JP4617143B2 - 露光装置及び自己洗浄方法 - Google Patents
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Description
即ち、前記特許文献1では、フィルタと露光マスクに代えて紫外線フィルタを光路に位置させているので、光洗浄用の紫外線は、通常の露光時の光路と同じ経路で同じ箇所に照射される。このため、通常の露光経路以外の箇所に付着した汚染物質を洗浄することができず、残留した汚染物質が露光光路に移動して悪影響を与えることがあった。
(1) 通常の露光時には、露光マスクを装着する原板ホルダに対し、光学系の洗浄時には、露光マスクに代えて、露光マスクと同一寸法の平坦な周辺部を有する自己洗浄用の反射板を装着するように構成したので、光学系の洗浄のための特別の部材を必要としない。このため、露光装置の構造が簡単になるという効果がある。
(2) 反射板は、周辺部の内側において、表面側と裏面側とに形状の異なる反射面が形成されており、洗浄時において、反射板の表面側又は裏面側を光学系に対向するように反射板を原板ホルダに装着することができる。例えば、表面側が凸面鏡を形成しており、裏面側が凹面鏡を形成している反射板において、表面側を光学系に対向するように反射板を原板ホルダに装着したときには、反射板に照射された光線は、外側に拡散するので、通常の露光では光線が照射されない箇所にも洗浄用の光線を照射することができる。また、反射板を裏返して、裏面側を光学系に対向するように装着すると、反射板に照射された光線は、光学系の中心部に集中して照射されるので、通常の露光処理において最も影響のある光学系の中心部を洗浄することができる。
このように、反射板を単に裏返す操作により、光学系の中心部及び周辺部の洗浄が簡便に可能となるという効果がある。
通常の露光時には、原板ホルダ6に、所定の回路パターンが形成された露光マスクをセットすると共に、ステージ8上に半導体ウエハWを載置し、光源1から紫外線を出力する。これにより、光源1から出力された光線は、ビーム整形光学系2、光源側光学系3、ミラー4及びコンデンサレンズ5によって、均一な平行光線となって露光マスクに照射される。更に、露光マスクを透過した紫外線は、平行光線のまま投影レンズ7に入射される。
また、ミラー30は平面鏡であるが、凹面鏡や凸面鏡を用いることもできる。
(1) 実施例1〜6で用いる反射板の反射膜は、Crの他、Ti,Ta,Co,Hf,W,Al,Cu,Mo等の金属、またはこれらの金属の酸化物、窒化物、フッ化物、シリコン化合物を用い、鍍金、蒸着、スパッタ等によってコーティングして形成することができる。また、反射膜は単層構造に限らず、多層構造にすることもできる。
(2) 実施例5では、反射膜として一部の光線が反射し、残りの光線が透過するものを用いているが、同様の反射膜を実施例2〜4の反射板に用いることができる。
(3) 実施例7〜9では、光源1からコンデンサレンズ5までの間の光路に配置されたハーフミラーによって紫外線の一部を取り出しているが、自己洗浄時にミラーを光路に挿入できるような可動構造にすれば、全反射ミラーを使用することができる。
(4) 実施例7〜9では、光源1から出力される紫外線の一部を洗浄用の紫外線として導くために光ファイバを用いていているが、光ファイバを用いずに、ミラーやレンズによる光路を用いても良い。
(5) 実施例7〜9では、光源1から出力される紫外線の一部を洗浄用の光として、ハーフミラーと光ファイバで取り出しているが、洗浄用の紫外線を出力する別の光源を用意しても良い。
2 ビーム整形光学系
3 光源側光学系
4,30 ミラー
5 コンデンサレンズ
6 原板ホルダ
7 投影レンズ
8,8A ステージ
8h 開口部
8l,23 照射レンズ
10,10A,10B,10C,10D,16 反射板
11 ハンドリング部
12,13 レンズ部
12R,12HR,13R,14R,15R 反射膜
14,15 フレネルレンズ
21 ハーフミラー
22 光ファイバ
40 光射出部
Claims (5)
- 露光用の光線を出力する光源と、
前記光源から所定距離を隔てた位置に配置され、通常の露光時には、露光パターンが形成された平坦な板状をなす露光マスクが着脱自在に装着され、洗浄時には、前記露光マスクに代えて、前記露光マスクと同一寸法の平坦な周辺部を有し、且つ表面側及び裏面側の両面が使用可能な自己洗浄用の反射板が、着脱自在に装着される原板ホルダと、
前記光源と前記原板ホルダとの間に配置され、前記光源から出力された前記光線を前記露光マスクまたは前記反射板に導く光学系と、
前記露光パターンを被処理物に投影する投影レンズと、
を備えた露光装置であって、
前記反射板は、前記周辺部の内側において前記表面側と前記裏面側とに形状の異なる反射面が形成され、前記光学系で導かれた前記光線を前記表面側または前記裏面側の前記反射面で反射させて前記光学系に照射する構造になっていることを特徴とする露光装置。 - 前記反射板は、前記表面側にレンズ状の凸部を有する石英ガラス板、または前記表面側に輪帯状の凸レンズを同心円状に配置した石英ガラス板のレンズ面に反射膜をコーティングして構成したことを特徴とする請求項1記載の露光装置。
- 前記反射板は、前記表面側にレンズ状の凹部を有する石英ガラス板、または前記表面側に輪帯状の凹レンズを同心円状に配置した石英ガラス板のレンズ面に反射膜をコーティングして構成したことを特徴とする請求項1記載の露光装置。
- 前記反射板は、一部の前記光線が反射し残りの前記光線が透過するようにコーティングされていることを特徴とする請求項2または3記載の露光装置。
- 請求項1〜4のいずれか1項に記載の露光装置における自己洗浄方法であって、
前記通常の露光時には、前記露光マスクを前記原板ホルダに装着し、
前記光源から出力された前記光線を前記光学系により前記露光マスクに照射して前記投影レンズにより前記露光パターンを前記被処理物に投影し、
前記洗浄時には、前記露光マスクに代えて、前記反射板の表面側または裏面側が前記光学系に対向するように前記反射板を前記原板ホルダに装着し、
前記光源から出力された前記光線を前記光学系により前記反射板に照射し、前記表面側または前記裏面側の前記反射面で反射された前記光線を前記光学系に照射して、前記光学系を洗浄することを特徴とする自己洗浄方法。
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