KR102008310B1

KR102008310B1 - 기판처리장치

Info

Publication number: KR102008310B1
Application number: KR1020120095126A
Authority: KR
Inventors: 김대훈; 이택엽
Original assignee: 세메스 주식회사
Priority date: 2012-08-29
Filing date: 2012-08-29
Publication date: 2019-08-07
Also published as: KR20140028583A

Abstract

본 발명은 챔버의 내부를 배기하는 기판처리장치를 제공한다. 기판처리장치는 내부에 기판을 처리하는 공간을 제공하는 하우징, 상기 하우징 내에 배치되고, 기판을 지지하는 스핀헤드, 상기 스핀헤드에 지지된 기판으로 약액을 분사하는 분사유닛, 그리고 상기 공간에 음압을 제공하여 배기유닛을 포함하되 상기 배기유닛은 상기 하우징에 연결되는 배기관, 상기 배기관에 음압을 제공하는 배기부재, 상기 배기부재와 상기 하우징 사이에서 상기 배기관에 연결되는 연결관, 상기 연결관의 내부압력을 측정하는 센서, 그리고 상기 연결관에 설치되고, 상기 연결관으로 퍼지가스를 공급하는 퍼지가스공급부재를 포함한다. 이로 인해 연결관에 퍼지가스를 공급하여 연결관에 누적된 공정부산물을 제거할 수 있다.

Description

기판처리장치{Apparatus for treating substrate}

본 발명은 챔버의 내부를 배기하는 기판처리장치에 관한 것이다.

반도체소자 또는 액정 디스플레이를 제조하기 위해서, 기판에 포토리소그라피, 식각, 애싱, 박막 증착, 그리고 세정 등의 다양한 공정들이 수행된다. 이러한 공정들은 기판이 처리되는 챔버의 내부를 일정 압력으로 유지하고, 공정 중에 발생되는 공정부산물을 배기시킨다.

챔버(3)의 내부를 배기시키는 배기유닛(4)은 일반적으로 배기관(5)과 배기관(5)으로부터 분기되어 배기관(5)의 내부압력을 측정하는 연결관(6)을 가진다. 연결관(6)에는 센서(7)가 설치되고, 센서(7)는 연결관(6)의 압력을 측정하여 배기관(5) 및 챔버(3)의 내부 압력을 감지한다. 연결관(6)은 배기관(5)에 비해 작은 직경을 가진다.

이로 인해 연결관(^)에는 소량의 공정부산물이 부착될지라도, 센서(7)는 챔버(#)의 실제 압력보다 더 높은 압력을 측정하게 된다. 특히 황산을 이용한 세정공정에는 퓸이 자주 발생되며, 퓸은 연결관에 쉽게 부착된다.

본 발명은 공정부산물이 배기되는 과정에서 공정부산물이 연결관에 누적되는 것을 최소화하고자 한다.

본 발명의 실시예는 챔버의 내부를 배기하는 기판처리장치를 제공한다. 기판처리장치는 내부에 기판을 처리하는 공간을 제공하는 하우징, 상기 하우징 내에 배치되고, 기판을 지지하는 스핀헤드, 상기 스핀헤드에 지지된 기판으로 약액을 분사하는 분사유닛, 그리고 상기 공간에 음압을 제공하여 배기유닛을 포함하되 상기 배기유닛은 상기 하우징에 연결되는 배기관, 상기 배기관에 음압을 제공하는 배기부재, 상기 배기부재와 상기 하우징 사이에서 상기 배기관에 연결되는 연결관, 상기 연결관의 내부압력을 측정하는 센서, 그리고 상기 연결관에 설치되고, 상기 연결관으로 퍼지가스를 공급하는 퍼지가스공급부재를 포함한다.

상기 퍼지가스공급부재는 상기 연결관의 타단에 설치되고, 내부에 퍼지가스를 저장되는 가스저장부 및 상기 연결관에 설치되고, 상기 연결관을 개폐할 수 있다.

또한 본 발명의 다른 실시예에 따른 기판처리장치는 기파내부에 기판을 처리하는 공간을 제공하는 하우징, 상기 하우징 내에 배치되고, 기판을 지지하는 스핀헤드, 상기 스핀헤드에 지지된 기판으로 약액을 분사하는 분사유닛, 그리고 상기 공간에 음압을 제공하여 배기유닛을 포함하되 상기 배기유닛은 상기 하우징에 연결되는 배기관, 상기 배기관에 음압을 제공하는 배기부재, 상기 배기부재와 상기 하우징 사이에서 상기 배기관에 연결되고 끝단이 외부공간을 향하도록 개방된 연결관, 상기 연결관의 내부압력을 측정하는 센서, 그리고 상기 연결관에 설치되어 상기 연결관을 개폐하는 밸브를 포함한다.

상기 배기유닛은 상기 밸브를 제어하는 제어부를 더 포함하되 상기 제어부는 상기 밸브를 일정 간격으로 개방할 수 있다. 상기 배기유닛은 상기 연결관으로부터 분기되는 분기관을 더 포함하되 상기 센서는 상기 분기관에 설치될 수 있다. 상기 약액은 황산 또는 황산을 포함하는 혼합액일 수 있다.

본 발명의 실시예에 의하면, 연결관에 퍼지가스를 공급하여 연결관에 누적된 공정부산물을 제거할 수 있다.

또한 본 발명의 실시예에 의하면, 연결관과 이의 외부 압력 차를 이용하여 연결관에 누적된 공정부산물을 제거할 수 있다.

도1은 일반적인 배기부재를 보여주는 단면도이다.
도2는 본 발명의 실시예에 따른 기판처리설비를 보여주는 평면도이다.
도3은 도2의 기판처리장치를 보여주는 단면도이다.
도4는 도3의 배기유닛을 보여주는 단면도이다.
도5는 도4의 'A' 영역을 확대해 보여주는 단면도이다.
도6은 도3의 다른 실시예에 따른 배기유닛을 보여주는 단면도이다.

본 발명의 실시예는 여러 가지 형태로 변형될 수 있으며, 본 발명의 범위가 아래에서 서술하는 실시예로 인해 한정되어지는 것으로 해석되어서는 안된다. 본 실시예는 당업계에서 평균적인 지식을 가진 자에게 본 발명을 보다 완전하게 설명하기 위해서 제공되는 것이다. 따라서 도면에서의 구성 요소의 형상 등은 보다 명확한 설명을 강조하기 위해서 과장된 것이다.

이하, 도2 내지 도6을 참조하여 본 발명의 일 예를 상세히 설명한다.

도2는 본 발명의 실시예에 따른 기판처리설비를 보여주는 평면도이다. 도2를 참조하면, 기판처리설비(1)는 인덱스모듈(10)과 공정처리모듈(20)을 가진다. 인덱스모듈(10)은 로드포트(120) 및 이송프레임(140)을 가진다. 로드포트(120), 이송프레임(140), 그리고 공정처리모듈(20)은 순차적으로 일렬로 배열된다. 이하, 로드포트(120), 이송프레임(140), 그리고 공정처리모듈(20)이 배열된 방향을 제1방향(12)이라 하고, 상부에서 바라볼 때, 제1방향(12)과 수직한 방향을 제2방향(14)이라 하며, 제1방향(12)과 제2방향(14)을 포함한 평면에 수직인 방향을 제3방향(16)이라 칭한다.

로드포트(140)에는 기판(W)이 수납된 캐리어(130)가 안착된다. 로드포트(120)는 복수 개가 제공되며 이들은 제2방향(14)을 따라 일렬로 배치된다. 로드포트(120)의 개수는 공정처리모듈(20)의 공정효율 및 풋 프린트조건 등에 따라 증가하거나 감소할 수도 있다. 캐리어(130)에는 기판(W)들을 지면에 대해 수평하게 배치한 상태로 수납하기 위한 다수의 슬롯(미도시)이 형성된다. 캐리어(130)로는 전면개방일체형포드(Front Opening Unifed Pod;FOUP)가 사용될 수 있다.

공정처리모듈(20)은 버퍼유닛(220), 이송챔버(240), 그리고 공정챔버(260)를 가진다. 이송챔버(240)는 그 길이 방향이 제 1 방향(12)과 평행하게 배치된다. 이송챔버(240)의 양측에는 각각 공정챔버(260)들이 배치된다. 이송챔버(240)의 일측 및 타측에서 공정챔버(260)들은 이송챔버(240)를 기준으로 대칭되도록 제공된다. 이송챔버(240)의 일측에는 복수 개의 공정챔버(260)들이 제공된다. 공정챔버(260)들 중 일부는 이송챔버(240)의 길이 방향을 따라 배치된다. 또한, 공정챔버(260)들 중 일부는 서로 적층되게 배치된다. 즉, 이송챔버(240)의 일측에는 공정챔버(260)들이 A X B의 배열로 배치될 수 있다. 여기서 A는 제1방향(12)을 따라 일렬로 제공된 공정챔버(260)의 수이고, B는 제3방향(16)을 따라 일렬로 제공된 공정챔버(260)의 수이다. 이송챔버(240)의 일측에 공정챔버(260)가 4개 또는 6개 제공되는 경우, 공정챔버(260)들은 2 X 2 또는 3 X 2의 배열로 배치될 수 있다. 공정챔버(260)의 개수는 증가하거나 감소할 수도 있다. 상술한 바와 달리, 공정챔버(260)는 이송챔버(240)의 일측에만 제공될 수 있다. 또한, 공정챔버(260)는 이송챔버(240)의 일측 및 양측에 단층으로 제공될 수 있다.

버퍼유닛(220)은 이송프레임(140)과 이송챔버(240) 사이에 배치된다. 버퍼 유닛(220)은 이송챔버(240)와 이송프레임(140) 간에 기판(W)이 반송되기 전에 기판(W)이 머무르는 공간을 제공한다. 버퍼유닛(220)의 내부에는 기판(W)이 놓이는 슬롯(미도시)이 제공된다. 슬롯(미도시)들은 서로 간에 제3방향(16)을 따라 이격되도록 복수 개가 제공된다. 버퍼유닛(220)은 이송프레임(140)과 마주보는 면 및 이송챔버(240)와 마주보는 면이 개방된다.

이송프레임(140)은 로드포트(120)에 안착된 캐리어(130)와 버퍼유닛(220) 간에 기판(W)을 반송한다. 이송프레임(140)에는 인덱스레일(142)과 인덱스로봇(144)이 제공된다. 인덱스레일(142)은 그 길이 방향이 제2방향(14)과 나란하게 제공된다. 인덱스로봇(144)은 인덱스레일(142) 상에 설치되며, 인덱스레일(142)을 따라 제2방향(14)으로 직선 이동된다. 인덱스로봇(144)은 베이스(144a), 몸체(144b), 그리고 인덱스암(144c)을 가진다. 베이스(144a)는 인덱스레일(142)을 따라 이동 가능하도록 설치된다. 몸체(144b)는 베이스(144a)에 결합된다. 몸체(144b)는 베이스(144a) 상에서 제3방향(16)을 따라 이동 가능하도록 제공된다. 또한, 몸체(144b)는 베이스(144a) 상에서 회전 가능하도록 제공된다. 인덱스암(144c)은 몸체(144b)에 결합되고, 몸체(144b)에 대해 전진 및 후진 이동 가능하도록 제공된다. 인덱스암(144c)은 복수 개 제공되어 각각 개별 구동되도록 제공된다. 인덱스암(144c)들은 제3방향(16)을 따라 서로 이격된 상태로 적층되게 배치된다. 인덱스암(144c)들 중 일부는 공정처리모듈(20)에서 캐리어(130)로 기판(W)을 반송할 때 사용되고, 이의 다른 일부는 캐리어(130)에서 공정처리모듈(20)로 기판(W)을 반송할 때 사용될 수 있다. 이는 인덱스로봇(144)이 기판(W)을 반입 및 반출하는 과정에서 공정 처리 전의 기판(W)으로부터 발생된 파티클이 공정 처리 후의 기판(W)에 부착되는 것을 방지할 수 있다.

이송챔버(240)는 버퍼유닛(220)과 공정챔버(260) 간에, 그리고 공정챔버(260)들 간에 기판(W)을 반송한다. 이송챔버(240)에는 가이드레일(242)과 메인로봇(244)이 제공된다. 가이드레일(242)은 그 길이 방향이 제1방향(12)과 나란하도록 배치된다. 메인로봇(244)은 가이드레일(242) 상에 설치되고, 가이드레일(242) 상에서 제1방향(12)을 따라 직선 이동된다. 메인로봇(244)은 베이스(244a), 몸체(244b), 그리고 메인암(244c)을 가진다. 베이스(244a)는 가이드레일(242)을 따라 이동 가능하도록 설치된다. 몸체(244b)는 베이스(244a)에 결합된다. 몸체(244b)는 베이스(244a) 상에서 제3방향(16)을 따라 이동 가능하도록 제공된다. 또한, 몸체(244b)는 베이스(244a) 상에서 회전 가능하도록 제공된다. 메인암(244c)은 몸체(244b)에 결합되고, 이는 몸체(244b)에 대해 전진 및 후진 이동 가능하도록 제공된다. 메인암(244c)은 복수 개 제공되어 각각 개별 구동되도록 제공된다. 메인암(244c)들은 제3방향(16)을 따라 서로 이격된 상태로 적층되게 배치된다.

공정챔버(260) 내에는 기판(W)에 대해 세정 공정을 수행하는 기판처리장치(300)가 제공된다. 기판처리장치(300)는 수행하는 세정 공정의 종류에 따라 상이한 구조를 가질 수 있다. 이와 달리 각각의 공정챔버(260) 내의 기판 처리 장치(300)는 동일한 구조를 가질 수 있다. 선택적으로 공정챔버(260)들은 복수 개의 그룹으로 구분되어, 동일한 그룹에 속하는 공정챔버(260) 내에 기판처리장치(300)들은 서로 동일하고, 서로 상이한 그룹에 속하는 공정챔버(260) 내에 기판처리장치(300)의 구조는 서로 상이하게 제공될 수 있다.

도3은 도2의 기판처리장치를 보여주는 단면도이다. 도3을 참조하면, 기판처리장치(300)는 하우징(320), 스핀헤드(340), 승강유닛(360), 분사유닛(380), 그리고 배기유닛(500)을 포함한다. 하우징(320)은 기판처리공정이 수행되는 공간을 가지며, 그 상부는 개방된다. 하우징(320)은 내부회수통(322), 및 외부회수통(326)을 가진다. 각각의 회수통(322,326)은 공정에 사용된 약액 중 서로 상이한 약액을 회수한다. 내부회수통(322)은 스핀헤드(340)를 감싸는 환형의 링 형상으로 제공되고, 외부회수통(326)은 내부회수통(322)을 감싸는 환형의 링 형상으로 제공된다. 내부회수통(322)의 내측공간(322a) 및 내부회수통(322)과 외부회수통(326)의 사이공간(326a)은 각각 내부회수통(322) 및 외부회수통(326)으로 약액이 유입되는 유입구로서 기능한다. 각각의 회수통(322,326)에는 그 저면 아래 방향으로 수직하게 연장되는 회수라인(322b,326b)이 연결된다. 각각의 회수라인(322b,326b)은 각각의 회수통(322,326)을 통해 유입된 약액을 배출한다. 배출된 약액은 외부의 약액 재생시스템(미도시)을 통해 재사용될 수 있다.

스핀헤드(340)는 공정 진행 중 기판(W)을 지지하고 기판(W)을 회전시킨다. 스핀헤드(340)는 몸체(342), 지지핀(344), 척핀(346), 그리고 지지축(348)을 가진다. 몸체(342)는 상부에서 바라볼 때 대체로 원형으로 제공되는 상부면을 가진다. 몸체(342)의 저면에는 모터(349)에 의해 회전가능한 지지축(348)이 고정결합된다.

지지핀(344)은 복수 개 제공된다. 지지핀(344)은 몸체(342)의 상부면의 가장자리부에 소정 간격으로 이격되게 배치되고 몸체(342)에서 상부로 돌출된다. 지지 핀(344)들은 서로 간에 조합에 의해 전체적으로 환형의 링 형상을 가지도록 배치된다. 지지핀(344)은 몸체(342)의 상부면으로부터 기판(W)이 일정거리 이격되도록 기판(W)의 후면 가장자리를 지지한다.

척핀(346)은 복수 개 제공된다. 척핀(346)은 몸체(342)의 중심에서 지지핀(344)보다 멀리 떨어지게 배치된다. 척핀(346)은 몸체(342)에서 상부로 돌출되도록 제공된다. 척핀(346)은 스핀헤드(340)가 회전될 때 기판(W)이 정 위치에서 측 방향으로 이탈되지 않도록 기판(W)의 측부를 지지한다. 척핀(346)은 몸체(342)의 반경 방향을 따라 대기위치와 지지위치 간에 직선 이동이 가능하도록 제공된다. 대기위치는 지지위치에 비해 몸체(342)의 중심으로부터 멀리 떨어진 위치이다. 기판(W)이 스핀헤드(340)에 로딩 또는 언로딩 시 척핀(346)은 대기위치에 위치되고, 기판(W)에 대해 공정 수행 시 척 핀(346)은 지지위치에 위치된다. 지지위치에서 척핀(346)은 기판(W)의 측부와 접촉된다.

승강유닛(360)은 하우징(320)을 상하 방향으로 직선이동시킨다. 하우징(320)이 상하로 이동됨에 따라 스핀헤드(340)에 대한 하우징(320)의 상대 높이가 변경된다. 승강유닛(360)은 브라켓(362), 이동축(364), 그리고 구동기(366)를 가진다. 브라켓(362)은 하우징(320)의 외벽에 고정설치되고, 브라켓(362)에는 구동기(366)에 의해 상하 방향으로 이동되는 이동축(364)이 고정결합된다. 기판(W)이 스핀 헤드(340)에 놓이거나, 스핀헤드(340)로부터 들어올려 질 때 스핀헤드(340)가 하우징(320)의 상부로 돌출되도록 하우징(320)은 하강된다. 또한, 공정이 진행될 시에는 기판(W)에 공급된 약액의 종류에 따라 약액이 기설정된 회수통(360)으로 유입될 수 있도록 하우징(320)의 높이가 조절한다. 선택적으로, 승강유닛(360)은 스핀헤드(340)를 상하 방향으로 이동시킬 수 있다.

분사유닛은 기판 상으로 약액을 분사한다. 분사유닛은 지지축, 지지대, 그리고 노즐을 포함한다. 지지축은 하우징의 일측에 배치된다. 지지축은 그 길이방향이 상하방향으로 제공되는 로드 형상을 가진다. 지지축은 구동부재에 의해 회전 및 승강운동이 가능하다. 이와 달리 지지축은 구동 부재에 의해 수평방향으로 직선이동 및 승강운동할 수 있다. 지지대는 노즐을 지지한다. 지지대는 지지축에 결합되고, 끝단 저면에는 노즐이 고정 결합된다. 노즐은 지지축의 회전에 의해 스윙이동될 수 있다. 일 예에 의하면, 약액은 황산(H₂SO₄) 또는 황산(H₂SO₄)을 포함하는 혼합액일 수 있다.

배기유닛(500)은 하우징(320) 내에서 발생되는 공정부산물을 배기시키고, 하우징(320)의 내부압력을 일정하게 유지시킨다. 도4는 도3의 배기유닛을 보여주는 단면도이다. 도4를 참조하면, 배기유닛(500)은 배기관(510), 배기부재(520), 측정부재(600), 퍼지가스공급부재(575), 그리고 제어부(590)를 포함한다. 배기관(510)은 하우징(320)과 배기부재(520)를 연결한다. 배기관(510)의 일단은 외부회수통(328)의 바닥면에 연결된다. 배기관(510)의 일단은 외부회수통(328)의 바닥면으로부터 위로 돌출되게 제공된다. 배기관(510)의 타단에는 배기부재(520)가 설치된다. 배기부재(520)는 배기관(510)에 음압을 제공한다. 배기부재(520)로부터 제공된 음압은 배기관(510)을 통해 하우징(320)의 내부까지 제공될 수 있다. 이로 인해 하우징(320) 내에 발생된 공정부산물은 배기될 수 있다. 예컨대, 배기부재(520)는 펌프일 수 있다.

측정부재(600)는 하우징(320)의 내부 압력을 측정한다. 측정부재(600)는 배기관(510)의 내부압력을 측정하여 하우징(320)의 내부 압력을 도출한다. 측정부재(600)는 연결관(530), 분기관(550), 그리고 센서(560)를 포함한다.

연결관(530)은 배기관(510)에 연결된다. 연결관(530)은 배기관(510)에서 배기부재(520)보다 하우징(320)에 인접한 영역에 연결된다. 연결관(530)은 그 일부가 배기관(510)에 삽입 결합된다. 도5는 도4의 'A' 영역을 확대해 보여주는 단면도이다. 도5를 참조하면, 연결관(530)은 제1연결부(534)와 제2연결부(536)를 가진다. 제1연결부(534)는 배기관(510)의 내부에 위치된다. 제1연결부(534)는 배기관(510)과 연통되도록 제공된다. 제1연결부(534)는 제1영역(531)과 제2영역(532)을 가진다. 제1영역(531)은 연결관(530)의 일단을 포함하도록 제공된다. 제1영역(531)의 길이방향은 배기관(510)의 길이방향에 대해 조금 경사지도록 제공된다. 측부에서 바라볼때 제1영역(531)의 길이방향은 일단과 멀어질수록 상향경사게 제공된다. 제1영역(531)은 일단과 멀어지는 방향을 따라 그 직경이 점진적으로 좁아지고, 다시 커진다. 이는 제1영역(531)에 공정부산물이 연결관(530)에 1차 유입되는 것을 최소화할 수 있다.

제2영역(532)은 제1영역(531)으로부터 연장된다. 제2영역(532)은 그 길이방향이 제1영역(531)에 대해 경사지도록 제공된다. 일 예에 의하면. 제2영역(532)의 길이방향은 제1영역(531)에 대해 예각을 이룰 수 있다. 이 같이 제2영역(532)의 길이방향이 제1영역(531)에 대해 경사진 구조는 공정부산물이 연결관(530)에 2차 유입되는 것을 최소화할 수 있다.

제2연결부(536)는 배기관(510)의 외부에 위치된다. 제2연결부(536)는 연결관(530)의 타단을 포함하도록 제공된다. 제2연결부(536)는 제1연결부(534)의 제2영역(532)으로부터 연장된다. 제2연결부(536)는 제2영역(532)과 동일한 길이방향을 가지도록 제공된다.

분기관(550)은 제2연결부(536)로부터 분기된다. 분기되는 위치는 연결관(530)의 타단으로부터 조금 떨어진 위치일 수 있다. 분기관(550)에는 센서(560)가 설치된다.

퍼지가스공급부재(575)는 연결관(530)에 퍼지가스를 공급한다. 연결관(530)에 공급된 퍼지가스는 연결관(530) 내에 유입된 공정부산물을 배기관(510)으로 배출시킬 수 있다. 퍼지가스공급부재(575)는 분기관(550)이 분기되는 위치보다 연결관(530)의 타단과 인접하게 설치될 수 있다. 퍼지가스공급부재(575)는 가스저장부(580) 및 밸브(570)를 포함한다. 가스저장부(580)는 그 내부에 퍼지가스가 저장된다. 가스저장부(580)는 연결관(530)의 타단에 설치된다. 밸브(570)는 연결관(530)에서 이의 타단과 인접한 영역에 설치된다. 일 예에 의하면, 밸브(570)는 제2연결부(536)에서 분기관(550)이 분기되는 위치와 가스저장부(580) 사이에 설치될 수 있다. 밸브(570)는 연결관(530)을 개폐하여 퍼지가스의 공급을 조절할 수 있다. 예컨대 퍼지가스는 공정부산물과 반응하지 않는 가스일 수 있다. 퍼지가스는 질소가스(N₂)일 수 있다. 센서(560)는 연결관(530)에 직접 설치되지 않고, 분기관(550)에 설치됨으로써 퍼지가스의 영향을 최소화할 수 있다.

제어부(590)는 밸브(570)를 조절하여 퍼지가스의 공급을 제어한다. 제어부(590)는 연결관(530)이 일정 간격으로 개방되도록 밸브(570)를 조절한다. 일 예에 의하면, 제어부(590)는 기판의 처리 공정이 진행 시 밸브(570)를 닫고, 기판의 처리공정이 진행되지 않을 시 밸브(570)를 개방한다. 이로 인해 센서(560)가 퍼지가스로 인해 연결관(530)의 내부압력을 오측정하는 것을 최소화할 수 있다.

상술한 실시예에서는 연결관(530)에 가스저장부(580) 및 밸브(570)가 설치되어 연결관(530) 내에 유입된 공정부산물을 배출하는 것으로 설명하였다. 그러나 도6과 같이 연결관(530)에는 밸브(570a)만 제공될 수 있다. 이 경우, 연결관(530)의 타단은 외부공간을 향해 개방되도록 제공될 수 있다. 예컨대, 외부공간은 대기압 분위기일 수 있다. 제어부(590)는 밸브(570a)를 개폐하고, 연결관(530)과 외부공간 간의 압력차를 이용하여 연결관(530)으로 외부공간 내에 제공된 에어를 공급할 수 있다. 이는 연결관(530)의 내부압력이 외부공간에 비해 낮은 압력을 유지하므로, 밸브(570a)를 개방하여 외부공간에 제공된 에어를 연결관(530)으로 공급할 수 있다.

또한 실시예에는 세정공정에 사용되는 기판처리장치(300)를 예로 들어 설명하였다. 그러나 기판처리장치(300)는 세정공정뿐만 아니라, 공정이 진행되는 공간에 음압을 제공하는 공정이라면 적용 가능하다.

320: 하우징 340: 스핀헤드
380: 분사유닛 500; 배기유닛
510: 배기관 520: 배기부재
530: 연결관 560: 센서
575: 퍼지가스공급부재

Claims

내부에 기판을 처리하는 공간을 제공하는 하우징과;
상기 하우징 내에 배치되고, 기판을 지지하는 스핀헤드와;
상기 스핀헤드에 지지된 기판으로 약액을 분사하는 분사유닛과;
상기 공간에 음압을 제공하여 배기유닛을 포함하되,
상기 배기유닛은,
상기 하우징에 연결되는 배기관과;
상기 배기관에 음압을 제공하는 배기부재와;
상기 배기부재와 상기 하우징 사이에서 상기 배기관에 연결되는 연결관과;
상기 연결관의 내부압력을 측정하는 센서와;
상기 연결관에 설치되고, 상기 연결관으로 퍼지가스를 공급하는 퍼지가스공급부재와;
상기 연결관으로부터 분기되는 분기관을 포함하되;
상기 센서는 상기 분기관에 설치되는 기판처리장치.
제1항에 있어서,
상기 퍼지가스공급부재는,
상기 연결관의 타단에 설치되고, 내부에 퍼지가스를 저장되는 가스저장부와;
상기 연결관에 설치되고, 상기 연결관을 개폐하는 밸브인 기판처리장치.
내부에 기판을 처리하는 공간을 제공하는 하우징과;
상기 하우징 내에 배치되고, 기판을 지지하는 스핀헤드와;
상기 스핀헤드에 지지된 기판으로 약액을 분사하는 분사유닛과;
상기 공간에 음압을 제공하여 배기유닛을 포함하되,
상기 배기유닛은,
상기 하우징에 연결되는 배기관과;
상기 배기관에 음압을 제공하는 배기부재와;
상기 배기부재와 상기 하우징 사이에서 상기 배기관에 연결되고 끝단이 외부공간을 향하도록 개방된 연결관과;
상기 연결관의 내부압력을 측정하는 센서와;
상기 연결관에 설치되어 상기 연결관을 개폐하는 밸브와;
상기 연결관으로부터 분기되는 분기관을 포함하되;
상기 센서는 상기 분기관에 설치되는 기판처리장치.
제2항 또는 제3항에 있어서,
상기 배기유닛은,
상기 밸브를 제어하는 제어부를 더 포함하되,
상기 제어부는 상기 밸브를 일정 간격으로 개방하는 기판처리장치.
삭제
제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 약액은 황산 또는 황산을 포함하는 혼합액인 것을 특징으로 하는 기판처리장치.