが可能になる。このため、超伝導フィルタの中心周波数や帯域幅の調整の自由度が高まる。
図7に、第1及び第2の実施例による超伝導フィルタの調整装置の断面図を示す。超伝導フィルタ1が真空断熱容器50内に収容されている。真空断熱容器50は、上方に開口部を有する下側容器と、下方に開口部を有する上側容器とを含み、両者の開口部同士を対向させることにより、密閉された空間が画定される。両者の間にOリングを介在させることにより、内部の真空度が維持される。
超伝導フィルタ1は、真空断熱容器50内に配置されたコールドプレート53上に保持される。コールドプレート53は冷凍機のコールドヘッドに熱的に結合し、超伝導フィルタの超伝導体が超伝導状態になる温度まで冷却される。真空ポンプ52が、真空断熱容器50内を真空排気する。
真空断熱容器50の壁に、コネクタ58及び59が取り付けられている。超伝導フィルタ1の入力コネクタ35が、容器内の同時ケーブル60、コネクタ58、及び容器外の同軸ケーブル60を介して、ネットワークアナライザ65に接続されている。超伝導フィルタ1の出力コネクタ36が、容器内の同軸ケーブル60、コネクタ59、及び容器外の同軸ケーブル60を介して、ネットワークアナライザ65に接続されている。
高さ調整用ドライバ55が、真空断熱容器50の上側の壁を貫通し、容器内に挿入されている。その先端は超伝導フィルタ1の調整ネジ42に噛み合っている。姿勢調整用ドライバ56が、真空断熱容器50の側壁を貫通し、容器内に挿入されている。その先端は、フレキシブルな結合管57を経由して、支軸21の端部に連絡している。
高さ調整用ドライバ55を用いて調整ネジ42の挿入の深さを調整することにより、支軸21の端部の高さを変化させることができる。姿勢調整用ドライバ56により、支軸21を回転させ、調整用基板20の姿勢を変化させることができる。
ネットワークアナライザ65で、超伝導フィルタ1の中心周波数、透過特性及び反射特性の波形を観測しながら、高さ調整用ドライバ55及び姿勢調整用ドライバ56で、調整用基板20の高さ及び姿勢を調整することにより、所望のフィルタ特性を得ることができる。
図8A〜図8Cに、共振器パターンの他の構成例を示す。
図8Aに示した構成例では、ベース基板70の表面にヘアピン型フィルタパターン71が形成されている。へアピン型フィルタパターンの両端に、それぞれフィード72及び73が結合している。
図8Bに示した構成例では、ベース基板75の表面に、切り込み79を有する円形の共振器パターン78が形成されている。共振器パターン78に、フィード76及び77が結合している。フィード76及び77は、それぞれ中心角90°の扇形を構成する一対の半径の延長線上に配置される。切り込み79は、共振器パターン78の中心を挟んでフィーダ76及び77に対向する位置に配置される。切り込み79が形成されているため、共振器パターン78内にデュアルモードの共振が発生する。
図8Cに示した構成例では、ベース基板80の表面に円形の共振器パターン81が形成されている。フィーダ82及び83が、共振器パターン81に結合する。ベース基板80の上に付加基板84が配置され、その表面に円形の付加パターン85が形成されている。フィーダ82、83及び付加パターン85は、それぞれ図8Bに示したフィーダ76、77及び切り込み79に対応する位置に配置される。
第1及び第2の実施例による超伝導フィルタの共振器パターンに代えて、図8A〜図8Cに示した共振器パターンを持つ超伝導フィルタにおいても、調整用基板20の姿勢を調整することにより、透過特性及び反射特性の形状の変化を抑制し、中心周波数を移動させることができる。
なお、第1及び第2の実施例による超伝導フィルタの共振器パターンや、図8Cに示した共振器パターンは、曲率の小さな湾曲部や、角部を持たない。これらの湾曲部や角部が設けられていると、電流が湾曲部や角部に集中し、発熱等によって超伝導状態が維持されなくなる場合がある。第1及び第2の実施例による超伝導フィルタの共振器パターンや、図8Cに示した共振器パターンは、局所的な電流集中を抑制できるため、特に大電力用フィルタに適している。
図9A〜図11を参照して、第3の実施例による超伝導フィルタについて説明する。
図9Aに、第3の実施例による超伝導フィルタの断面図を示し、図9Bに、図9Aの一点鎖線B9−B9における断面図を示す。図9Bの一点鎖線A9−A9における断面図が図9Aに示した断面図に相当する。以下、図1A〜図1Cに示した第1の実施例による超伝導フィルタとの相違点に着目して説明し、第1の実施例による超伝導フィルタと同一構成の部分については説明を省略する。
第1の実施例では、調整用基板20が支軸21で支えられていたが、第3の実施例では、調整用基板20が、相互に平行な一対の縁のほぼ中央部において、2つの圧電薄膜アクチュエータ90で支えられている。圧電薄膜アクチュエータ90の基部が、パッケージ本体30Aに固定されており、可撓部が、パッケージ本体30Aの内面からパッケージ30内に庇状に張り出している。パッケージ30の外部に、圧電薄膜アクチュエータ90に電圧を印加するためのリード線91が導出されている。圧電薄膜アクチュエータ90の可撓部の先端が、調整用基板20に取り付けられている。可撓部の撓みの程度を変化させることにより、調整用基板20の姿勢を変化させることができる。
図10A及び図10Bに、それぞれ圧電薄膜アクチュエータ90の断面図及び平面図を示す。圧電薄膜アクチュエータ90は、ステンレス製の基板95、及び可撓部の表面上に積層された下部電極96、圧電膜97、及び上部電極98により構成される。基板95の厚さは、例えば10μmである。
下部電極96は、白金(Pt)等の高融点金属、TiN等の導電性窒化物、またはSrRuO等の導電性酸化物等で形成されており、その厚さは例えば200nmである。これらの材料は、スパッタリングや真空蒸着法により基板95上に堆積させることができる。圧電膜97は、チタン酸ジルコン酸鉛(PZT)、チタン酸ジルコン酸ランタン鉛(PLZT)等の圧電材料で形成され、その厚さは例えば2〜3μmである。圧電膜97は、スパッタリング法、ゾルゲル法、有機金属化学気相成長法(MOCVD)、パルスレーザデポジション法(PLD)、水熱合成法、エアロゾルデポジション法(AD)等により形成することができる。上部電極98は、下部電極96と同様に、白金(Pt)等の高融点金属、TiN等の導電性窒化物、SrRuO等の導電性酸化物等で形成されており、その厚さは例えば200nmである。
下部電極96、圧電膜97、及び上部電極98のパターニングは、フォトレジストパターンを用いたリフトオフ、ウェットエッチングまたはドライエッチング等により行うことができる。また、パターン寸法が大きい場合には、メタルスルーマスクを用いて成膜を行ってもよい。
基板95の可撓部の先端が、はんだ99によって調整用基板20に固定されている。下部電極96及び上部電極98に、それぞれリード線91がワイヤボンディング等により接続されている。リード線91は、絶縁された状態でパッケージの外まで導出されている。基板95の可撓部の長さは、例えば50mmである。
なお、リード線91をワイヤボンディング等により下部電極96及び上部電極98に接続する代わりに、基板上に、リード線となる配線パターンを形成してもよい。この場合には、基板全面を覆うように、スパッタリング又はCVD等によりアルミナまたはシリカ等の厚さ300nmの絶縁膜を形成し、その上に、配線パターンを形成すればよい。配線パターンは、絶縁膜に形成された開口内を経由して、下部電極96及び上部電極98に接続される。
下部電極96と上部電極98との間に直流電圧を印加すると、基板95の可撓部が撓む。電圧の大きさを変化させることにより、撓みの程度を調整することができる。
図10A及び図10Bでは、ユニモルフ型のアクチュエータを示したが、バイモルフ型のアクチュエータを用いてもよい。
図11に、第3の実施例による超伝導フィルタの制御系のブロック図を示す。入力コネクタ35を通して、共振回路25に入力信号sigが入力される。共振回路25は、図2Cに示したベース基板10、フィーダ11、12、共振器パターン13、14、付加基板17、付加パターン18、及び図1Aに示したグランド線15等により構成される。出力コネクタ36から出力信号sigが出力される。
制御装置100が、ネットワークアナライザ101、演算装置102、及びドライバ103を含む。共振回路25からの出力信号sigが、ネットワークアナライザ101に入力される。ネットワークアナライザ101は、出力信号sigのスペクトル波形(例えば図3Bの波形T1、図4Bの波形T2、図5Bの波形T3)を得る。このスペクトル波形が、演算回路102に入力される。
演算回路102は、出力信号sigのスペクトル波形と、目標とする基準波形とを比較し、出力信号sigのスペクトル波形が基準波形に近づくように、ドライバ103に制御信号を送信する。ドライバ103は、演算回路102から受信した制御信号に基づいて、アクチュエータ90を駆動する。このフィードバック制御を繰り返すことにより、安定したフィルタ特性を得ることができる。
上記第3の実施例では、調整用基板20が、相互に平行な一対の縁のほぼ中央部において、2つの圧電薄膜アクチュエータ90で支えられている。このため、1方向に関する傾斜角を変化させることができるが、それに直交する方向の傾斜角を変化させることはできない。次に、2方向の傾斜角を変化させることができる例について説明する。
図12A〜図12Eに示した例では、調整用基板20が、相互に平行な第1及び第2の辺20a、20bと、第1の辺20aと直交する第3及び第4の辺20c、20dとを含む平面形状を有する。
図12Aに示すように、4つのアクチュエータ90a〜90dが、それぞれ第1〜第4の辺20a〜20dのほぼ中央部に取り付けられている。このように、4つのアクチュエータ90a〜90dで調整用基板20を支えることにより、2方向の傾斜角を変化させることができる。
図12Bに示した例では、各アクチュエータ90a〜90dの幅が、図12Aに示したものよりも広くなっている。調整用基板20に取り付けられた先端の部分は、他の部分よりも細くされている。各アクチュエータ90a〜90dの幅が広いため、より大きな駆動力を発生することができる。また、調整用基板20に取り付けられた先端部分を細くすることにより、調整用基板20の姿勢変化を容易にしている。
図12Cに示した例では、調整用基板20の各辺に、2つのアクチュエータが取り付けられている。例えば、第1の辺20aの、中心に関して対称の位置に、それぞれアクチュエータ90a1及び90a2が取り付けられている。アクチュエータ90の個数を増やすことにより、より安定した姿勢制御が可能になる。
図12Dに示した例では、アクチュエータ90a〜90dを、その幅方向の両端においてのみ調整用基板20に取り付け、中央部分は調整用基板20に接触していない。このような構造とすることにより、調整用基板20の姿勢変化が容易になる。
図12Eに示した例では、 調整用基板20の平面形状が正方形または長方形であり、アクチュエータ90a〜90dが、調整用基板20を、その四隅で支えている。このように四隅で調整用基板20を支える構成にしても、2つの方向に関して、調整用基板20の傾斜角を変化させることができる。
以上実施例に沿って本発明を説明したが、本発明はこれらに制限されるものではない。例えば、種々の変更、改良、組み合わせ等が可能なことは当業者に自明であろう。
上記実施例から、以下の付記に示す発明が導出される。
(付記1)
誘電体からなるベース基板と、
前記ベース基板の第1の表面上に超伝導材料で形成された共振器パターンと、
前記第1の表面に対向するように、該第1の表面からある間隔を隔てて配置された誘電体からなる調整用基板と、
前記第1の表面と、前記調整用基板の、前記ベース基板に対向する面とのなす角度が変化可能なように、前記調整用基板を支持する支持機構と
を有する超伝導フィルタ。
(付記2)
前記支持機構は、前記第1の表面と前記調整用基板との間隔が変化するように、該調整用基板を並進移動させることができる付記1に記載の超伝導フィルタ。
(付記3)
さらに、前記ベース基板及び調整用基板を収容するパッケージを有し、
前記支持機構は、前記調整用基板よりも誘電率の低い誘電体で形成された支軸を含み、該支軸は、前記調整用基板の、前記ベース基板に対向する面とは反対側の面に固定され、該支軸の少なくとも一端が、前記パッケージの壁に設けられた貫通孔を通って外部まで導出されている付記1または2に記載の超伝導フィルタ。
(付記4)
前記貫通孔の内周面が、前記第1の表面に垂直な方向に延在するガイド面を含み、前記支軸が前記ガイド面に案内されて、前記第1の表面に垂直な方向に移動する付記3に記載の超伝導フィルタ。
(付記5)
前記支持機構が、前記調整用基板を、相互に異なる位置で支える少なくとも2つのアクチュエータを含む付記1または2に記載の超伝導フィルタ。
(付記6)
前記アクチュエータが圧電膜を含む積層構造を有し、該積層構造の撓みの程度を変化させることにより、前記調整用基板の姿勢を変化させる付記5に記載の超伝導フィルタ。
(付記7)
さらに、前記共振器パターンからの出力信号が入力され、該出力信号のスペクトル波形が、目標とする波形に近づくように、前記アクチュエータを制御する付記5または6に記載の超伝導フィルタ。
(付記8)
前記調整用基板が、相互に平行な第1及び第2の辺と、該第1の辺と直交する第3及び第4の辺とを含む平面形状を有し、前記アクチュエータのうち2つのアクチュエータが、該第1の辺及び第2の辺に対応する位置において前記調整用基板を支えている付記5乃至7のいずれか1つに記載の超伝導フィルタ。
(付記9)
前記アクチュエータのうち他の2つのアクチュエータが、前記第3の辺及び第4の辺に対応する位置において前記調整用基板を支えている付記8に記載の超伝導フィルタ。
(付記10)
前記調整用基板の平面形状が正方形または長方形であり、前記アクチュエータが少なくとも4個配置され、該調整用基板の四隅において該調整用基板を支えている付記5乃至7のいずれか1つに記載の超伝導フィルタ。
(付記11)
誘電体からなるベース基板と、
前記ベース基板の第1の表面上に超伝導材料で形成された共振器パターンと、
前記第1の表面に対向するように、該第1の表面からある間隔を隔てて配置された誘電体からなる調整用基板とを有する超伝導フィルタのフィルタ特性調整方法であって、
前記ベース基板の第1の表面に対する前記調整用基板の姿勢を変化させる工程を含むフィルタ特性調整方法。
(付記12)
前記調整用基板の姿勢を変化させる工程において、前記調整用基板の、前記ベース基板に対向する面と、前記第1の表面とのなす角度を変化させる付記11に記載のフィルタ特性調整方法。
第1の実施例による超伝導フィルタの断面図である。 第1の実施例による超伝導フィルタのベース基板及び付加基板の平面図である。 (3A)は、第1の参考例による超伝導フィルタの断面図であり、(3B)は、その透過特性及び反射特性を示すグラフである。 (4A)は、第2の参考例による超伝導フィルタの断面図であり、(4B)は、その透過特性及び反射特性を示すグラフである。 (5A)は、第1の実施例による超伝導フィルタの断面図であり、(5B)は、その透過特性及び反射特性を示すグラフである。 (6A)は、第2の実施例による超伝導フィルタの正面図であり、(6B)はその断面図である。 超伝導フィルタの調整装置の断面図である。 共振器パターンの他の構成例を示す平面図である。 (9A)は、第3の実施例による超伝導フィルタの断面図であり、(9B)は(9A)の一点鎖線B9−B9における断面図である。 (10A)及び(10B)は、それぞれ第3の実施例による超伝導フィルタに用いられているアクチュエータの断面図及び平面図である。 第3の実施例による超伝導フィルタの制御系のブロック図である。 第3の実施例による超伝導フィルタの他の構成例を示す平断面図である。 第3の実施例による超伝導フィルタの他の構成例を示す平断面図である。
符号の説明
1 超伝導フィルタ
10 ベース基板
11、12 信号入出力線(フィーダ)
13、14 共振器パターン
15 グランド膜
16、19 位置合せマーク
17 付加基板
18 付加パターン
20 調整用基板
21 支軸
30 パッケージ
32 回転軸ガイド(スリット)
35 入力コネクタ
36 出力コネクタ
37 貫通孔
38 押さえばね
40 コイルばね
42 調整ネジ
45 穴
50 真空断熱容器
52 真空ポンプ
53 コールドプレート
54 冷凍機コールドヘッド
55 高さ調整用ドライバ
56 姿勢調整用ドライバ
57 連結管
58、59 コネクタ
60 同軸ケーブル
65 ネットワークアナライザ
70、75、80 ベース基板
71 ヘアピン型フィルタパターン
72、73、76、77、82、83 フィーダ
78、81 共振器パターン
79 切り込み
84 付加基板
85 付加パターン
90 圧電薄膜アクチュエータ
91 リード線
95 基板
96 下部電極
97 圧電膜
98 上部電極
99 はんだ
100 制御装置
101 ネットワークアナライザ
102 演算回路
103 ドライバ

Claims (9)

  1. 誘電体からなるベース基板と、
    前記ベース基板の第1の表面上に超伝導材料で形成された共振器パターンと、
    前記第1の表面に対向するように、該第1の表面からある間隔を隔てて配置された誘電体からなる調整用基板と、
    前記第1の表面と、前記調整用基板の、前記ベース基板に対向する面とのなす角度が変化可能なように、前記調整用基板を支持する支持機構と
    を有する超伝導フィルタ。
  2. 前記支持機構は、前記第1の表面と前記調整用基板との間隔が変化するように、該調整用基板を並進移動させることができる請求項1に記載の超伝導フィルタ。
  3. さらに、前記ベース基板及び調整用基板を収容するパッケージを有し、
    前記支持機構は、前記調整用基板よりも誘電率の低い誘電体で形成された支軸を含み、該支軸は、前記調整用基板の、前記ベース基板に対向する面とは反対側の面に固定され、該支軸の少なくとも一端が、前記パッケージの壁に設けられた貫通孔を通って外部まで導出されている請求項1または2に記載の超伝導フィルタ。
  4. 前記貫通孔の内周面が、前記第1の表面に垂直な方向に延在するガイド面を含み、前記支軸が前記ガイド面に案内されて、前記第1の表面に垂直な方向に移動する請求項3に記載の超伝導フィルタ。
  5. 前記支持機構が、前記調整用基板を、相互に異なる位置で支える少なくとも2つのアクチュエータを含む請求項1または2に記載の超伝導フィルタ。
  6. 前記アクチュエータが圧電膜を含む積層構造を有し、該積層構造の撓みの程度を変化させることにより、前記調整用基板の姿勢を変化させる請求項5に記載の超伝導フィルタ。
  7. さらに、前記共振器パターンからの出力信号が入力され、該出力信号のスペクトル波形が、目標とする波形に近づくように、前記アクチュエータを制御する請求項5または6に記載の超伝導フィルタ。
  8. 前記調整用基板が、相互に平行な第1及び第2の辺と、該第1の辺と直交する第3及び第4の辺とを含む平面形状を有し、前記アクチュエータのうち2つのアクチュエータが、該第1の辺及び第2の辺に対応する位置において前記調整用基板を支えている請求項5乃至7のいずれか1項に記載の超伝導フィルタ。
  9. 誘電体からなるベース基板と、
    前記ベース基板の第1の表面上に超伝導材料で形成された共振器パターンと、
    前記第1の表面に対向するように、該第1の表面からある間隔を隔てて配置された誘電体からなる調整用基板とを有する超伝導フィルタのフィルタ特性調整方法であって、
    前記ベース基板の第1の表面に対する前記調整用基板の、前記ベース基板に対向する面と、前記第1の表面とのなす角度を変化させる工程を含むフィルタ特性調整方法。
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