JP4625235B2 - 腐蝕性ガスの精製方法 - Google Patents
腐蝕性ガスの精製方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4625235B2 JP4625235B2 JP2002577080A JP2002577080A JP4625235B2 JP 4625235 B2 JP4625235 B2 JP 4625235B2 JP 2002577080 A JP2002577080 A JP 2002577080A JP 2002577080 A JP2002577080 A JP 2002577080A JP 4625235 B2 JP4625235 B2 JP 4625235B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- gas
- impurities
- membrane
- organic
- absorbent
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Images
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D53/00—Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols
- B01D53/14—Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols by absorption
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D53/00—Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols
- B01D53/14—Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols by absorption
- B01D53/1418—Recovery of products
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D53/00—Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols
- B01D53/22—Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols by diffusion
- B01D53/229—Integrated processes (Diffusion and at least one other process, e.g. adsorption, absorption)
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B7/00—Halogens; Halogen acids
- C01B7/01—Chlorine; Hydrogen chloride
- C01B7/07—Purification ; Separation
- C01B7/0706—Purification ; Separation of hydrogen chloride
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B7/00—Halogens; Halogen acids
- C01B7/19—Fluorine; Hydrogen fluoride
- C01B7/191—Hydrogen fluoride
- C01B7/195—Separation; Purification
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01C—AMMONIA; CYANOGEN; COMPOUNDS THEREOF
- C01C1/00—Ammonia; Compounds thereof
- C01C1/02—Preparation, purification or separation of ammonia
- C01C1/024—Purification
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Oil, Petroleum & Natural Gas (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Separation Using Semi-Permeable Membranes (AREA)
- Gas Separation By Absorption (AREA)
Description
a) 液体状態の化学物質が蒸発器内でガス状態に転換され、
b) 得られたガス相から粗微粒子不純物及び一部エーロゾル状態の不純物がプレフィルター(前濾過器)により除去され、後者の不純物が集合タンク(7)に供給されており、
c) 圧力を2〜8バール、好ましくは3〜8バール範囲内の値に設定し、同時に温度を20〜50℃範囲内の値に低下させることにより、ガス流中に存在する有機不純物がさらに堆積し、
d) この方法で予備精製されたガス流が、細孔サイズが順次減少する直列に連結された2つ以上の限外濾過器に通され、ガス相中に存在する超微細粒子が膜手段によって除去されて、
e) 依然として存在する有機不純物は有機物セパレータによって分離されて集合タンク(7)に供給され、
f) 精製しようとするガスと容易に混合し、>50ダインの表面張力を有する吸収剤が飽和タンクによってガス流に供給され、
g) ガス流が膜濾過にかけられ、ここで吸収剤が除去され、続いて音速測定によってその濃度がモニター及び制御され、混合器中で絶えず循環している溶液中に供給される。
1.特別なセパレータを使用して原ガス中の有機不純物の除去。
2.好適な界面層をつくり上げるため特定の吸収剤によるガス流のシーディング。
3.液体フィルムによる揮発性酸、例えば塩化物や硝酸塩などのアニオン性不純物、金属イオン又は低揮発性塩などの微量不純物、又はガス状の他の不純物の除去。
4.精製が実施された後、疎水性の膜による汚染液の除去。
5.高純度のppt以下の溶液を製造するためのプラントの調節。
6.他のプロセスパラメータ(圧力、温度及び流量)の組合せコントロールとともに、特殊な管状プローブ中の音波転換器(sonic converter)による濃度測定。
(2) プレフィルター
(3) 圧力制御
(4) 熱交換器
(5) 限外濾過器
(6) 有機物セパレータ
(7) 集合タンク
(8) 圧力タンク
(9) 飽和タンク
(10) 膜(濾過工程)
(11) コンデンセートタンク
(12) ガススクラバー
(13) タンク
(14) 混合器
(15) 緩衡タンク
(16) 熱交換器
(17) 貯蔵タンク
Claims (11)
- 腐蝕性ガスから、微細微粒子の、金属の、無機イオンの、有機イオンの、さらにまた有機非イオンの不純物、及び微量に存在する塩又は油を分離するための連続方法であって、
該ガスが、1つ以上のプロセス工程において、該ガスと容易に混合でき、該ガス中に存在する不純物が容易に溶解する吸収剤で富化させられ、該吸収剤で富化されたガスが続いて膜を用いた濾過にかけられ、その際、該濾過されるべきガス中の吸収剤は、該膜の表面上で該吸収剤の液体フィルムを形成し、該液体フィルムは該濾過されるべきガスから分離された不純物を含み、該濾過されるべきガスは該液体フィルム及び該膜を通過して精製されたガス流となって流れ、更に該膜上の該不純物で富化された吸収剤が連続的に取出されることを特徴とする、前記の連続方法。 - 以下の工程a)〜h)を特徴とする、腐蝕性ガスから微細微粒子、金属の、無機イオンの、有機イオンの、さらにまた有機非イオンの不純物、及び微量存在する塩又は油を分離するための請求項1記載の連続方法:
a)液体状態の化学物質が蒸発器中でガス状態に転化され、
b)得られたガス相から濾過手段により粗微粒子不純物および部分的にエーロゾル状態にある不純物とが除去され、該部分的にエーロゾル状態にある不純物は集合タンクに供給され、
c)前記不純物が除去されたガス相の圧力を2〜8バールの範囲の値に設定し、同時に温度を20〜50℃範囲の値に下げることにより、さらにガス流中に存在する有機不純物が沈積し、
d)このようにして予備精製されたガス流が、順次減少する細孔サイズを有する直列に連結された2つ以上の限外濾過器に通され、ガス相中に存在する超微細粒子が膜手段によって除去され、
e)前記ガス相になお残留している有機不純物が有機物セパレーターによって分離されて集合タンクに供給され、
f)界面張力が50ダインを超える吸収剤が、前記有機物セパレーターによる有機不純物の分離後のガスの流れに飽和タンクを通して供給されて該吸収剤で富化されたガス流が形成され、その際、該吸収剤は精製しようとする該ガスと容易に混合でき、該ガス中に存在する不純物が容易に溶解するものであり、
g)こうして前記吸収剤で富化された少なくとも1つのガス流が、少なくとも1つの膜による濾過にかけられ、その際、該濾過されるべきガス中の吸収剤は、該膜の表面上で該吸収剤の液体フィルムを形成し、該液体フィルムは該濾過されるべきガスから分離された不純物を含み、該濾過されるべきガスは該液体フィルム及び該膜を通過して精製されたガス流となって流れ、更に該膜上の該不純物で富化された吸収剤が連続的に取出され、
h)続いて、こうして得られた精製されたガス流が、音速測定手段によりその濃度がモニター及び制御され混合器中で絶えず循環している溶液中に供給されて混合され、該ガスが飽和した溶液が調製される。 - 前記圧力を3〜8バール範囲の値に設定する請求項2に記載の連続方法。
- 前記液体状態にある化学物質が、アンモニア、弗化水素及び塩酸からなる群から選ばれる化学物質であることを特徴とする、請求項2または3に記載の方法。
- 有機物セパレーターにおいて、低沸点不純物がガス状又は蒸気混合物の状態となり、高沸点不純物が凝縮油又はエーロゾルの状態となるように圧力と温度を設定することにより低沸点及び高沸点有機不純物が多相混合物から分離され、続いて適当な膜手段によって分離されることを特徴とする、請求項2または3記載の方法。
- 圧力を1〜6バール範囲の値に設定するための減圧器が有機物セパレーターの下流に設置されることを特徴とする、請求項2または3記載の方法。
- 超微細微粒子、金属の、無機イオンの、有機イオンの、さらにまた有機非イオンの不純物,及び微量に存在する塩又は油を除去するための工程g)において、疎水性の担体物質を含む膜が使用されることを特徴とする、請求項2または3に記載の方法。
- 使用される吸収剤が超高純度水であることを特徴とする、請求項1乃至3のいずれかに記載の方法。
- ガススクラバーが工程g)の膜濾過の下流に設置されることを特徴とする、請求項2または3記載の方法。
- 前記工程g)のガス流が複数の入口管を有する混合器中に供給され、混合器内で溶液が循環され、溶解時に生成した発熱がループ又は1つ以上の熱交換器で発散されることを特徴とする、請求項2または3記載の方法。
- 前記工程h)において混合器中で絶えず循環している溶液に溶解した精製ガスの濃度が、該溶液の温度の正確な測定とともに音速測定によってモニターされ制御されることを特徴とする、請求項2または3記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE10115345A DE10115345A1 (de) | 2001-03-28 | 2001-03-28 | Verfahren zur Aufreinigung von korrosiv wirkenden Gasen |
PCT/EP2002/002295 WO2002078820A1 (de) | 2001-03-28 | 2002-03-04 | Verfahren zur aufreinigung von korrosiv wirkenden gasen |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2004531376A JP2004531376A (ja) | 2004-10-14 |
JP4625235B2 true JP4625235B2 (ja) | 2011-02-02 |
Family
ID=7679424
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2002577080A Expired - Lifetime JP4625235B2 (ja) | 2001-03-28 | 2002-03-04 | 腐蝕性ガスの精製方法 |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7108737B2 (ja) |
EP (1) | EP1372823B1 (ja) |
JP (1) | JP4625235B2 (ja) |
KR (1) | KR100856187B1 (ja) |
DE (1) | DE10115345A1 (ja) |
TW (1) | TW592787B (ja) |
WO (1) | WO2002078820A1 (ja) |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4280782B2 (ja) * | 2007-04-10 | 2009-06-17 | 東京エレクトロン株式会社 | 半導体製造装置のガス供給システム |
US20120247327A1 (en) * | 2010-09-27 | 2012-10-04 | Conocophillips Company | Hollow-fiber membrane contactors |
JP6900274B2 (ja) * | 2017-08-16 | 2021-07-07 | 株式会社Screenホールディングス | 薬液供給装置、基板処理装置、薬液供給方法、および基板処理方法 |
CN109260902B (zh) * | 2018-10-17 | 2021-03-19 | 浙江天采云集科技股份有限公司 | Led-mocvd制程尾气膜与吸附耦合提氨再利用的方法 |
TWI717295B (zh) * | 2020-06-24 | 2021-01-21 | 陳義平 | 電子級氫氟酸製造系統及利用該系統製造電子級氫氟酸之方法 |
Family Cites Families (18)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3967941A (en) * | 1971-10-05 | 1976-07-06 | Okamura Manufacturing Company Limited | Exhaust gas liquid contactor |
JPS5358975A (en) * | 1976-11-09 | 1978-05-27 | Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd | Gas separator |
JPS6118419A (ja) * | 1984-07-05 | 1986-01-27 | Agency Of Ind Science & Technol | 気体の選択透過方法 |
JPS62105903A (ja) * | 1985-11-05 | 1987-05-16 | Komatsu Ltd | 酸素濃縮方法 |
US4781910A (en) * | 1986-04-17 | 1988-11-01 | W. Bruce Smith And Butler & Binion | Hydrogen sulfide removal and sulfur recovery |
US4772295A (en) * | 1986-05-27 | 1988-09-20 | Nippon Kokan Kabushiki Kaisha | Method for recovering hydrocarbon vapor |
SE8705105D0 (sv) * | 1987-12-21 | 1987-12-21 | Katrineholms Tekniska Skola | Energiskrubber |
US5196616A (en) * | 1991-10-18 | 1993-03-23 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Process for separating and recovering fluorocarbons and hydrogen fluoride from mixtures thereof |
US6350425B2 (en) * | 1994-01-07 | 2002-02-26 | Air Liquide America Corporation | On-site generation of ultra-high-purity buffered-HF and ammonium fluoride |
WO1996039266A1 (en) * | 1995-06-05 | 1996-12-12 | Startec Ventures, Inc. | On-site generation of ultra-high-purity buffered-hf for semiconductor processing |
US5722442A (en) * | 1994-01-07 | 1998-03-03 | Startec Ventures, Inc. | On-site generation of ultra-high-purity buffered-HF for semiconductor processing |
NL9401233A (nl) * | 1994-03-25 | 1995-11-01 | Tno | Werkwijze voor membraangasabsorptie. |
US6165253A (en) * | 1994-05-23 | 2000-12-26 | New Jersey Institute Of Technology | Apparatus for removal of volatile organic compounds from gaseous mixtures |
DE19533407C1 (de) * | 1995-09-09 | 1997-02-06 | Dornier Gmbh | Verfahren und Vorrichtung zur Abtrennung von Kohlendioxid |
US5753009A (en) * | 1996-05-14 | 1998-05-19 | New Jersey Institute Of Technology | Method and apparatus for selectively removing a component from a multicomponent gas/vapor mixture |
NO302454B1 (no) * | 1996-07-31 | 1998-03-09 | Kvaerner Asa | Fremgangsmåte til fjerning av karbondioksid fra gasser |
NL1006013C2 (nl) * | 1997-05-09 | 1998-11-10 | Tno | Inrichting en werkwijze voor het uitvoeren van membraan-gas/vloeistofabsorptie bij verhoogde druk. |
ZA200003123B (en) * | 1999-06-29 | 2001-01-24 | Boc Group Inc | Ammonia purification method. |
-
2001
- 2001-03-28 DE DE10115345A patent/DE10115345A1/de not_active Withdrawn
-
2002
- 2002-03-04 EP EP02718170.0A patent/EP1372823B1/de not_active Expired - Lifetime
- 2002-03-04 US US10/472,846 patent/US7108737B2/en not_active Expired - Lifetime
- 2002-03-04 JP JP2002577080A patent/JP4625235B2/ja not_active Expired - Lifetime
- 2002-03-04 KR KR1020037012559A patent/KR100856187B1/ko active IP Right Grant
- 2002-03-04 WO PCT/EP2002/002295 patent/WO2002078820A1/de active Application Filing
- 2002-03-22 TW TW091105649A patent/TW592787B/zh not_active IP Right Cessation
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE10115345A1 (de) | 2002-10-02 |
JP2004531376A (ja) | 2004-10-14 |
TW592787B (en) | 2004-06-21 |
EP1372823A1 (de) | 2004-01-02 |
KR20040010614A (ko) | 2004-01-31 |
WO2002078820A1 (de) | 2002-10-10 |
US7108737B2 (en) | 2006-09-19 |
US20040089152A1 (en) | 2004-05-13 |
EP1372823B1 (de) | 2014-05-21 |
KR100856187B1 (ko) | 2008-09-03 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US5755934A (en) | Point-of-use ammonia purification for electronic component manufacture | |
CN107108294B (zh) | 脱盐水处理系统中的选择性结垢及相关方法 | |
Wang et al. | Removal of H2S to ultra-low concentrations using an asymmetric hollow fibre membrane module | |
JP4718077B2 (ja) | 高純度の塩酸の製造 | |
JP3351770B2 (ja) | 複数の作業部位を含む半導体製造ラインに超高純度液体化学薬品を提供する方法 | |
EP0831978B1 (en) | On-site ammonia purification for semiconductor manufacture | |
JP2005506694A (ja) | 中央二酸化炭素精製器 | |
TWI271383B (en) | System for supply and delivery of carbon dioxide with different purity requirements | |
JPH11506431A (ja) | イソプロピルアルコールの無水化及び純粋化 | |
JP4625235B2 (ja) | 腐蝕性ガスの精製方法 | |
US5846386A (en) | On-site ammonia purification for semiconductor manufacture | |
JPH11506411A (ja) | 電子部品製造の場合の使用現場でのアンモニアの精製 | |
JP2001527697A (ja) | 半導体プロセス用超高純度バッファードhfのオンサイト生成 | |
JP5930921B2 (ja) | アルコールの精製方法及び装置 | |
JP2013095629A (ja) | フッ酸回収方法及びフッ酸回収装置 | |
US6372022B1 (en) | Ionic purifier | |
CN105174233B (zh) | 一种超净高纯硫酸的生产方法 | |
JPH10272333A (ja) | ガス精製方法、空気浄化方法、及びそれらの装置 | |
KR102029955B1 (ko) | 과산화수소 수용액의 증발잔분 제거 방법 및 정제 방법 | |
KR102051841B1 (ko) | 과산화수소 수용액의 정제 방법 | |
US7175696B2 (en) | Method and apparatus for corrosive gas purification | |
US20040038803A1 (en) | Adsorbent for removing water vapor during corrosive gas purification and method for preparing the adsorbent | |
WO2022241690A1 (en) | Processes for purifying organic amines | |
JPS6019003A (ja) | 膜モジユ−ルの運転方法 | |
JP2021191566A (ja) | 純水製造方法及び製造装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20050223 |
|
A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A711 Effective date: 20060525 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20080813 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20081112 |
|
A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20081119 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20090113 |
|
A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20090120 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20090213 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100511 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20100811 |
|
A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20100818 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100820 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20101006 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20101105 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4625235 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131112 Year of fee payment: 3 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
EXPY | Cancellation because of completion of term |