JP4640823B2 - 基板処理装置 - Google Patents
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すなわち、従来の装置は、基板ガイドの保持部によって水平方向からの乾燥気体の流れが妨げられ、乾燥効率が低下するという問題がある。特に、左右対称の位置にある保持部の基板側にあたる領域においては、乾燥不良の発生や、ウォーターマークの発生が生じやすい。
すなわち、請求項1に記載の発明は、基板を処理液で処理する基板処理装置において、処理液を貯留する処理槽と、前記処理槽内の処理位置と前記処理槽上方の待機位置とにわたって昇降する昇降機構と、中央部の第1保持部と、前記第1保持部を挟んで一方側に配置された第2保持部と、他方側に配置された第3保持部とを有し、前記第1保持部、前記第2保持部及び前記第3保持部は、基板を保持するとともに、全て異なる高さに前記昇降機構に設けられている基板保持部と、前記処理槽の上部において水平方向に乾燥気体を噴射し、かつ噴射方向を切り換え可能な噴射部と、前記基板保持部が基板を保持した状態で、前記昇降機構が前記処理位置から前記待機位置へ上昇する際に、前記第2保持部及び前記第3保持部のうち高さ位置が低い保持部側にあたる第1方向から前記噴射部により乾燥気体を噴射させ、高さ位置が高い保持部が処理液の液面から離間した後、前記第1方向とは逆の第2方向から前記噴射部により乾燥気体を噴射させる制御部と、を備えていることを特徴とするものである。
図1は、実施例1に係る基板処理装置の概略構成を示すブロック図であり、図2は、基板保持部の一部拡大図である。
背板23の下部には、基板保持部25が配設されている。基板保持部25は、中央部に第1保持部55を備え、この第1保持部55を挟んで一方側(図2の左側)に第2保持部57と、他方側(図2の右側)に第3保持部59とを備えている。これらの第1保持部55と、第2保持部57と、第3保持部59とは、基板Wの周縁を当接支持する複数個のスリット61を各々備えている。
図7は、実施例2に係る基板処理装置の概略構成を示すブロック図である。なお、上述した実施例1と同じ構成については、同符号を付すことで詳細な説明を省略する。
1 … 処理槽
3 … チャンバー
7 … 内槽
9 … 外槽
27 … 第1の供給排気口
29 … 第2の供給排気口
31 … 給排管
35,37,41,45,49 … 制御弁
hi … 高さ位置情報
53 … 制御部
55 … 第1保持部
57 … 第2保持部
59 … 第3保持部
d1,d2 … 間隔
g … 一定間隔
Claims (4)
- 基板を処理液で処理する基板処理装置において、
処理液を貯留する処理槽と、
前記処理槽内の処理位置と前記処理槽上方の待機位置とにわたって昇降する昇降機構と、
中央部の第1保持部と、前記第1保持部を挟んで一方側に配置された第2保持部と、他方側に配置された第3保持部とを有し、前記第1保持部、前記第2保持部及び前記第3保持部は、基板を保持するとともに、全て異なる高さに前記昇降機構に設けられている基板保持部と、
前記処理槽の上部において水平方向に乾燥気体を噴射し、かつ噴射方向を切り換え可能な噴射部と、
前記基板保持部が基板を保持した状態で、前記昇降機構が前記処理位置から前記待機位置へ上昇する際に、前記第2保持部及び前記第3保持部のうち高さ位置が低い保持部側にあたる第1方向から前記噴射部により乾燥気体を噴射させ、高さ位置が高い保持部が処理液の液面から離間した後、前記第1方向とは逆の第2方向から前記噴射部により乾燥気体を噴射させる制御部と、
を備えていることを特徴とする基板処理装置。 - 請求項1に記載の基板処理装置において、
前記基板保持部の高さ位置を検出する位置検出部をさらに備え、
前記制御部は、前記位置検出部からの出力に応じて前記噴射部からの乾燥気体の噴射方向を切り換えることを特徴とする基板処理装置。 - 請求項1に記載の基板処理装置において、
前記昇降機構が前記処理位置から上昇した時点から計時を行う計時部をさらに備え、
前記制御部は、前記計時部からの出力に応じて前記噴射部からの乾燥気体の噴射方向を切り換えることを特徴とする基板処理装置。 - 請求項1から3のいずれかに記載の基板処理装置において、
前記第1保持部、前記第2保持部及び前記第3保持部は、上下方向に互いに隙間があるように前記昇降機構に設けられていることを特徴とする基板処理装置。
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