JP4640978B2 - 有機elディスプレイ - Google Patents
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Description
図1は、本発明の好ましい実施形態に係る有機EL(エレクトロルミネッセンス)ディスプレイ1の断面構造を示す断面図、図2は図1の部分拡大図である。また、図3は、有機ELディスプレイ1を正面からみた正面図である。なお、本発明は、素子基板11の側から光を取り出すボトムエミッション型の有機ELディスプレイ及び封止膜13の側から光を取り出すトップエミッション型の有機ELディスプレイのいずれにも適用可能であるが、以下では、トップエミッション型の有機ELディスプレイに本発明を適用した場合について説明する。
以下では、プラズマCVD法による封止膜13の形成について、図4〜図7を参照しながら説明する。
11 素子基板
12 有機EL素子
13 封止膜
A 封止膜の端部側領域
B 封止膜の内側領域
E 端部
PR 画素領域
MSK1〜MSK3 マスク部材
NPR 非画素領域
OP 開口部
P 突出部
SP 空間
Claims (8)
- 有機ELディスプレイであって、
画素領域及び画素領域の周囲に配置される非画素領域に区分された素子基板と、
前記素子基板上の前記画素領域に形成された複数の有機EL素子と、
複数の前記有機EL素子を共通に封止するように前記画素領域及び前記非画素領域に形成された封止膜と、
を備え、
前記封止膜は、
Si原子及びN原子を含み、
外周端部が非画素領域に位置するように形成され、
前記非画素領域における屈折率が、前記画素領域側よりも前記外周端部側で小さいことを特徴とする有機ELディスプレイ。 - 請求項1に記載の有機ELディスプレイにおいて、
前記封止膜は、H原子を更に含み、
Si原子、N原子及びH原子の含有量の和が50原子パーセント以上であることを特徴とする有機ELディスプレイ。 - 請求項1に記載の有機ELディスプレイにおいて、
前記封止膜は、
前記非画素領域における前記外周端部側の屈折率が、前記非画素領域における最大屈折率の99.85%以下となる部分を含むことを特徴とする有機ELディスプレイ。 - 請求項1または請求項3に記載の有機ELディスプレイにおいて、
前記封止膜は、
前記非画素領域における前記外周端部側の屈折率が、該外周端部に向かって漸次小さくなっていることを特徴とする有機ELディスプレイ。 - 有機ELディスプレイであって、
画素領域及び画素領域の周囲に配置される非画素領域に区分された素子基板と、
前記素子基板上の前記画素領域に形成された有機EL素子と、
複数の前記有機EL素子を共通に封止するように前記画素領域及び前記非画素領域に形成された封止膜と、
を備え、
前記封止膜は、
外周端部が非画素領域に位置するように形成され、
前記非画素領域における内部応力の絶対値が、前記画素領域側よりも前記外周端部側で小さいことを特徴とする有機ELディスプレイ。 - 請求項5に記載の有機ELディスプレイにおいて、
前記封止膜は、
前記非画素領域における前記外周端部側の内部応力の絶対値が、該外周端部に向かって漸次小さくなっていることを特徴とする有機ELディスプレイ。 - 請求項1ないし請求項6のいずれかに記載の有機ELディスプレイにおいて、
前記封止膜は、
プラズマ状態となった原料ガスを、前記素子基板に対向させたマスク部材の開口部を通過させた後に堆積させることにより形成されることを特徴とする有機ELディスプレイ。 - 請求項1または請求項5に記載の有機ELディスプレイにおいて、
前記画素領域及び前記非画素領域を覆うように前記素子基板上に配置される封止基板と、
前記素子基板と前記封止基板との間に配置されるシール材と、を更に備え、
前記シール材は、前記封止膜上に位置することを特徴とする有機ELディスプレイ。
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