JP4607316B2

JP4607316B2 - スピン処理装置

Info

Publication number: JP4607316B2
Application number: JP2000399159A
Authority: JP
Inventors: 敏土井
Original assignee: Shibaura Mechatronics Corp
Current assignee: Shibaura Mechatronics Corp
Priority date: 2000-12-27
Filing date: 2000-12-27
Publication date: 2011-01-05
Anticipated expiration: 2020-12-27
Also published as: JP2002192053A

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
この発明は回転させた基板に処理液を噴射して処理するスピン処理装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
たとえば、半導体装置や液晶表示装置の製造過程においては、半導体ウエハや矩形状のガラス板などの基板に回路パタ−ンを形成するための成膜プロセスやフォトプロセスがある。これらのプロセスでは、上記基板に対して薬品による薬液処理と純水による洗浄処理とが繰り返し行われる。
【０００３】
上記基板に対して処理を行なう場合、スピン処理装置が用いられている。スピン処理装置は基板を保持する回転テ−ブルを有し、この回転テ−ブルを高速回転させながら、上記基板に処理液を噴射することで、この基板を処理するようになっている。
【０００４】
回転テーブルに基板を保持する機構は、回転テーブルに複数の支持体を周方向に所定間隔で回転可能に支持し、各支持体には上端に支持体の回転中心から偏心した位置に保持部を設ける。
【０００５】
そして、回転テーブル上に基板を供給し、周辺部を支持体の上端面に係合させたならば、各支持体を回転させてそれぞれの保持部を偏心回転させることで、これらの保持部を基板の外周面に当接させ、基板を保持するようにしている。
【０００６】
従来、複数の支持体を同時に回転させるためには、歯車機構が用いられていた。つまり、回転テーブルの下面側に親歯車を設ける一方、各支持体の回転テーブルの下面側に突出した下端には上記親歯車に噛合する子歯車を設ける。そして、上記親歯車を回転させることで、子歯車とともに支持体を回転させ、各支持体の保持部で基板の外周面を保持するようにしていた。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、歯車機構によって支持体を回転させ、この支持体に設けられた保持部を基板の外周面に当接させる構成の場合、各支持体が同じ角度だけ回転したときに、それぞれの保持部が基板の外周面に当接するようにしている。
【０００８】
しかしながら、歯車機構によって複数の支持体を回転させる構成の場合、歯車の製作精度、親歯車と子歯車に生じるバックラッシュあるいは支持体の組み立て精度などによって親歯車を回転させたときに、この親歯車に噛合した子歯車を介してそれぞれの支持体の保持部を基板の外周面に同時に当接させることが難しい。
【０００９】
そのため、複数の支持体のうち、一部の支持体の保持部は基板の外周面に当接するものの、他の支持体の保持部は基板の外周面に当接しない状態で基板が保持されることになるため、基板の保持状態が安定しないということがあった。
【００１０】
たとえば、回転テーブルに６本の支持体が設けられている場合、基板はそのうちの３本の支持体の保持部によって保持されるが、残りの３本の支持体の保持部は基板の外周面に当接しないということがあるため、基板の保持状態が不安定になるということがあった。
【００１１】
この発明は、複数の支持体の保持部を基板の外周面に確実に当接させることができるようにしたスピン処理装置を提供することにある。
【００１３】
【課題を解決するための手段】
この発明は、基板を回転させながら処理液によって処理するスピン処理装置において、
回転テーブルと、
この回転テーブルを回転駆動する駆動手段と、
上記回転テーブルの周辺部に周方向に沿って所定間隔で回転可能に設けられた少なくとも３つ以上の支持体と、
各支持体の上端に回転中心から偏心して設けられ支持体の回転によって偏心回転することで上記基板の外周面に当接してこの基板を保持する保持部と、
上記回転テーブルの下面側に突出した上記支持体の下端に一端が取り付けられたレバーと、
上記回転テーブルに回転可能かつ回転テーブルと一体的に回転するよう設けられ外周面に上記レバーの他端に係合する係合アームが設けられていて、上記回転テーブルに対する回転を阻止して上記回転テーブルを所定方向に回転させることで上記係合アーム及び上記レバーを介して上記各支持体をそれぞれの保持部が基板の外周面に接近するロック方向と基板の外周面から離反する解除方向とに選択的に回転させる開閉筒体と、
この開閉筒体によって上記支持体を上記ロック方向に回転させたときにこの支持体を別々にロック方向に付勢してそれぞれの保持部を上記基板の外周面に弾性的に当接させる付勢手段を具備し、
上記付勢手段は、一端を上記レバーに連結し、他端を上記回転テーブルに連結して設けられ上記支持体を所定角度以上回転させたときに上記保持部が上記基板の外周面に弾性的に当接したロック状態から上記外周面から離れる開放状態になるよう上記支持体に対する付勢方向を反転させる捩りばねであることを特徴とするスピン処理装置にある。
【００１４】
請求項２の発明は、上記支持体は、回転中心を各支持体の保持部に保持される基板の外周面に一致させて設けられていることを特徴とする請求項１記載のスピン処理装置にある。
【００１６】
請求項３の発明は、複数の支持体のうちの、回転テーブルの周方向において隣り合う２つの支持体は、これらの保持部が基板の外周面に接触する位置で上記レバーが上記回転テーブルに設けられたロック側ストッパによってロック方向の回転が阻止されるようになっていて、この２つの支持体をロック方向に付勢した付勢手段の付勢力は、他の支持体をロック方向に付勢した付勢手段の付勢力よりも強く設定されていることを特徴とする請求項１記載のスピン処理装置にある。
【００１７】
請求項４の発明は、上記支持体のロック方向への回動は、反転した上記捩りばねの上記支持体に対する付勢力が零とならない位置でストッパによって阻止されることを特徴とする請求項１記載のスピン処理装置にある。
【００１８】
この発明によれば、支持体をそれぞれの保持部が基板の外周面に当接するロック方向に回転させたときに、各支持体を付勢手段によってロック方向に付勢し、それぞれの保持部を基板の外周面に弾性的に当接させるようにした。
【００１９】
つまり、各支持体が付勢手段によって別々にロック方向へ付勢されるため、各支持体の保持部を確実に基板の外周面に当接させることが可能となる。
【００２０】
また、支持体の回転中心を、この支持体の保持部によって保持される基板の外周面に一致させることで、付勢手段の付勢力によって基板の外周面に当接した保持部の保持力は基板の中心方向に向かう法線方向になるから、保持部に生じる保持力が無駄なく基板を保持する力として作用することになる。
【００２１】
また、２つの支持体の保持部によって基板が位置決めされ、しかも他の支持体の保持部は上記２つの支持体の保持部に対して基板を押し付けることになるから、各支持体の保持部を付勢手段の付勢力で基板の外周面に当接させる構成であっても、基板を所定の位置に精度よく位置決め保持することが可能となる。
【００２２】
また、付勢手段にねじりばねを用いてトグル機構を構成し、支持体をロック方向と解除方向へ弾性的に回転させるとともに、支持体のロック方向への回動を、ストッパによって上記ねじりばねの支持体に対する付勢力が零にならない位置で阻止するようにしたので、支持体の保持部を基板の外周面に緩やかに当接させることが可能となり、捩りばねのトグル作用によって保持部を基板の外周面に勢いよく当たるのを防止できる。
【００２３】
【発明の実施の形態】
以下、この発明の一実施の形態を図面を参照して説明する。
【００２４】
図１はこの発明のスピン処理装置を示す縦断面図であって、このスピン処理装置は回転テーブル１を備えている。この回転テーブル１は耐薬品性を有する、たとえばステンレスなどの金属や塩化ビニルなどの合成樹脂によって形成されている。つまり、回転テーブル１は、平面形状が円形で、下面が開放した中空状となっていて、径方向中心部には中央孔２が形成され、周辺部には周方向に所定間隔で複数、この実施の形態では６つの支持孔３が形成されている。
【００２５】
回転テーブル１の下面には下板４が接合されている。この下板４は中心部の上記中央孔２と対応する部分に第１の通孔５が形成され、支持孔３に対応する部分には、この支持孔３よりも小径な第２の通孔６が形成されている。
【００２６】
回転テーブル１の上面には、中央孔２の周辺部に段部７が形成され、この段部７には上面を回転テーブル１の上面と面一にした第１の上板８が周辺部を係合させて設けられ、この第１の上板８上には回転テーブル1とほぼ同じ大きさの第２の上板９が接合されている。第１の上板８と第２の上板９との中央部分にはそれぞれ第１の通孔８ａ，９ａが形成され、第２の上板９の周辺部には上記支持孔３と対応する第２の通孔９ｂが形成されている。
【００２７】
上記回転テーブル１の中央孔２の下端部内周には径方向内方に向かってフランジ部１１が設けられている。このフランジ部１１の下面には下板４を介して駆動筒体１２の上端がねじ１３によって連結固定されている。
【００２８】
上記駆動筒体１２の下端には駆動手段を構成するモータ１４の筒状の回転子１５の上端がリング部材１６を介してねじ１７によって連結固定されている。この回転子１５は固定子１８の内部に回転自在に支持されている。従って、モータ１４に通電されて回転子１５が回転駆動されれば、その回転によって回転テーブル１が回転するようになっている。
【００２９】
上記回転子１５の内部には固定軸２１が挿通されている。この固定軸２１の上端には上記回転テーブル１の中央孔２内に位置するノズルヘッド２２が設けられている。このノズルヘッド２２の上面にはすり鉢状の凹部２２ａが形成され、この凹部２２ａには、中央に気体の噴出口２３が開口形成され、周壁に複数の処理液の噴出口２４が開口形成されている。各噴出口２３，２４にはそれぞれ気体及び処理液の供給管２５が接続されている。
【００３０】
したがって、各噴出口２３，２４からは、上記第１の上板８と第２の上板９との第１の通孔８ａ，９ａを通じて回転テーブル１上に後述するごとく保持された半導体ウエハなどの基板Ｗの下面に向けて気体あるいは処理液を選択的に噴射することができるようになっている。
【００３１】
上記ノズルヘッド２２の下面周辺部には環状溝２６が形成され、上記中央孔２のフランジ１１には上記環状溝２６に挿入される環状壁２７が設けられている。それによって、噴出口２４から噴射されることで、基板Ｗの下面で反射してノズルヘッド２２の上面から環状壁２６の外側の空間部に滴下した処理液は、上記環状壁２７によって中央孔２内を通って回転テーブル１の下面側に流出するのが阻止される。
【００３２】
図４と図５に示すように、上記回転テーブル１の内部には周方向に沿って所定間隔で複数の補強リブ２８が設けられている。この補強リブ２８には上記環状壁２７の外周側の空間部と回転テーブル１の外周面とを連通する第１の排液孔２９が形成されている。
【００３３】
したがって、ノズルヘッド２２から環状壁２６の外側の空間部に滴下した処理液は上記第１の排液孔２９を通じて回転テーブル１の径方向外方に排出されるようになっている。
【００３４】
上記回転テーブル１の各支持孔３には支持体３１が回転可能に支持されている。つまり、支持体３１は、図１に示すように頭部３２及びこの頭部３２の下面に垂設された軸部３３とを有する。
【００３５】
上記支持孔３内にはシール筒体３４を介してハウジング３５が設けられ、このハウジング３５には上記軸部３３の上端部と下端部とがそれぞれ軸受３６によって回転可能に支持されている。
【００３６】
上記シール筒体３４の上端部には環状壁３７が設けられ、上記支持体３１の頭部３２の下面には上記環状壁３７が入り込む環状溝３８が形成されている。上記支持孔３と回転テーブル１の外面とは第２排液孔３９によって連通している。それによって、上記頭部３２と支持孔３との隙間から支持孔３内に浸入した処理液は上記第２の排液孔３９を通じて回転テーブル１の径方向外方に排出されるようになっている。
【００３７】
上記各支持体３１の頭部３２には、支持体３１の回転中心から所定寸法偏心した位置に、取付け孔４１が上面に開口して形成されている。この偏心量を図１にｅで示す。
【００３８】
上記取付け孔４１には支持ピン４２が回転不能な状態で装着されている。この支持ピン４２には、斜面４３及び斜面４３の上端に円形突起からなる保持部４４が形成されている。
【００３９】
上記保持部４４が支持体３１の回転中心よりも回転テーブル１の径方向外方に位置した状態で回転テーブル１上に上記基板Ｗが供給される。それによって、基板Ｗは周辺部の下面を上記支持ピン４２の斜面４３に係合させて保持される。
【００４０】
その状態で、上記支持体３１を回転させて支持ピン４２を偏心回転させると、基板Ｗは外周面が保持部４４の外周面に当接するまで斜面４３に沿って上昇する。それによって、基板Ｗは回転テーブル１の径方向にずれ動くことなく保持される。
【００４１】
上記支持体３１の軸部３３の下端部は回転テーブル１の下面側に突出している。この軸部３３の下端にはレバー５１の一端が取り付け固定されている。このレバー５１の他端にはローラ５２が回転自在に設けられている。
【００４２】
一方、上記モータ１４の回転子１５の上端に取り付けられた駆動筒体１２の外周面には、開閉筒体５３が軸受５４によって回転自在に取り付けられている。この開閉筒体５３には、周方向に所定間隔で６本の係合アーム５５が径方向外方に向かって突設されている。
【００４３】
各係合アーム５５の先端部にはＵ字状の係合溝５６が形成されていて、各係合溝５６には各レバー５１の他端に設けられたローラ５２が係合している。したがって、回転テーブル１に対して開閉筒体５３を相対的に回転させることで、その回転に係合アーム５５及びレバー５１を介して支持体３１が連動するようになっている。
【００４４】
上記開閉筒体５３と上記固定子１８との間には一対の引張りばね５７が張設されている。この引張りばね５７は上記開閉筒体５３を回転テーブル１に対して図２に矢印Ｚで示す回転方向に付勢している。上記引張りばね５７による開閉筒体５３の回転は、上記下板４に設けられたストッパ６０に係合アーム５５が係合することで規制されている。
【００４５】
図２は開閉筒体５３が引張りばね５７の付勢力に抗して矢印Ｙ方向へ相対的に回転させ、レバー５１を係合アーム５５によって矢印Ｚ方向と逆方向へ回動させた状態を示し、この状態においてはレバー５１が同図に実線で示す位置にあり、それによって支持体３１の保持部４４は同図に実線で示すように基板Ｗの外周面から離反している。この状態を解除状態とする。
【００４６】
解除状態から上記開閉筒体５３を回転テーブル１に対し上記引張りばね５７の付勢力によって矢印Ｙと逆方向へ相対的に回転させると、レバー５１は係合アーム５５によって図中矢印Ｚで示す方向へ回動する。それによって、上記保持部４４は図２に鎖線で示すように基板Ｗの外周面に当接する方向へ偏心回転する。保持部４４が基板Ｗの外周面に当接した状態をロック状態とする。
【００４７】
上記開閉筒体５３を回転テーブル１に対して相対的に回転させるには、図１に示すストッパピン５８が用いられる。このストッパピン５８はシリンダなどの駆動源５９によって上下駆動される可動部材５９ａに取り付けられている。ストッパピン５８を、駆動源５９によって同図に鎖線で示すように上昇位置に駆動すると、上記開閉筒体５３に設けられた係合アーム５５に係合する。
【００４８】
その状態でモータ１４の回転子１５を所定角度回転させれば、開閉筒体５３は回転せずに、上記回転子１５に駆動筒体１２を介して連結された回転テーブル１が回転することになるから、開閉筒体５３に対して回転テーブル５３が上記引張りばね５７の付勢力に抗して相対的に回転することになる。
【００４９】
図１に示すように、各レバー５１と回転テーブル１の下板４との間には、それぞれトグル機構を構成する捩りばね６２が設けられている。つまり、捩りばね６２は、一端を上記下板４に形成された第１の係合孔６３に挿入し、他端を上記レバー５１の中途部に形成された第２の係合孔６４に係合させて設けられている。
【００５０】
上記捩りばね６２は、支持体３１をレバー５１によって回転させることで、図３に実線で示す状態と鎖線で示す状態とに反転する。捩りばね６２が鎖線で示す状態においては、レバー５１は鎖線Ｌ_１で示す位置にあり、そのとき支持体３１の保持部４４は鎖線で示すように基板Ｗの外周面から離反した開放状態となっている。この状態では、捩りばね６２は開放方向に反転しきっているため、レバー５１を回転方向に付勢する力は有していない。
【００５１】
ストッパピン５８によって開閉筒体５３の回転を阻止して回転テーブル１を回転させることで、レバー５１を図３に実線で示す位置から鎖線で示すＬ _１の位置まで、矢印Ｘと逆方向に回転させると、上記捩りばね６２は復元力に抗して圧縮される。レバー５１を所定角度以上回転させると、捩りばね６２は同図に鎖線で示すように反転する。そのとき、支持体３１の保持部４４は鎖線で示すように基板Ｗの外周面から離れた開放状態となる。
【００５２】
レバー５１を鎖線Ｌ _１で示す位置から実線で示す位置へ回転させて捩りばね６２をロック方向へ反転させた場合、上記捩りばね６２にはレバー５１をロック方向へ回動させる付勢力がなくなるが、レバー５１は、実線で示す位置、つまり捩りばね６２に付勢力が残存する位置で、回転テーブル１に設けられたロック側ストッパ６５によって回動が阻止されるようになっている。
【００５３】
つまり、保持部４４を基板Ｗの外周面に当接させたロック状態において、捩りばね６２に残存する付勢力によってレバー５１はさらにロック方向へ付勢されることになるから、保持部４４は基板Ｗの外周面に弾性的に当接した状態で、この基板Ｗを保持することになる。
【００５４】
しかも、捩りばね６２がロック方向に反転しきらない状態で基板Ｗを保持するようにしたことで、保持部４４を基板Ｗの外周面に緩やかに当接させることができる。
【００５５】
つまり、捩りばね６２をロック方向に反転させて保持部４４を基板Ｗの外周面に当てるようにすると、保持部４４は捩りばね６２の反転力によって強く当たることになるから、基板Ｗの外周面に欠けが生じるようなことがある。しかしながら、捩りばね６２が反転しきる前に保持部４４を基板Ｗの外周面に当たるようにすれば、回転テーブル１と開閉筒体５３との相対的な回転を制御することで、上記保持部４４を基板Ｗの外周面に緩やかに当接させることが可能となる。
【００５６】
このように、６本の支持体３１の保持部４４を、捩りばね６２のトグル作用によって弾性的にロック方向へ偏心回転させる構成によれば、それぞれの保持部４４を別々に捩りばね６２の付勢力によって基板Ｗの外周面に当接させることができる。
【００５７】
そのため、６つの保持部４４は基板Ｗの外周面に確実に当接することになるから、基板Ｗは安定した状態で保持されることになる。つまり、６つの保持部４４を、従来のように歯車などを用いて機械的に連動させて位置決めする場合のように、わずかな加工や組み立て精度の誤差などによって６つの保持部４４のうちの一部だけによって基板Ｗを保持するという、保持状態の不安定化を招くことがない。
【００５８】
図２に示すように６つの支持体３１をＡ〜Ｆとすると、周方向において隣接する２つの支持体Ａ，Ｂは、これらの保持部４４がロック状態において回転テーブル１に保持される基板Ｗの外周面に接触する計算上の位置で、ロック側ストッパ６５によって位置決めされるように設定されている。
【００５９】
さらに、Ａ，Ｂ２つの支持体３１に設けられた捩りばね６２は、他の支持体Ｃ〜Ｆに設けられた捩りばね６２よりもばね力（付勢力）が強いものが用いられている。なお、Ｃ〜Ｆの支持体３１の保持部４４は、回転テーブル１に保持される基板Ｗの計算上の外周面に接触する位置よりも径方向内方で、しかも捩りばね６２が反転しきらない位置でロック側ストッパ６５によって変位が規制されるようになっている。
【００６０】
それによって、基板Ｗは、Ａ，Ｂ２つの支持体３１の保持部４４によって径方向に位置決めされ、その状態でＣ〜Ｆの４つの支持体３１の保持部４４が基板ＷをＡ，Ｂの支持体３１の保持部４４に押し付けることになるから、回転テーブル１上における基板Ｗの位置決めを精密に行なうことが可能となる。
【００６１】
Ａ，Ｂ２つの支持体３１に設けられた捩りばね６２の付勢力の総和は、Ｃ〜Ｆの４つの支持体３１に設けられた捩りばね６２の付勢力の総和よりも大きくなるよう設定されている。
【００６２】
それによって、Ａ、Ｂ２つの支持体３１の保持部４４によって位置決めされた基板Ｗは、Ｃ〜Ｆの４つの支持体３１の保持部４４に押圧されても、径方向に位置ずれすることがない。
【００６３】
なお、図３において６６は開放側ストッパである。この開放側ストッパ６６はレバー５１が鎖線Ｌ_１の位置にあるときに、このレバー５１が開放側に回転するのを防止している。
【００６４】
このように、回転テーブル１に複数の支持体３１を設け、各支持体３１に設けられた保持部４４を基板Ｗの外周面に当接させて基板Ｗを保持するスピン処理装置において、各支持体３１にトグル機構を構成する捩りばね６２を設け、この捩りばね６２が反転するときの付勢力で上記保持部４４を基板Ｗの外周面に当接させるようにした。
【００６５】
そのため、６つの保持部４４には、基板Ｗの外周面に当接するときの付勢力がそれぞれ捩りばね６２によって独立して与えられるから、回転テーブル１に基板Ｗを保持するとき、６つの保持部４４を確実に基板Ｗの外周面に当接させることができる。
【００６６】
つまり、基板Ｗを６つの保持部４４によって回転テーブル１に安定した状態で確実に保持することができるから、基板Ｗを処理液で処理する際に、回転テーブル１を高速度で回転させても、基板Ｗががたつくようなことがない。
【００６７】
基板Ｗの外周面に当接してこの基板Ｗを保持する保持部４４が設けられた支持体３１の回転中心を基板Ｗの外周面に一致させている。そのため、上記支持体３１の回転によって保持部４４を偏心回転させて基板Ｗの外周面に当接させると、この保持部４４によって基板Ｗを押圧する力の方向は、図３に矢印Ｓで示す基板Ｗとの接触点における法線方向、つまり、保持部４４は基板Ｗの外周面を、この基板Ｗの中心方向に向かって押圧する。
【００６８】
そのため、保持部４４が基板Ｗの外周面を押圧する力は、基板Ｗの保持力として無駄なく作用するから、そのことによっても基板Ｗを確実に保持することができるばかりか、保持部４４の保持力に無駄が生じないため、保持部４４に保持力を生じさせる、捩りばね６２の小型化を図ることが可能となる。
【００６９】
複数の支持体３１のうちの、回転テーブル１の周方向において隣り合う２つの支持体３１の保持部４４は、基板Ｗの外周面に接触する位置でロック方向への回転をロック側ストッパ６５によって規制するようにし、さらに、Ａ，Ｂ２つの支持体３１に設けられた捩りばね６２の強さを、残りのＣ〜Ｆの４つの支持体３１に設けられた捩りばね６２の強さよりも強くした。
【００７０】
そのため、基板Ｗは２つの支持体３１の保持部４４によって位置決めされた状態で、残りの４つの支持体３１の保持部４４によって押圧保持されることになるから、基板Ｗは精密に位置決めされて確実に保持される。
【００７１】
また、各支持体３１は、捩りばね６２が反転しきらずに、保持部４４をロック方向へ付勢する付勢力が残存する位置で、ロック方向への回転をロック側ストッパ６５によって規制している。
【００７２】
そのため、保持部４４により保持された基板Ｗには、捩りばね６２の付勢力が作用しているから、その付勢力によって基板Ｗを所定の保持力で確実に保持することができる。
【００７３】
さらに、捩りばね６２が反転し終わる前の状態で保持部４４を基板Ｗの外周面に当接させるため、回転テーブル１と開閉筒体５３との相対的な回転速度によって保持部４４を偏心回転させて基板Ｗの外周面に当接させることができる。つまり、保持部４４を基板Ｗの外周面に緩やかに当接させることができるから、基板Ｗの外周面に保持部４４が捩りばね６２の反転力によって勢いよく当たるのを防止できる。
【００７４】
回転テーブル１には、ノズルヘッド２２が設けられる中央孔２や支持体３１が設けられる支持孔３が形成され、これら中央孔２や支持孔３には処理液が入り込むことが避けられない。
【００７５】
しかしながら、上記回転テーブル１には、一端を中央孔２に連通し、他端を回転テーブル１の外周面に連通した第１の排液孔２９が形成され、さらには上記支持孔３と回転テーブル１の外周面とを連通する第２の排液孔３９が形成されているから、中央孔２や支持孔３に流入した処理液は回転テーブル１の外部へ確実に排出されることになる。つまり、処理液が回転テーブル１の下面側に流れてモータ１４などを損傷させるのを防止できる。
【００７６】
上記第１の排液孔２９は回転テーブル１の補強リブ２８に形成した。補強リブ２８は回転テーブル１の中空部内に径方向に沿って設けられている。そのため、回転テーブル１の径方向中心部分の中央孔２に流入する処理液を、上記補強リブ２８を利用して回転テーブル１の径方向外方へ流出させることができる。
【００７７】
上記一実施の形態では、回転テーブルに６つの支持体を設けた場合について説明したが、支持体の数は６つに限定されず、３つ以上であれば、上記一実施の形態と同様の作用効果を奏することができる。
【００７８】
また、支持体の保持部をロック方向に付勢する手段として捩りばねを用い、この捩りばねのトグル作用を利用して上記保持部を基板の外周面に当接させるようにしたが、捩りばねに代わり引張りばねによって保持部をロック方向に付勢するようにしてもよい。その場合、引張りばねはトグル機構を構成しないが、複数の保持部をそれぞれ引張りばねによって独立してロック方向に付勢できるようにすれば、複数の保持部の全てを基板の外周面に確実に当接させることが可能となるから、この発明の目的を達成することができる。
【００７９】
【発明の効果】
この発明によれば、支持体をそれぞれの保持部が基板の外周面に当接するロック方向に回転させたときに、各支持体を付勢手段によってそれぞれ別々にロック方向に付勢し、各支持体の保持部を基板の外周面に弾性的に当接させることができるようにした。
【００８０】
そのため、各保持部は付勢手段によって別々に付勢されて基板の外周面に当接するから、複数の保持部の全てを基板の外周面に確実に当接させることができる。つまり、複数の保持部の全てによって基板を保持できるから、基板の保持状態が確実となる。
【図面の簡単な説明】
【図１】この発明の一実施の形態を示すスピン処理装置の縦断面図。
【図２】同じく回転テーブルの概略的構成を説明するための図。
【図３】同じくレバーの動きと捩りばねの動きを説明するための図。
【図４】同じく回転テーブルの平面図。
【図５】同じく図４のＶ−Ｖ線に沿う断面図。
【符号の説明】
１…回転テーブル
１４…モータ（駆動手段）
３１…支持体
４４…保持部
５１…レバー
５３…開閉筒体（開閉手段）
６２…捩りばね（付勢手段）

Claims

基板を回転させながら処理液によって処理するスピン処理装置において、
回転テーブルと、
この回転テーブルを回転駆動する駆動手段と、
上記回転テーブルの周辺部に周方向に沿って所定間隔で回転可能に設けられた少なくとも３つ以上の支持体と、
各支持体の上端に回転中心から偏心して設けられ支持体の回転によって偏心回転することで上記基板の外周面に当接してこの基板を保持する保持部と、
上記回転テーブルの下面側に突出した上記支持体の下端に一端が取り付けられたレバーと、
上記回転テーブルに回転可能かつ回転テーブルと一体的に回転するよう設けられ外周面に上記レバーの他端に係合する係合アームが設けられていて、上記回転テーブルに対する回転を阻止して上記回転テーブルを所定方向に回転させることで上記係合アーム及び上記レバーを介して上記各支持体をそれぞれの保持部が基板の外周面に接近するロック方向と基板の外周面から離反する解除方向とに選択的に回転させる開閉筒体と、
この開閉筒体によって上記支持体を上記ロック方向に回転させたときにこの支持体を別々にロック方向に付勢してそれぞれの保持部を上記基板の外周面に弾性的に当接させる付勢手段を具備し、
上記付勢手段は、一端を上記レバーに連結し、他端を上記回転テーブルに連結して設けられ上記支持体を所定角度以上回転させたときに上記保持部が上記基板の外周面に弾性的に当接したロック状態から上記外周面から離れる開放状態になるよう上記支持体に対する付勢方向を反転させる捩りばねであることを特徴とするスピン処理装置。
上記支持体は、回転中心を各支持体の保持部に保持される基板の外周面に一致させて設けられていることを特徴とする請求項１記載のスピン処理装置。
複数の支持体のうちの、回転テーブルの周方向において隣り合う２つの支持体は、これらの保持部が基板の外周面に接触する位置で上記レバーが上記回転テーブルに設けられたロック側ストッパによってロック方向の回転が阻止されるようになっていて、この２つの支持体をロック方向に付勢した付勢手段の付勢力は、他の支持体をロック方向に付勢した付勢手段の付勢力よりも強く設定されていることを特徴とする請求項１記載のスピン処理装置。
上記支持体のロック方向への回動は、反転した上記捩りばねの上記支持体に対する付勢力が零とならない位置でストッパによって阻止されることを特徴とする請求項１記載のスピン処理装置。