JPH02138737A - 半導体ウエハの枚葉式スピン乾燥装置 - Google Patents

半導体ウエハの枚葉式スピン乾燥装置

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JPH02138737A
JPH02138737A JP2871688A JP2871688A JPH02138737A JP H02138737 A JPH02138737 A JP H02138737A JP 2871688 A JP2871688 A JP 2871688A JP 2871688 A JP2871688 A JP 2871688A JP H02138737 A JPH02138737 A JP H02138737A
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JP
Japan
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wafer
spin drying
center
main shaft
semiconductor wafer
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JP2871688A
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English (en)
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Hideo Tadokoro
田所 秀夫
Kazuya Sakurada
桜田 一弥
Yutaka Ichiki
市木 豊
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Oki Electric Industry Co Ltd
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Oki Electric Industry Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は、半導体製造工程における、ウェハ洗浄処理後
の水分除去を行う半導体ウェハの枚葉式スピン乾燥装置
に関するものである。
(従来の技術) 従来、半導体ウェハの乾燥は、第5図に示すような乾燥
装置を用いて行われている。この半導体ウェハ乾燥装置
は、外筒lで保持された主軸2の内部を減圧状態にして
、主軸2の先端部に設けられたバキュームカップ3に半
導体ウェハ4を吸着し、これを図示しないモーフで回転
させることにより遠心力で半導体ウェハ4の表面及び裏
面の水分を除去し、乾燥させている。
しかしながら、このような半導体ウェハ乾燥装置では、
表面は清浄に乾燥させることはできるが、裏面はバキュ
ームカップ3に吸着されているため、バキュームカップ
3の開口縁部の痕跡が残り、完全に清浄することができ
ない。
そこで、半導体ウェハの裏面も′清浄に乾燥させるため
に、以下のような乾燥装置が提案されている。
第6図はかかる従来の他の半導体ウェハの乾燥装置の構
成図であり、第6図(a)はその乾燥装置の平面図、第
6図(b)はその乾燥装置のb−b線断面図である。
図に示すように、駆動モータ(図示なし)に接続される
スピンドル軸10は外筒11内にポールヘアリング12
を介して同軸状に保持され、外筒11から突出したスピ
ンドル軸10の先端部にはフランジ13が取り付けられ
ている。フランジ13の周縁部には断面コ字形の環状溝
14が溝の開口部を周面から外部に向けて形成されてい
る。フランジ13の周縁部にはフランジ面と直方する方
向に6個の支持軸15がスピンドル軸10の軸心から放
射状に貫着されている。支持軸15にはウェハ固定腕1
6の一端部が回転自在に取付られている。鍾17は支持
軸15に回転自在に取り付けられている。6個のウェハ
固定腕16の下面には結合リング18で一体に連結され
ている。また、各々のウェハ固定腕16はフランジ13
とウェハ固定腕16間に架設されたスプリング19でス
ピンドル軸10の回転方向と逆方向に押圧されている。
ウェハ固定腕16の上面にはスピンドル軸10の中心に
向かって次第に低くなる階段上の段部16aが形成さ、
れている。対向するウェハ固定腕16の対応する段部1
6aには所定形状の半導体ウェハ20が載置できるよう
になっている。
そこで、ウェハ固定腕16の所定の段部に乾燥を行う半
導体ウェハ20を載置する。このとき各々のウェハ固定
腕16はスプリング19によってスピンドル軸10の回
転方向と逆方向に押圧されて各々の段部16aの間隔は
最大になっているので半導体ウェハ20を速やかに載置
することができる。
そこで、駆動モータによりスピンドル軸10を所定の速
度で回転させる。スピンドル軸10の回転に伴う遠心力
によって各々の錘17は支持軸15を中心にスピンドル
軸10から遠ざかるように働く。この錘17の動きによ
って各々のウェハ固定腕16も支持軸15を中心に回転
する。その結果、半導体ウェハ20は6個のウェハ固定
腕16によって締め付けられるようにして固定される。
つまり、半導体ウェハ20はその周側面の一部分だけを
ウェハ固定腕16に接触した状態で固定されて回転する
ので、スピンドル軸10の回転に伴う遠心力によって半
導体ウェハ20の表面及び裏面の水分は完全に除去され
る。
(発明が解決しようとする課題) しかしながら、上記した第2の先行技術である乾燥装置
によれば、スピンドル軸IOを中心にした半径方向に設
けられる長尺状のウェハ固定腕16、錘17及びスプリ
ング19が設けられるため、装置が大型化する。特に、
半導体ウェハの大口径化に伴い、その装置のウェハチャ
ック部は大型化せざるを得ない。また、繰り返し使用に
よる復元用スプリング1つの劣化により半導体ウェハの
取替が面倒になり、更には、ウェハはi!l!置するだ
けであり、ウェハが上方に浮いたり、不完全な半導体ウ
ェハの装着状態のまま乾燥装置を駆動するといった問題
があった。
本発明は、以上述べた問題点を除去し、半導体ウェハの
表面及び裏面を完全に清浄にすることができると共に、
ウェハチャック部をコンパクトで、かつ、堅牢に構成し
、しかもウェハの浮き上がりがなく、装着を確実に行い
得る半導体ウェハの枚葉式スピン乾燥装置を提供するも
のである。
(課題を解決するための手段) 第1の発明は、半導体ウェハの枚葉式スピン乾燥装置に
おいて、中心部に設けられる主軸の先端部に取り付けら
れたフランジ或いは前記主軸の先端部から放射状に延び
る少なくとも3個の固定腕と、その固定腕の外端部に断
面が■溝形をしたウェハ把持部を有する回転体の中心か
ら偏心した位置に回転軸及び主軸の回転に伴う遠心力に
より作動するレバーを有するウェハチャック手段を設け
るようにしたものである。
また、第2の発明は半導体ウェハの枚葉式スピン乾燥装
置において、中心部に設けられる主軸に接続され放射状
に延びる5個の固定腕と、該固定腕の外端部に断面が■
溝形をしたウェハ把持部を有する回転体の中心から偏心
した位置に回転軸及び主軸の回転に伴う遠心力により作
動する可動アームと該可動アームを前記回転軸の停止時
に原点位置に復帰させる捩りばねを配設するウェハチャ
ック手段を設けるようにしたものである。
(作用) 本発明によれば、上記したように、半導体ウェハの周側
面の一部分だけを把持した状態で乾燥することができる
と共に、ウェハチャック部は半導体ウェハの周縁部のみ
に配設するだけでよいので、半導体ウェハの表面及び裏
面を均一、かつ、十分に清浄化することができると共に
、ウェハチャック部をコンパクトに、しかも堅牢に構成
することができる。また、断面がV溝形をしたウェハ把
持部によってウェハの浮き上がりを抑えることができる
。更には、レバーの端部が錘の機能を果たし、ウェハチ
ャック忘れを確実に防止することができる。
また、ウェハチャック部を5箇所としたことで、ウェハ
のオリフラ位置に関係なく、回転中にウェハ中心を回転
チャック中心にセント可能となり、偏心の少ない回転が
得られる。更に、ウェハチャック部の開閉に捩りばねを
使用することで、ハネの塑性変形による破I員を防止で
きる。また、可動アームの形状をウェハチャック部がテ
ーブルの停止した状態で空気抵抗の大きい形状をとるこ
とにより、低速回転でも可動アームが作動し、ウェハチ
ャック部がウェハを確実に保持することができる。
(実施例) 以下、本発明の実施例について図面を参照しながら詳細
に説明する。
第1図は第1の発明の一実施例を示す半導体ウェハの枚
葉式スピン乾燥装置の平面図、第2図は第1図の■−■
線断面図である。
図中、30は主軸であり、この主軸は駆動モータ(図示
なし)に回転自在に接続されている。主軸30の先端部
にはフランジ形テーブル31が取り付けられている。こ
のテーブルの上面には、溝が形成されており、その溝に
はウェハ固定腕32が十字形に4木取り付けられている
。更に、固定腕32の端部上にはウェハチャック部A、
B、C,Dが設けられる。
以下、本発明のウェハチャック部の構成について説明す
る。
第3図は本発明のウェハチャック部の構成図であり、第
3図(a)はそのウェハチャック部の斜視図、第3図(
b)はそのウェハチャック部の側面図、第3図(c)は
そのウェハチャック部の上面図、第3図(d)はそのウ
ェハチャック部の部分構成図である。
これらの図に示されるように、支持軸35にレバー33
が回転自在に取り付けられ、そのレバー33の端部の上
方にはウェハ把持部34が設けられる。つまり、このウ
ェハ把持部は円錐面を有する下部部材34aと同様に逆
形状の円錐面を有する上部部材34bとが一体化されて
いる。更に、上部部材34bにはフラットな部分34c
が形成されている。従って、下部部材34aと上部部材
34bとによって、フラットな部分34Cを挾んで、そ
の両側には断面がV溝形をしたウェハ把持?134dが
形成される。
そこで、レバー33は主軸30の回転に伴う遠心力によ
り、主軸30の位置から遠ざかる方向に支持軸35を中
心にして回転する。その支持軸35はウェハチャック部
の円弧中心から偏心した位置に設けられているため、各
々のウェハチャック部の内接径が小さくなり半導体ウェ
ハ38(第1図及び第2図参照)の周側面の一部分をウ
ェハ把持溝34dによって締め付けて把持することがで
きる。また、ウェハ固定115i!32上にはストッパ
ー36.37が取り付けられており、レバー33の開閉
位置決めに使用する。
従って、レバー33が開の時にはフラットな部分34c
がウェハ固定腕32に対応するため、ウェハを容易に交
換することができる。なお、ウェハチャフ・千部は三弗
化塩化エチレン樹脂、フッ素樹脂などの材質からなる。
また、第3図(d)において、溝幅dは約5mm、上部
部材34bの外径Cは約30麓謹、下部部材34aの上
面の内径すは約20mmである。
なお、支持軸35は、第4図に示すように、ウェハ把持
部の中心線Cより下半分の斜線領域に設けることにより
、偏心させるようにすればよい。
以下、ウェハのスピン乾燥の動作の説明を行う。
4箇所のレバー33を矢印Fの方向に回転させる。
即ち、チャック部A及びBのレバー33は矢印Fの方向
に回転させて、ストッパー36に突き当てて、ウェハ固
定腕32にフラットな部分34cを対応させる。なお、
チャック部C及びDのレバー33は第1図の状態のまま
でよい。この状態で、半導体ウェハ38を載置すると、
その後、レバー33は閉の方向に戻しても良いし、開の
ままでも良い。
そこで、主軸30が回転すれば、遠心力により、レバー
33は自動的に閉の方向(F’の方向)に回転する。ス
ピン乾燥は3000rpmで15秒程行い、停止後各々
のレバー33を開の方向に回転させて、半導体ウェハ3
8を取り出す。
このように構成するために、チャック部は半導体ウェハ
の周縁部のみにコンパクトに配設するだけでよい。
また、半導体ウェハの浮き上がりはウェハ把持を薄34
dよって有効に阻止される。
更に、レバーは主軸の回転と共に、自動的にウェハを把
持する方向に作用するので、レバーの操作の有無にかか
わらず、確実なウェハのチャ、りを行うことができる。
次に、第2の発明について第7図乃至第9図を参照しな
がら説明する。
第7図は第2の発明の実施例を示す半導体ウェハの枚葉
式スピン乾燥装置の平面図であり、フランジ形テーブル
40に5本のウェハ固定腕41を等角に取り付ける。こ
のウェハ固定腕41の先端部には、第8図及び第9図に
示すように、支持軸42を設け、その支持軸42の上部
に偏心位置を支持されるウェハチャック部E、F、G、
H,I及びそのウェハチャックの下部に可動アーム43
が固定され、更に、その可動アーム43の下部に形成さ
れる穴には一端がウェハ固定腕41に、他端が可動アー
ム43に固定される捩りばね44が支持軸42を中心に
装着される。
なお、45はストッパーであり、チャック部の原点位置
と回転位置との位置決めを行う。また、可動アーム43
の先端部には直角状に曲げられた折曲部(例えば、長さ
WtO〜20嘗l、高さH5〜10−鳳)43aを具備
しており、その他のウェハチャック部の形状は前記した
ものと同様である。
このように、5本のウェハ固定腕41を等角に取り付け
るようにしているので、例えば、第7図に示すように、
ウェハチャック部1のウェハ固定腕41上にウェハのオ
リフラが設置されても、残り4木の固定腕41上のウェ
ハチャック部E、F、GHにより、テーブル中ノ0弓こ
ウェハ中心がセントされることになる。これにより、ウ
ェハキャリアからテーブル40ヘウエハの自動移載を行
う場合、オリフラによる位置調整を行う必要がなくなる
このメカチャック方式は、前記したように、半円形状の
ウェハチャック部の回転中心が偏心した位置にあり、約
606の回転でこの偏心量によりウェハを保持する機構
となっている。このウェハチャック部は可動アーム43
に固定されており、テーブル40全体の回転により可動
アーム43が遠心力をうけ外側へ開くと同時にウェハを
チャックするものである。
以下、この半導体ウェハの枚葉式スピン乾燥装置の動作
について説明する。
まず、5木のウェハ固定腕41の先端部のウェハチャッ
ク部は捩りばね44により原点位置にあり、ウェハキャ
リアからテーブル40ヘウエハの自動移載が行われる。
この場合、ウェハのオリフラ位置はどこにあっても良い
。この状態で、テーブル40が回転すると可動アーム4
3は遠心力により捩りばね44のばね力に抗して支持軸
42を中心として60’回転し、可動アーム43に固定
されたウェハチャック部の偏心量でウェハを保持する。
そして、テーブル40が停止すると、捩りばね44のば
ね力により可動アーム43が回転中心方向へ動き、ウェ
ハチャック部のウェハ保持が解除される。ここで、可動
アーム43は図に示す形状をとり、テーブル40の回転
始動時に可動アーム43のテーブル半径方向壁面にかか
る風圧により、可動アーム43が低速回転領域で始動す
る。また、可動アーム43が60″回転した状態では、
可動アーム壁面は回転方向に対しては空気抵抗を受は難
い位置にある。更に、可動アーム43には捩りばね44
が設けられるため、コンパクトに配置することができ、
引張バネなどを用いた場合に比して塑性変形をなくし、
バネ弛み防止用ガイドなどが不用になるので、2000
〜3000 rpmの高速回転中の空気抵抗を抑え、安
定した回転数が得られる。
なお、本発明は上記実施例に限定されるものではなく、
本発明の趣旨に基づいて種々の変形が可能であり、これ
らを本発明の範囲から排除するものではない。
(発明の効果) 以上、詳細に説明したように、本発明によれば、次のよ
うな効果を奏することができる。
(A)第1の発明によれば、 (1)半導体ウェハの周側面の一部分だけを把持した状
態で乾燥することができると共に、チャック部は半導体
ウェハの周縁部のみに配設するだけでよいので、半導体
ウェハの表面及び裏面を均一に、かつ、十分に清浄する
ことができると共に、ウェハチャンク部をコンパクトに
、しかも堅牢に構成することができる。
(2)半導体ウェハの浮き上がりは、ウェハ把持溝34
dよって有効に阻止され、ウェハの装着を確実に行うこ
とができる。
(3)レバーは、従来例における錘の作用を兼ねること
になり、主軸の回転と共に、自動的にウェハを把持する
方向に作用するので、レバーの操作の有無にかかわらず
、確実なウェハのチャックを行うことができる。
CB)第2の発明によれば、 (1)ウェハチャック部を5箇所としたことで、ウェハ
のオリフラ位置に関係なく、回転中にウェハ中心を回転
チャック中心にセット可能となり、偏心の少ない安定な
回転が得られる。
(2)ウェハチャック部の開閉に捩りばねを使用するこ
とで、コンパクトに配置することができると共に、バネ
の塑性変形による破を員を防止できる。
(3)可動アームの形状をウェハチャック部がテーブル
の停止した状態で空気抵抗の大きい形状をとることによ
り、低速回転でも可動アームを容易に作動することがで
き、ウェハチャック部によってウェハを確実に保持する
ことができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は第1の発明の一実施例を示す半導体ウェハの枚
葉式スピン乾燥装置の平面図、第2図は第1図のn−n
線断面図、第30は本発明のウェハチャック部の構成図
、第4図は本発明のウェハチャック部の支持軸の位置説
明図、第5図は従来の半導体ウェハの枚葉式スピン乾燥
’AMの断面図、第6図は従来の他の半導体ウェハの枚
葉式スピン乾燥装置の構成図、第7図は第2の発明の実
施例を示す半導体ウェハの枚葉式スピン乾燥装置の平面
図、第8図はそのウェハチャック部の平面図、第9図は
第8図のJ−J線断面間である。 30・・・主軸、31.40・・・フランジ形テーブル
、32゜41・・・ウェハ固定腕、A、B、C,D、E
、F、G。

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1) (a)中心部に設けられる主軸に接続され放射状に延び
    る少なくとも3個の固定腕と、 (b)該固定腕の外端部に断面がV溝形をしたウェハ把
    持部を有する回転体の中心から偏心した位置に回転軸及
    び主軸の回転に伴う遠心力により作動するレバーを有す
    るウェハチャック手段を具備することを特徴とする半導
    体ウェハの枚葉式スピン乾燥装置。
  2. (2) (a)中心部に設けられる主軸に接続され放射状に延び
    る5個の固定腕と、 (b)該固定腕の外端部に断面がV溝形をしたウェハ把
    持部を有する回転体の中心から偏心した位置に回転軸及
    び主軸の回転に伴う遠心力により作動する可動アームと
    該可動アームを前記回転軸の停止時に原点に復帰させる
    捩りばねを配設するウェハチャック手段を具備すること
    を特徴とする半導体ウェハの枚葉式スピン乾燥装置。
JP2871688A 1987-08-31 1988-02-12 半導体ウエハの枚葉式スピン乾燥装置 Pending JPH02138737A (ja)

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