JP4606969B2 - 写像投影型電子線式検査装置及びその方法 - Google Patents
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Description
該電子結像光学系によって結像された前記検査対象物の検査領域の合焦検査画像を検査
画像信号に変換して検出する検査画像検出センサ部と、該検査画像検出センサ部によって検出された検査画像信号を画像処理して検査対象物に形成された欠陥を検出する画像処理部とを備えた写像投影型電子線式検査装置及びその方法であって、前記検査領域の合焦検査画像を前記検査画像検出センサ部で検出するように前記対物レンズの焦点位置を制御する焦点位置制御部を更に備え、該焦点位置制御部は、焦点オフセットが互いに異なる複数の焦点位置において前記電子結像光学系によって結像された電子線像を画像信号に変換する合焦測度センサ部を有し、該合焦測度センサ部で変換された複数の画像信号から合焦測度を算出する合焦測度算出手段と、該合焦測度算出手段で算出された合焦測度を基に、前記電子結像光学系に関し前記対物レンズによる前記面状電子ビームの収束面と共役な共焦点面の高さを算出し、該算出された共焦点面の高さに基づいて前記検査領域の合焦検査画像を前記検査画像検出センサ部で検出するための前記対物レンズの焦点位置を算出する焦点位置算出手段と、 該焦点位置算出手段によって算出された対物レンズの焦点位置に応じて対物レンズの焦点位置を補正する焦点位置補正手段と、各種の複数のダイが配列された検査対象物について、複数のダイから収集されるグローバルオフセットマップGglobal(x,y)とダイ内ローカルオフセットマップGlocal(x,y)とからなるフォーカスマップを格納した記憶手段を有し、前記焦点位置算出手段は、前記検査対象物を移動して検査領域の先頭位置において、前記記憶手段に格納されたフォーカスマップの内、前記検査対象物に対応したフォーカスマップの値を合焦測度探索の初期値として設定し、該設定された合焦測度探索の初期値及び前記合焦測度算出手段で算出される合焦測度を基に前記検査領域での合焦測度の予測を行い、該合焦測度の予測に基づいて前記検査領域の合焦検査画像を前記画像検出部で検出するための対物レンズの焦点位置を算出するように構成したことを特徴とする。
(1)帯電しやすいサンプルの検査が可能になる。
(2)検査実行中の再フォーカス合わせによる検査時間の増大がない。
(3)帯電しやすいサンプルでの検査条件の設定が容易になる。
まず、本発明に係る写像投影型電子線式検査装置の第1の実施の形態について図1を用いて説明する。図1は、本発明に係る第1の実施の形態の構成を示す。第1の実施の形態は、大別して電子照射光学系11と、試料室12と、電子結像光学系13と、画像処理部14と、各種制御部(照射系偏向器105と結像系偏向器110とを制御する走査制御部151、対物レンズ106と焦点補正コイル1(119)と焦点補正コイル2(120)とを制御する焦点位置制御部152、ステージ108を制御するステージ制御部153、及び電源(電界発生手段)109を制御する電位制御部154を有する。)15と、各種制御部15及び画像処理部14等の全体を制御する全体制御部16とから構成される。
ここで、r0は入射角の拡がりで決まる分解能、βは最大入射半角、Zmは電子を引き戻す電界が生じている距離である。
α=X/(2f) (3)
(2)式及び(3)式から、例えば対物レンズ106の焦点距離fが10mmで面状ビームの大きさXを40μmとしたときは、クロスオーバの位置ずれΔfが10mm程度ずれても問題ない。これを前焦点面でのビーム直径に換算すると約40μmとなる。いずれにしろ、電子ビームのクロスオーバを対物レンズ106の前焦点面の近傍に配置させることで十分な分解能が得られることが分かる。
次に、本発明に係る写像投影型電子線式検査装置の第2の実施の形態について図3乃至図6を用いて説明する。図3はセンサ部200bを示す拡大図である。図4は各センサ部と検出領域との対応関係を示す図である。図5は、面状電子ビームの移動方向による各センサの動作の違いを示す図で、図5(a)は面状電子ビーム310の照射領域230を+方向、即ち試料107を−方向に移動した場合を示し、図5(b)は面状電子ビーム310の照射領域230を−方向、即ち試料107を+方向に移動した場合を示す。上記第2の実施の形態において、第1の実施の形態と相違する点は、図3及び図4(a)に示すように、センサ200bを、検査画像信号を検出するセンサ部210と、該センサ部210の両側に合焦測度検出用センサ部220a、220bとに分けて構成したことにある。さらに、センサ部210は、電子線像を蛍光に変換する蛍光板212、蛍光を導く光ファイバー束213及び蛍光を画像信号に変換するTDIセンサ部211によって構成される。合焦測度検出用センサ部220a;220bの各々は、段差付き蛍光板223a、224a;223b、224b、光ファイバ束225a、226a;225b、226b、及びラインセンサ1(221a)、ラインセンサ2(222a);ラインセンサ1’(221b)、ラインセンサ2’(222b)によって構成される。ラインセンサ1、2、1’、2’は、CCD等の1次元又は2次元のラインセンサで構成される。そして、段差付き蛍光板223a、224a;223b、224bの中間面(ラインセンサ1及び2並びに1’及び2’の合焦点面)が、センサ部(TDIセンサ)210としての蛍光板212の受光面である合焦点面(合焦位置:面状電子ビームの収束面と共役な共焦点面)として設定される。即ち、ラインセンサ1の受像面とラインセンサ2の受像面との中間面及びラインセンサ1’の受像面とラインセンサ2’の受像面との中間面が、検査画像信号を検出するセンサ部210の合焦点面に設定される。このように、ラインセンサ1及び2並びに1’及び2’は、焦点オフセットが互いに異なる複数の焦点位置を有することになる。なお、センサ部210とセンサ部220a、220bとの間には仕切りが設けられている。
S(i,j;x,y)は、光学式高さ検出センサ117で測定される各種試料毎の試料表面の高さ推定値である。
ただし、S(x+1)は次検査位置(x+1)での試料表面高さの推定値、Gglobal(x+1)は次検査位置(x+1)での試料内の帯電状態の違いなどによるグローバルな焦点オフセットの推定値、Glocal(x+1)は次検査位置(x+1)でのダイ内の帯電状態の違いによるローカルな焦点オフセットの推定値である。
そこで、全体制御部16は、上記処理時間遅れによって試料が走行されるため、図9に示すように、既検出位置(x)で検出して算出される合焦位置f(x)を基に、次検出位置(検査画像検出位置)(x+1)での合焦位置(試料表面の高さ)を予測することが必要となる。図9は、面状電子ビームがダイ内において、位置x0−x3(時刻t0−t3)まで走査方向に走査され、次に位置x4に走行されようとする状態を示す。このように、全体制御部16は、既検出位置(x)の段階で、次検出位置(x+1)における合焦位置(試料表面の高さ)を次のように外挿補間によって予測する。即ち、全体制御部16は、既検出位置(x)において測定した上記(3)式の値から外挿補間することによって、(1)次検出位置(x+1)における試料表面高さの推定値S(x+1)、(2)次検出位置(x+1)でのグローバルな焦点オフセット推定値Gglobal(x+1)、及び(3)次検出位置(x+1)でのローカルな焦点オフセットの推定値Glocal(x+1)を求め、上記(2)式に従って、次検出位置(x+1)での合焦位置を予測する。この予測によって、焦点位置制御部152は、次検出位置(検査画像検出位置)(x+1)において、例えば焦点補正コイル119、120を制御することによって、センサ部200は、合焦状態で検査画像を検出できることになる。
次に、本発明に係る写像投影型電子線式検査装置の第3の実施の形態について図10及び図11を用いて説明する。図10は全体構成とスリット部拡大とセンサ部拡大とを示す図である。図11は各センサ部と検出領域との対応関係を示す図である。
次に、本発明に係る写像投影型電子線式検査装置の第4の実施の形態について図12乃至図15を用いて説明する。図12はセンサ部200cを拡大して示す図である。図13は各センサ部と検出領域との対応関係を示す図である。図14は面状電子ビーム移動方向による合焦制御動作の違いを示した図である。図15はミラー電子によって負帯電欠陥及び正帯電欠陥を検出する原理についての説明図である。第5の実施の形態において、第2の実施の形態と相違する点は、図12及び図13(a)に示すように、センサ200cを、検査画像信号を検出するセンサ部210と、該センサ部210の両側に合焦測度検出用センサ部270a、270bとに分けて構成したことにある。さらに、センサ部210は、蛍光板212、光ファイバー束213及びTDIセンサ部211によって構成される。合焦点検出用センサ部270a;270bの各々は、段差付き蛍光板273a、274a;273b、274b、光ファイバ束275a、276a;275b、276b、及びラインセンサ1(271a)、ラインセンサ2(272a);ラインセンサ3(271b)、ラインセンサ4(272b)によって構成される。そして、段差付き蛍光板273a、274aの中間面291は、センサ部(TDIセンサ)210としての蛍光板212の受像面290から正方向にシフトされ、段差付き蛍光板273b、274bの中間面292は、センサ部(TDIセンサ)210としての蛍光板212の受光面290から負方向にシフトされて形成される。このように、ラインセンサ1及び2並びに3及び4は、焦点オフセットが互いに異なる複数の焦点位置を有することになる。なお、281aはラインセンサ1(271a)の検出領域、282aはラインセンサ2(272a)の検出領域、281bはラインセンサ3(271b)の検出領域、282bはラインセンサ4(272b)の検出領域を示す。250はTDIセンサ(211)の検出領域を示す。
次に、本発明に係る写像投影型電子線式検査装置の第5の実施の形態について図17乃至図20を用いて説明する。図17は全体構成を示し、更にセンサ部200dを拡大して示す図である。図18は各センサ部の検出領域を示す図である。図19はミラー電子を検出する場合の各センサ部の合焦位置を示す図である。図20は合焦位置の算出フォローを示す図である。
次に、本発明に係る写像投影型電子線式検査装置の第6の実施の形態について図21を用いて説明する。第6の実施の形態において、第5の実施の形態と相違する点は、センサ部200eとして、受光面が連続的に変化する複数の1次元または2次元のCCD等のラインセンサ部1(511)、2(512)、3(513)を並べて構成し、受光面である蛍光板212を傾斜させたことにある。510は1次元または2次元のCCD等のラインセンサであり、213は光ファイバ束によって構成される。従って、ラインセンサ部1〜3に亘る各ラインセンサからは連続して合焦位置を変えた電子線像信号が得られることになる。従って、既検査領域(既検出位置)(x)での合焦位置を正確に算出することが可能となる。
Claims (4)
- 電子源からの電子ビームを面状電子ビームとして対物レンズにより収束させて検査対象
物の表面に照射する電子照射光学系と、
該電子照射光学系により照射された面状電子ビームを前記検査対象物の表面付近から引
き戻すような電界を発生させる電界発生手段と、
該電界発生手段により発生した電界により前記検査対象物の表面付近から引き戻された
電子を電子線像として結像させる電子結像光学系と、
該電子結像光学系によって結像された前記検査対象物の検査領域の合焦検査画像を検査
画像信号に変換して検出する検査画像検出センサ部と、
該検査画像検出センサ部によって検出された検査画像信号を画像処理して検査対象物に
形成された欠陥を検出する画像処理部とを備えた写像投影型電子線式検査装置であって、
前記検査領域の合焦検査画像を前記検査画像検出センサ部で検出するように前記対物レ
ンズの焦点位置を制御する焦点位置制御部を更に備え、該焦点位置制御部は、
焦点オフセットが互いに異なる複数の焦点位置において前記電子結像光学系によって結
像された電子線像を画像信号に変換する合焦測度センサ部を有し、該合焦測度センサ部で
変換された複数の画像信号から合焦測度を算出する合焦測度算出手段と、
該合焦測度算出手段で算出された合焦測度を基に、前記電子結像光学系に関し前記対物
レンズによる前記面状電子ビームの収束面と共役な共焦点面の高さを算出し、該算出され
た共焦点面の高さに基づいて前記検査領域の合焦検査画像を前記検査画像検出センサ部で
検出するための前記対物レンズの焦点位置を算出する焦点位置算出手段と、
該焦点位置算出手段によって算出された対物レンズの焦点位置に応じて対物レンズの焦
点位置を補正する焦点位置補正手段と、
各種の複数のダイが配列された検査対象物について、複数のダイから収集されるグローバルオフセットマップGglobal(x,y)とダイ内ローカルオフセットマップGlocal(x,y)とからなるフォーカスマップを格納した記憶手段を有し、
前記焦点位置算出手段は、前記検査対象物を移動して検査領域の先頭位置において、前
記記憶手段に格納されたフォーカスマップの内、前記検査対象物に対応したフォーカスマ
ップの値を合焦測度探索の初期値として設定し、該設定された合焦測度探索の初期値及び
前記合焦測度算出手段で算出される合焦測度を基に前記検査領域での合焦測度の予測を行
い、該合焦測度の予測に基づいて前記検査領域の合焦検査画像を前記画像検出部で検出す
るための対物レンズの焦点位置を算出するように構成したことを特徴とする写像投影型電子線式検査装置。 - 電子源からの電子ビームを面状電子ビームとして対物レンズにより収束させて検査対象
物の表面に照射する電子照射光学系と、
該電子照射光学系により照射された面状電子ビームを前記検査対象物の表面付近から引
き戻すような電界を発生させる電界発生手段と、
該電界発生手段により発生した電界により前記検査対象物の表面付近から引き戻された
電子を電子線像として結像させる電子結像光学系と、
該電子結像光学系によって結像された前記検査対象物の検査領域の合焦検査画像を検査
画像信号に変換して検出する検査画像検出センサ部と、
該検査画像検出センサ部によって検出された検査画像信号を画像処理して検査対象物に
形成された欠陥を検出する画像処理部とを備えた写像投影型電子線式検査装置であって、
前記検査領域の合焦検査画像を前記検査画像検出センサ部で検出するように前記対物レ
ンズの焦点位置を制御する焦点位置制御部を更に備え、該焦点位置制御部は、
焦点オフセットが互いに異なる複数の焦点位置において前記電子結像光学系によって結
像された電子線像を画像信号に変換する合焦測度センサ部を有し、該合焦測度センサ部で
変換された複数の画像信号から合焦測度を算出する合焦測度算出手段と、
該合焦測度算出手段で算出された合焦測度を基に、前記電子結像光学系に関し前記対物
レンズによる前記面状電子ビームの収束面と共役な共焦点面の高さを算出し、該算出され
た共焦点面の高さに基づいて前記検査領域の合焦検査画像を前記検査画像検出センサ部で
検出するための前記対物レンズの焦点位置を算出する焦点位置算出手段と、
該焦点位置算出手段によって算出された対物レンズの焦点位置に応じて対物レンズの焦
点位置を補正する焦点位置補正手段とを備え、
前記検査画像検出センサ部及び前記合焦測度センサ部が、前記検査対象物の最表面付近
の等電位面から反射するミラー電子像を検出する場合、前記検査画像検出センサ部の合焦
点面と前記合焦測度センサ部の合焦点面との間でシフトさせ、前記検査画像検出センサ部
を負帯電欠陥又は正帯電欠陥の合焦点面に合わせることを特徴とする写像投影型電子線式検査装置。 - 電子照射光学系により面状電子ビームを対物レンズにより収束させて検査対象物の表面
に照射する電子照射ステップと、
該電子照射ステップで照射された面状電子ビームを前記検査対象物の表面付近から引き
戻すような電界を発生させる電界発生ステップと、
該電界発生ステップで発生した電界により前記検査対象物の表面付近から引き戻された
電子を電子結像光学系により電子線像として結像させる電子結像ステップと、
該電子結像ステップで結像された前記検査対象物の検査領域の合焦検査画像を検査画像
検出センサ部で検査画像信号に変換して検出する検査画像検出ステップと、
該検査画像検出ステップで検出された検査画像信号を画像処理して検査対象物に形成さ
れた欠陥を検出する画像処理ステップとを有する写像投影型電子線式検査方法であって、
前記検査領域の合焦検査画像を前記検査画像検出センサ部で検出するように前記対物レ
ンズの焦点位置を制御する焦点位置制御ステップを更に有し、該焦点位置制御ステップは
、
焦点オフセットが互いに異なる複数の焦点位置において前記電子結像光学系によって結
像された電子線像を合焦測度センサ部で受像して画像信号に変換する合焦測度測定ステッ
プを含み、前記合焦測度センサ部で変換された複数の画像信号から合焦測度を算出する合
焦測度算出ステップと、
該合焦測度算出ステップで算出された合焦測度を基に、前記電子結像光学系に関し前記
対物レンズによる前記面状電子ビームの収束面と共役な共焦点面の高さを算出し、該算出
された共焦点面の高さに基づいて前記検査領域の合焦検査画像を前記画像検出部で検出す
るための対物レンズの焦点位置を算出する焦点位置算出ステップと、
該焦点位置算出ステップによって算出された対物レンズの焦点位置に応じて対物レンズ
の焦点位置を補正する焦点位置補正ステップと、
各種の複数のダイが配列された検査対象物について、複数のダイから収集されるグローバルオフセットマップGglobal(x,y)とダイ内ローカルオフセットマップGlocal(x,y)とからなるフォーカスマップを記憶手段に格納しておく格納ステップを含み、
前記焦点位置算出ステップは、更に、前記検査対象物を移動して検査領域の先頭位置に
おいて、前記記憶手段に格納されたフォーカスマップの内、前記検査対象物に対応したフ
ォーカスマップの値を合焦測度探索の初期値として設定し、該設定された合焦測度探索の
初期値及び前記合焦測度算出ステップで算出される合焦測度を基に前記検査領域での合焦
測度の予測を行い、該合焦測度の予測に基づいて前記検査領域の合焦検査画像を前記画像
検出部で検出するための対物レンズの焦点位置を算出することを特徴とする写像投影型電子線式検査方法。 - 電子照射光学系により面状電子ビームを対物レンズにより収束させて検査対象物の表面
に照射する電子照射ステップと、
該電子照射ステップで照射された面状電子ビームを前記検査対象物の表面付近から引き
戻すような電界を発生させる電界発生ステップと、
該電界発生ステップで発生した電界により前記検査対象物の表面付近から引き戻された
電子を電子結像光学系により電子線像として結像させる電子結像ステップと、
該電子結像ステップで結像された前記検査対象物の検査領域の合焦検査画像を検査画像
検出センサ部で検査画像信号に変換して検出する検査画像検出ステップと、
該検査画像検出ステップで検出された検査画像信号を画像処理して検査対象物に形成さ
れた欠陥を検出する画像処理ステップとを有する写像投影型電子線式検査方法であって、
前記検査領域の合焦検査画像を前記検査画像検出センサ部で検出するように前記対物レ
ンズの焦点位置を制御する焦点位置制御ステップを更に有し、該焦点位置制御ステップは
、
焦点オフセットが互いに異なる複数の焦点位置において前記電子結像光学系によって結
像された電子線像を合焦測度センサ部で受像して画像信号に変換する合焦測度測定ステッ
プを含み、前記合焦測度センサ部で変換された複数の画像信号から合焦測度を算出する合
焦測度算出ステップと、
該合焦測度算出ステップで算出された合焦測度を基に、前記電子結像光学系に関し前記
対物レンズによる前記面状電子ビームの収束面と共役な共焦点面の高さを算出し、該算出
された共焦点面の高さに基づいて前記検査領域の合焦検査画像を前記画像検出部で検出す
るための対物レンズの焦点位置を算出する焦点位置算出ステップと、
該焦点位置算出ステップによって算出された対物レンズの焦点位置に応じて対物レンズ
の焦点位置を補正する焦点位置補正ステップとを有し、
前記検査画像検出ステップにおいて検出する前記検査画像検出センサ部が、前記検査対
象物の最表面付近の等電位面から反射するミラー電子像を検出する場合、前記検査画像検
出センサ部を負帯電欠陥又は正帯電欠陥の合焦点面に合わせることを特徴とする写像投影型電子線式検査方法。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005236305A JP4606969B2 (ja) | 2005-08-17 | 2005-08-17 | 写像投影型電子線式検査装置及びその方法 |
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JP2005236305A JP4606969B2 (ja) | 2005-08-17 | 2005-08-17 | 写像投影型電子線式検査装置及びその方法 |
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---|---|
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