JP4632692B2 - 表面被覆セラミック焼結体 - Google Patents

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Description

本発明は、表面被覆セラミック焼結体に関し、特に熱膨張係数の小さなセラミック基体に、剥離することなく熱膨張係数の大きなセラミックスをコーティングしてなる表面被覆セラミック焼結体に関するものである。
半導体製造装置用部品や機械工具等においてセラミックス表面に耐食性、耐磨耗性の高いセラミックスをコーティングする要求が高まってきている。半導体製造装置においてはハロンゲンプラズマに対する耐食性が要求され、機械工具においては耐磨耗性が要求されている。
このような耐食性セラミックコーティング又は耐磨耗性セラミックコーティングを実施するに当り、基体の表面に、基体よりも熱膨張係数の大きなセラミックスをコーティングすると、冷却時にコーティング表面に引張り応力が残留するため、表面コーティング層にクラックが発生し、最悪の場合には剥離するという問題があった。
そこで、これに対応するために、セラミック基体の熱膨張係数と表面コーティング層の熱膨張係数との中間の熱膨張係数を有する中間層を用いることが提案されている。(例えば、特許文献1、2参照)
特開平5−238859 特開2003−137676
しかしながら、特許文献1、2に記載のセラミックコーティングは、熱膨張係数がセラミック基体と表面コーティング層との中間であるため、クラックや剥離を防止することができるものの、熱膨張差に応じた応力が残留しているため、半導体製造プロセスのように昇温と冷却を頻繁に繰り返す工程や、機械工具のように摩擦のある時だけ工具温度が急激に上昇する工程等、温度変化の大きい環境下で繰り返し使用するとクラックが進展し、表面コーティング層が剥離するという問題があった。
したがって、本発明は、温度変化を繰り返しても表面層が剥離しにくい表面被覆セラミック焼結体を提供することを目的とするものである。
本発明は、セラミック基体と表面層との間に複数の中間層を設け、該中間層の熱膨張係数を制御することにより、表面層の密着性を高めるとともに、表面層にクラックが生じても剥離することなく、且つクラックの伸展を抑制することができるという新規な知見に基づくもので、その結果、温度変化を繰り返しても表面層が剥離しにくい表面被覆セラミック焼結体を実現することができる。
即ち、本発明の表面被覆セラミック焼結体は、セラミック基体の表面に、第一中間層と第二中間層とを介して前記セラミック基体よりも熱膨張係数の大きな表面層とがこの順に設けられてなり、前記第一中間層の熱膨張係数が、前記セラミック基体の熱膨張係数よりも大きく、且つ前記表面層の熱膨張係数よりも小さく、前記第二中間層が前記第一中間層よりも小さい熱膨張係数を有することを特徴とする。
このような中間層構造を採用することにより、中間層と基体との密着性を向上しつつ、表面層に発生したクラックの進展を抑制し、中間層や表面層の剥離を抑制することができ、耐食性や耐磨耗性に優れた表面被覆セラミック焼結体を実現することができる。
特に、前記セラミック基体と略同一の熱膨張係数を有する第三中間層が、前記セラミック基体と前記第一中間層との間に設けられてなることが好ましい。これにより、クラックが第一中間層を貫通しても、第一中間層と第三中間層との界面でクラックの伸展を効果的に防止し、セラミック基体にクラックが伸展するのを容易に防止することができるため、表面層の剥離をより効果的に抑制することができる。
前記第一中間層が前記第三中間層の主成分と、前記表面層の主成分との混合材料からなることが好ましい。また、前記第一中間層が、前記セラミック基体の主成分と、前記表面層の主成分との混合材料からなることが好ましい。これにより、基体と第一中間層との密着性を高め、剥離をより効果的に抑制できる。
前記第一中間層の熱膨張係数が、セラミック基体側から表面層側へ傾斜的に大きくなることが好ましい。これにより、セラミック基体と表面層との間の熱応力が緩和され、残留応力をより低減でき、剥離をさらに抑制する効果が期待できる。
前記第一中間層及び/又は前記第二中間層が、耐食性セラミックス又は耐摩耗性セラミックスからなることが好ましい。これにより、表面層にクラックが発生しても、耐食性や耐摩耗性を高く保つことができる。
前記表面層が、クラックを具備することが好ましい。これにより、表面層や中間層に発生する残留応力を低減し、剥離をより効果的に抑制することができる。
本発明を図を用いて説明する。図1は、本発明の表面被覆セラミック焼結体の構造を示す概略断面図である。
図1によれば、本発明の表面被覆セラミック焼結体1は、セラミック基体2の表面に、セラミック基体2よりも熱膨張係数の大きい表面層5が、中間層3を介して設けられてなるセラミックコーティングに関するものであり、中間層3が少なくとも第一中間層3aと第二中間層3bとを具備するものである。
第一中間層3aの熱膨張係数は、セラミック基体2の熱膨張係数よりも大きく、表面層5の熱膨張係数より小さい、換言すれば、セラミック基体2と表面層5との中間の熱膨張係数を有するとともに、第二中間層3bの熱膨張係数が、第一中間層3aよりも小さいことも重要である。
従って、セラミック基体2の熱膨張係数をα、第一中間層3aの熱膨張係数をα、第二中間層3bの熱膨張係数をα、表面層5の熱膨張係数をαとすれば、その大小関係は、α<α<α及びα<α<αとなる。なお、α、αの大小関係は略同一(±0.5×10−6/℃以内)であれば、特に制限されることはない。
このように、第一中間層3aの熱膨張係数αが、セラミック基体2の熱膨張係数αと表面層5の熱膨張係数αとの中間の熱膨張係数であるため、セラミック基体2と第一中間層3aとの間に発生する熱応力を、第一中間層3aが無い場合に比べて低減することができる。また、第二中間層3bの熱膨張係数αが、第一中間層3aの熱膨張係数αと表面層5の熱膨張係数αよりも小さいため、第二中間層3bは第一中間層3a及び表面層5の両側から圧縮応力を受けるため、クラックの伸展を阻むことができ、剥離を防止することができる。
また、剥離をさらに効果的に防止するため、第一中間層3aが傾斜材料であることが好ましい。即ち、第一中間層3aの熱膨張係数が、セラミック基体2から表面層5の方向
へ段階的に、又は連続的に大きくなる場合、セラミック基体2と表面層5との間の熱応力緩和が効果的に促進され、表面層5の剥離を抑制する効果が大きくなる。
第一中間層3aの熱膨張係数αは、セラミック基体2の熱膨張係数αと表面層5の熱膨張係数αとの間に設定されるが、特に中間値(α−α)/2付近に設定するのが好ましい。
第一中間層3aの厚みは、残留応力、剥離及び耐食性等の特性を考慮すると3〜50μm、特に5〜40μm、更には10〜30μmが好ましい。
第二中間層3bの熱膨張係数αは、セラミック基体2の熱膨張係数αに近いことが好ましく、具体的には、αとαの差が、±1.5×10−6/℃以内、特に±1.0×10−6/℃以内、更に±0.5×10−6/℃以内であるのが良い。これにより、第二中間層3bは、圧縮の残留応力が発生し、クラックの進展抑制に効果的である。
第二中間層3bは、セラミック基体2の主成分と、表面層5の主成分との混合材料であることが好ましい。これにより、密着性をさらに向上することができる。特に、セラミック基体2と第一中間層3a、第一中間層3aと第二中間層3b、第二中間層3bと表面層5との間でそれぞれ共通の元素を含むことが、層間の密着性をより高める効果がある。
第二中間層3bの厚みは、残留応力、剥離及び耐食性等の特性を考慮すると3〜50μm、特に5〜40μm、更には10〜30μmが好ましい。
図2は、本発明の他の表面被覆セラミック焼結体の構造を示す概略断面図である。なお、説明の簡略化のため、図1と共通部位は同じ番号を付与した。
図2によれば、本発明の表面被覆セラミック焼結体は、セラミック基体2と第一中間層3aとの間に第三中間層6を設け、第三中間層6の熱膨張係数αをセラミック基体2の熱膨張係数αと略同一にするのが良い。これによって、剥離を防止することが容易になる。特に、第三中間層6のヤング率Eをセラミック基体2のヤング率Eに比べて小さくすることで、その効果を十分に発揮することが容易になる。具体的には、EがEの1/2以下、特に1/3以下、更には1/4以下にするのが良い。
図2の構造を有する場合、第二中間層3bは、第三中間層6の主成分と、表面層5の主成分との混合材料であることが好ましい。これにより、密着性をより高めるために効果がある。
第三中間層6の厚みは、残留応力、剥離及び耐食性等の特性を考慮すると3〜70μm、特に5〜60μm、更には10〜50μmが好ましい。
セラミック基体2としては、窒化珪素、炭化珪素、アルミナ、窒化アルミニウム、ムライト、コージェライト、スピネル、YAG、ダイシリケート等の所望のセラミック焼結耐を用いることができる。これらの中でも、高強度構造材料として炭化珪素及び窒化珪素が、耐食性部材として窒化アルミニウム及びスピネル、YAGが、低熱膨張材料としてコージェライトが、低コスト材料としてアルミナが好適に用いられる。
表面層5は、希土類化合物やアルミナ、スピネル、YAG、MgO等の耐食性や耐磨耗性に優れるのみならず、所望の特性を有するセラミックスを採用することができる。
第一中間層3aや第二中間層3bが、耐食性セラミックス又は耐摩耗性セラミックスである場合、表面層にクラックが発生しても、耐食性や耐摩耗性を高く保つことができる。
特に、耐食性セラミックスから成る場合、腐食性プラズマ、ガス又は液体がクラックを介して内部に進入しても、第一中間層3aや第二中間層3bが耐食性セラミックスとすることで、腐食の防止効果がある。なお、第三中間層6を設けた場合、第三中間層6も同様の理由により、耐食性セラミックス又は耐摩耗性セラミックスであることが好ましい。
表面層5はセラミック基体2に対して熱膨張係数が大きいため、クラックを具備することによって、熱膨張係数差による残留応力が開放され、表面層5や中間層3に発生する残留応力を低減し、剥離をより効果的に抑制することができる。なお、本発明によれば、表面層5にクラックが発生していても、第二中間層3bや第三中間層6でクラックの伸展を抑制し、剥離を防止することができるのは言うまでもない。
セラミック基体として、窒化珪素、炭化珪素、窒化アルミニウムの各焼結体を準備した。これらのセラミック基体を、縦4mm、横40mm、厚み3mmの形状に加工した。
まず、所望により第三中間層を形成した。原料として、YSi粉末、ErSi粉末、YbSi粉末及びLuSi粉末を準備した。これらの希土類酸化物に水、バインダー(PVA)を添加して酸化ジルコニウムボールを用いて24時間回転ミルで混合し、スラリーを作製した。このスラリーをスプレーガンでセラミック基体表面に吹き付けて塗布し、乾燥後に表1に示す温度条件で1時間熱処理を行って第三中間層を形成した。
次に、第一中間層を形成した。原料として、セラミック基体と表面層との混合物、又は第三中間層と表面層との混合粉末を準備した。この混合粉末に水、バインダー(PVA)を添加して酸化ジルコニウムボールを用いて24時間回転ミルで混合し、スラリーを作製した。このスラリーをスプレーガンでセラミック基体表面に吹き付けて塗布し、乾燥後に表1に示す温度条件で1時間熱処理を行って第一中間層を形成した。
次いで、第二中間層を形成した。原料として、YSi粉末、ErSi粉末、YbSi粉末及びLuSi粉末を準備した。これらの希土類酸化物に水、バインダー(PVA)を添加して酸化ジルコニウムボールを用いて24時間回転ミルで混合し、スラリーを作製した。このスラリーをスプレーガンでセラミック基体表面に吹き付けて塗布し、乾燥後に表1に示す温度条件で1時間熱処理を行って第ニ中間層を形成した。
さらに、表面層として熱膨張係数の大きなアルミナ、イットリア、YAG、スピネルを準備した。これらの粉末に水、バインダー(PVA)を添加して酸化ジルコニウムボールを用いて24時間回転ミルで混合し、スラリーを作製した。このスラリーをスプレーガンでセラミック基体表面に吹き付けて塗布し、乾燥後に表1に示す温度条件で1時間熱処理を行って第一中間層を形成した。
なお、試料No.2は、スパッタ法により第一中間層、第二中間層及び表面層を形成した。第一中間層は、SiとYとの混合物をターゲットとして、300℃にてSiとYとの5μmの混合膜を形成した。第二中間層はYbSiをターゲットとして、同様に5μmの薄膜を作製した。さらに、表面層は、Ybをターゲットとして、同様に5μmの薄膜を作製した。
作製した表面被覆セラミック焼結体の評価は、熱衝撃性試験で剥離の有無を観察した。熱衝撃性試験は、1000℃と200℃との温度変化を繰り返し加えるもので、この熱サイクル試験を1000サイクル行った。100サイクル毎に表面層にクラックがあるかどうか蛍光探傷液浸透法を用いて観察した。そして、400〜500回目にクラックが観察された場合には、500と記載し、1000回でも剥離が発生しなかったものには○とした。結果を表1に示す。
Figure 0004632692
まず、本発明の試料No.1〜13は、熱衝撃試験において、少なくとも500サイクルまでは被覆層のクラックも剥離も無く、特に試料No.2、5〜9、11及び13は1000回でも剥離が観察されず、耐熱衝撃性に優れていることがわかる。
また、中間層2を有していない本発明の範囲外の試料No.14〜18はいずれも200サイクル以下の熱衝撃試験で被覆層にクラックが生じ、これが進展してセラミックコーティング層が剥離した。
本発明は、半導体製造装置用部品の耐食性部材や耐プラズマ性部材、機械工具等の耐磨耗性セラミックコーティング部材、その他の耐食性部材や外部応力が加わる部材に好適であるが、これらに限らず、剥離防止セラミック基体の表面にセラミックスをコーティングするものに広く適応することができる。
本発明の表面被覆セラミック焼結体の構造を示す概略断面図である。 本発明の他の表面被覆セラミック焼結体の構造を示す概略断面図である。
符号の説明
1・・・表面被覆セラミック焼結体
2・・・セラミック基体
3・・・第一中間層
4・・・第ニ中間層
5・・・表面層
6・・・第三中間層

Claims (7)

  1. セラミック基体の表面に、第一中間層と、第二中間層と、前記セラミック基体よりも熱膨張係数の大きな表面層とがこの順に設けられてなり、前記第一中間層の熱膨張係数が、前記セラミック基体の熱膨張係数よりも大きく、且つ前記表面層の熱膨張係数よりも小さく、前記第二中間層が前記第一中間層よりも小さい熱膨張係数を有することを特徴とする表面被覆セラミック焼結体。
  2. 前記セラミック基体と略同一の熱膨張係数を有する第三中間層が、前記セラミック基体と前記第一中間層との間に設けられてなることを特徴とする請求項1記載の表面被覆セラミック焼結体。
  3. 前記第一中間層が前記第三中間層の主成分と、前記表面層の主成分との混合材料からなることを特徴とする請求項2記載の表面被覆セラミック焼結体。
  4. 前記第一中間層が、前記セラミック基体の主成分と、前記表面層の主成分との混合材料からなることを特徴とする請求項1又は2記載の表面被覆セラミック焼結体。
  5. 前記第一中間層の熱膨張係数が、セラミック基体側から表面層側へ傾斜的に大きくなることを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載の表面被覆セラミック焼結体。
  6. 前記第一中間層及び/又は前記第二中間層が、耐食性セラミックス又は摩耗性セラミックスからなることを特徴とする請求項1〜5のいずれかに記載の表面被覆セラミック焼結体。
  7. 前記表面層が、クラックを具備することを特徴とする請求項1〜6のいずれかに記載の表面被覆セラミック焼結体。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4681841B2 (ja) * 2004-06-18 2011-05-11 京セラ株式会社 耐食性窒化珪素セラミックス
JP4681851B2 (ja) * 2004-10-28 2011-05-11 京セラ株式会社 耐食性ガスタービン用セラミック部品
JP4832043B2 (ja) * 2005-09-27 2011-12-07 京セラ株式会社 表面被覆セラミック焼結体
US7595114B2 (en) * 2005-12-09 2009-09-29 General Electric Company Environmental barrier coating for a component and method for fabricating the same
JP4763452B2 (ja) * 2005-12-28 2011-08-31 京セラ株式会社 表面被覆セラミック焼結体
US9440886B2 (en) 2013-11-12 2016-09-13 Applied Materials, Inc. Rare-earth oxide based monolithic chamber material
JP6067166B1 (ja) * 2016-05-13 2017-01-25 三菱日立パワーシステムズ株式会社 コーティング構造、これを有するタービン部品及びコーティング構造の製造方法

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH05238859A (ja) * 1992-02-28 1993-09-17 Tokyo Electric Power Co Inc:The セラミックコーティング部材
JPH07277791A (ja) * 1994-03-31 1995-10-24 Tdk Corp 絶縁基板用セラミック組成物およびセラミック多層配線回路板
JP2000264746A (ja) * 1999-03-12 2000-09-26 Toshiba Corp 積層セラミックスの製造方法
JP2003137676A (ja) * 2001-10-26 2003-05-14 National Institute Of Advanced Industrial & Technology セラミックス粉末及び金属粉末を用いた傾斜組織コーティング複合材料及びその作製方法

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH05238859A (ja) * 1992-02-28 1993-09-17 Tokyo Electric Power Co Inc:The セラミックコーティング部材
JPH07277791A (ja) * 1994-03-31 1995-10-24 Tdk Corp 絶縁基板用セラミック組成物およびセラミック多層配線回路板
JP2000264746A (ja) * 1999-03-12 2000-09-26 Toshiba Corp 積層セラミックスの製造方法
JP2003137676A (ja) * 2001-10-26 2003-05-14 National Institute Of Advanced Industrial & Technology セラミックス粉末及び金属粉末を用いた傾斜組織コーティング複合材料及びその作製方法

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